层叠薄膜的制造方法技术

本发明专利技术涉及层叠薄膜的制造方法，该方法具有：露出工序，在含有金属氧化物粒子的硬涂层的表面，使金属氧化物粒子露出；及成膜工序，在所述硬涂层的金属氧化物粒子露出面形成密合层，所述密合层包含具有与所述金属氧化物粒子同种的金属的缺氧态金属氧化物或与所述金属氧化物粒子同种的金属；所述露出工序中，对硬涂层的表面进行蚀刻，所述蚀刻后的硬涂层表面的算术平均粗糙度Ra为2nm以上12nm以下。由此，密合层与硬涂层的树脂坚固地附着，并且与露出的金属氧化物粒子更加牢固地附着，因此能够获得优异的密合性。得优异的密合性。得优异的密合性。

【技术实现步骤摘要】
层叠薄膜的制造方法
[0001]本申请是原申请的申请日为2016年5月27日，申请号为201680028850.X，专利技术名称为《层叠薄膜及层叠薄膜的制造方法》的中国专利申请的分案申请。


[0002]本专利技术涉及有机层与无机层的密合性优异的层叠薄膜及层叠薄膜的制造方法。本申请主张以在日本于2015年5月27日提出的日本专利申请号日本特愿2015-107978及在日本于2016年5月26日提出的日本专利申请号日本特愿2016-105680为基础的优先权，此申请通过参照而被引用至本申请。

技术介绍

[0003]作为层叠薄膜的一例，可以举出在表面硬度比较高的硬涂层上形成了利用干式工艺的AR(抗反射，Anti-Reflective)层的防反射膜(例如，参照专利文献1。)。
[0004]然而，硬涂层是有机层，AR层是无机层，因此难以获得优异的密合性。
[0005]现有技术文献
[0006]专利文献
[0007]专利文献1：日本特开平11-218603号公报

技术实现思路

[0008]专利技术所要解决的课题
[0009]本专利技术是鉴于这样的以往的实际情况而提出的，提供有机层与无机层之间的密合性优异的层叠薄膜及层叠薄膜的制造方法。
[0010]用于解决课题的方法
[0011]本专利技术人进行了深入研究，结果发现：通过在含有金属氧化物粒子的硬涂层的表面使金属氧化物粒子露出，在其表面成膜包含与金属氧化物粒子同种的缺氧态金属氧化物或金属的密合层，从而有机层与无机层之间的密合性显著提高。
[0012]即，本专利技术的层叠薄膜的特征在于，具备：表面露出有金属氧化物粒子的硬涂层；和在上述硬涂层的金属氧化物粒子露出面成膜且包含具有与上述金属氧化物粒子同种的金属的缺氧态金属氧化物或与上述金属氧化物粒子同种的金属的密合层。
[0013]此外，本专利技术的层叠薄膜的制造方法的特征在于，具有：露出工序，在含有金属氧化物粒子的硬涂层的表面使金属氧化物粒子露出；及成膜工序，在上述硬涂层的金属氧化物粒子露出面形成密合层，所述密合层包含具有与上述金属氧化物粒子同种的金属的缺氧态金属氧化物或与上述金属氧化物粒子同种的金属。
[0014]专利技术效果
[0015]根据本专利技术，由于密合层坚固地附着于硬涂层的树脂，并且更加牢固地附着于露出的金属氧化物粒子，因此能够获得优异的密合性。
附图说明
[0016][图1]图1是示意性表示本实施方式的露出有金属氧化物粒子的硬涂层的截面图。
[0017][图2]图2是示意性表示本实施方式的层叠薄膜的截面图。
[0018][图3]图3是示意性表示应用本专利技术后的防反射膜的截面图。
[0019][图4]图4是表示划格试验(cross-hatch test)的评价例的照片，图4(A)表示未发生剥离的情况，图4(B)表示一部分发生剥离的情况，图4(C)表示全部发生剥离的情况。
[0020][图5]图5(A)是实施例3的TEM截面的照片，图5(B)是比较例1的TEM截面的照片。
[0021]符号说明
[0022]10硬涂层、11金属氧化物粒子、12密合层、20功能层、30基材、40防反射层、50防污层。
具体实施方式
[0023]以下，关于本专利技术的实施方式，一边参照附图一边按下述顺序详细说明。
[0024]1.层叠薄膜
[0025]2.防反射膜
[0026]3.层叠薄膜的制造方法
[0027]4.实施例
[0028]＜1.层叠薄膜＞
[0029]图1是示意性表示本实施方式的露出有金属氧化物粒子的硬涂层的截面图，图2是示意性表示本实施方式的层叠薄膜的截面图。本实施方式的层叠薄膜具备：表面露出有金属氧化物粒子11的硬涂层10；和在硬涂层10的金属氧化物粒子露出面成膜且包含具有与金属氧化物粒子11同种的金属的缺氧态金属氧化物或与金属氧化物粒子11同种的金属的密合层12。此外，进一步具备在密合层12上成膜且包含无机层的功能层20。通过这样的构成，密合层12坚固地附着于硬涂层10的树脂，并且进一步牢固地附着于露出的金属氧化物粒子11，因此能够提高硬涂层10与密合层12的密合性，使层叠薄膜的耐擦伤性提高。
[0030][硬涂层][0031]关于硬涂层10，金属氧化物粒子11被分散在树脂材料中，且金属氧化物粒子11在表面露出。作为硬涂层10的树脂材料，例如，可以举出紫外线固化型树脂、电子射线固化型树脂、热固型树脂、热塑型树脂、二液混合型树脂等。其中，优选使用能够通过紫外线照射而高效地形成硬涂层10的紫外线固化型树脂。
[0032]作为紫外线固化型树脂，例如，可以举出丙烯酸系、氨基甲酸酯系、环氧系、聚酯系、酰胺系、有机硅系等。其中，例如将层叠薄膜用于光学用途时，优选使用可获得高透明性的丙烯酸系。
[0033]丙烯酸系的紫外线固化型树脂没有特别限定，可以考虑硬度、密合性、加工性等而从二官能、三官能以上的多官能的丙烯酸系单体、低聚物、聚合物成分等中适宜选择来配合。此外，紫外线固化型树脂中配合光聚合引发剂。
[0034]作为二官能丙烯酸酯成分的具体例，可以举出聚乙二醇(600)二丙烯酸酯、二羟甲基-三环癸烷二丙烯酸酯、双酚AEO改性二丙烯酸酯、1,9-壬二醇二丙烯酸酯、1,10-癸二醇二丙烯酸酯、丙氧基化双酚A二丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯、二乙二醇二丙烯酸
酯、新戊二醇二丙烯酸酯、1,4-丁二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇(200)二丙烯酸酯、四乙二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇(400)二丙烯酸酯、环己烷二甲醇二丙烯酸酯等。作为市场上可获得的具体例，可以举出例如沙多玛(株)的商品名“SR610”等。
[0035]作为三官能以上丙烯酸酯成分的具体例，可以举出季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)、甲基丙烯酸2-羟基-3-丙烯酰氧基丙酯、异氰脲酸EO改性三丙烯酸酯、ε-己内酯改性三-(2-丙烯酰氧乙基)异氰脲酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(TMPTA)、ε-己内酯改性三(丙烯酰氧乙基)丙烯酸酯等。作为市场上可获得的具体例，可以举出例如沙多玛的商品名“CN968”、沙多玛的商品名“SR444”等。
[0036]作为光聚合引发剂的具体例，例如，可以举出烷基苯酮系光聚合引发剂、酰基氧化膦系光聚合引发剂、二茂钛系光聚合引发剂等。作为市场上可获得的具体例，可以举出1-羟基环己基苯基酮(IRGACURE184、巴斯夫(BASF)日本(株))等。
[0037]此外，为了使平滑性提高，丙烯酸系的紫外线固化型树脂优选含有流平剂。作为流平剂的具体例，例如，可以举出有机硅系流平剂、氟系流平剂、丙烯酸系流平剂等，可以使用它们中的一种或两种以上。其中，从涂膜性的观点考虑，优选使用有机硅系流平剂。作为市场上可获得的具体例，可以举出例如毕克化学日本(株)的商品名“BYK337”(聚醚改性聚二甲基硅氧烷)等。
[0038]此外，丙烯酸系的紫外线固化型树脂中所使用的溶本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种层叠薄膜的制造方法，具有：露出工序，在含有金属氧化物粒子的硬涂层的表面，使金属氧化物粒子露出；及成膜工序，在所述硬涂层的金属氧化物粒子露出面形成密合层，所述密合层包含具有与所述金属氧化物粒子同种的金属的缺氧态金属氧化物或与所述金属氧化物粒子同种的金属，所述露出工序中，对硬涂层的表面进行蚀刻，所述蚀刻后的硬涂层表面的算术平均粗糙度Ra为2nm以上12nm以下。2.根据权利要求1所述的层叠薄膜的制造方法，所述硬涂层表面所露出的金属氧化物粒子的相对于平均粒径的突出比例的平均值为60％以下。3.根据权利要求1所述的层叠薄膜的制造方法，所述硬涂层表面所露出的金属氧化物粒子的相对于平均粒径的突出比例的平均值为10％以上30％以下。4.根据权利要求1至3中任一项所述的层叠薄膜的制造方法，所述金属氧化物粒子的平均粒径为20nm以上100nm以下。5.根据权利要求1至3中任一项所述的层叠薄膜的制造方法，相对于所述硬涂层的树脂组合物的全部固体成分，所述金属氧化物粒子的含量为20质量％以上50质量％以下。6.根据权利要求1至3中任一项所述的层叠...

【专利技术属性】
技术研发人员：小野行弘，
申请(专利权)人：迪睿合株式会社，
类型：发明
国别省市：