光敏印章机的曝光结构制造技术

一种光敏印章机的曝光结构，由曝光盒、曝光仓、曝光灯组成；其特征在于：曝光盒包括面板、感光玻璃、环形框架、衬板、弹簧、底板，底板固定在环形框架的底部，底板上放置有弹簧，弹簧上置有衬板，弹簧和衬板均设于环形框架之内，环形框架内形成一空间；感光玻璃固定在面板上，并与环形框架活动相连。（*该技术在2012年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种光敏印章机，特别是关于光敏印章机的曝光结构。现有产品采用加压手柄1′带动压力丝杆2′和压力板4′移动来压紧光敏印垫和样稿，费时费力，采用手工操作方式放入曝光仓中，效率较低，而且曝光仓的密闭性较差，强散射光易外泄，工作环境恶劣。本技术是这样实现的，光敏印章机的曝光结构，由曝光盒、曝光仓、曝光灯组成；曝光盒包括面板、感光玻璃、环形框架、衬板、弹簧、底板，底板固定在环形框架的底部，底板上放置有弹簧，弹簧上置有衬板，弹簧和衬板均设于环形框架之内，环形框架内形成一空间；感光玻璃固定在面板上，并与环形框架活动相连。上述的曝光盒放置在曝光仓中，曝光仓设在导轨上，曝光仓由电机驱动。上述的曝光仓和曝光灯四周形成一封闭空间。这样当把面板向下扣紧时，放置在衬板上的光敏印垫和样稿自动压紧在感光玻璃上，而无需人工去逐步加压，大大地提高了生产效率；而由于曝光仓设在导轨上，能把放在曝光仓中的曝光盒自动送入设定的位置进行曝光，方便使用，另外，在曝光仓和曝光盒四周形成一封闭的空间，防止强散光外泻，改善了工作环境，有利于操作者的健康。图2是本技术曝光盒的产品分解图。图3是本技术曝光盒的结合装配图。图4是本技术侧剖面的结构示意图。图5是本技术横剖面的结构示意图。如图4、5所示，上述的曝光盒1放置在一个曝光仓8上，曝光仓8设在导轨9上，曝光仓8通过导轨9由电机10传动驱动。这样，需曝光时，电机10可以带动导轨9把曝光仓8拉出，把带有样稿的光敏印垫放置在曝光盒1内，然后，曝光盒1通过定位结构放置在曝光仓8设定的位置上；曝光仓8通过电机10带动导轨9进行移动，而电机可由电路进行控制，来设定曝光仓8的行程，可把曝光仓8移到与曝光灯11相应设定的位置进行曝光。曝光仓8和曝光灯11四周都有壁12，形成一封闭的空间，避免强散光外泻，另有一曲折的通道与外部相连，进行排风散热。这样当把面板3向下扣紧时，放置在衬板5上的光敏印垫和样稿自动压紧在感光玻璃2上，而无需人工去逐步加压，也大大地提高了生产效率；而由于曝光仓8设在导轨9上，能把放在曝光仓8中的曝光盒1自动送入设定的位置进行曝光，方便使用，另外，在曝光仓8和曝光灯11四周形成一封闭的空间，防止强散光外泻，改善了工作环境，有利于操作者的健康。权利要求1.一种光敏印章机的曝光结构，由曝光盒、曝光仓、曝光灯组成；其特征在于曝光盒包括面板、感光玻璃、环形框架、衬板、弹簧、底板，底板固定在环形框架的底部，底板上放置有弹簧，弹簧上置有衬板，弹簧和衬板均设于环形框架之内，环形框架内形成一空间；感光玻璃固定在面板上，并与环形框架活动相连。2.如权利要求1所述的一种光敏印章机的曝光结构，其特征在于曝光盒放置在曝光仓中，曝光仓设在导轨上，曝光仓由电机驱动。3.如权利要求1或2所述的一种光敏印章机的曝光结构，其特征在于上述的曝光仓和曝光灯四周形成一封闭空间。专利摘要光敏印章机的曝光结构，由曝光盒、曝光仓、曝光灯组成；曝光盒包括面板、感光玻璃、环形框架、衬板、弹簧、底板，底板固定在环形框架的底部，底板上放置有弹簧，弹簧上置有衬板，弹簧和衬板均设于环形框架之内，环形框架内形成一空间；感光玻璃固定在面板上，并与环形框架活动相连。曝光盒放置在曝光仓中，曝光仓设在导轨上，曝光仓由电机驱动。曝光仓和曝光灯四周形成一封闭空间。这样当把面板向下扣紧时，放置在衬板上的光敏印垫和样稿自动压紧在感光玻璃上，而无需人工去逐步加压，大大地提高了生产效率；而由于曝光仓设在导轨上，能把放在曝光仓中的曝光盒自动送入设定的位置进行曝光，方便使用，另外，在曝光仓和曝光盒四周形成一封闭的空间，防止强散光外泻，改善了工作环境，有利于操作者的健康。文档编号B41K1/00GK2553999SQ02263318公开日2003年6月4日 申请日期2002年7月22日 优先权日2002年7月22日专利技术者黄水惠, 罗锦禧 申请人:黄水惠本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：黄水惠，罗锦禧，
申请(专利权)人：黄水惠，
类型：实用新型
国别省市：