曝光装置制造方法及图纸

本申请涉及一种曝光装置，包括：液晶显示掩膜；控制器，与所述液晶显示掩膜连接，用于控制所述液晶显示掩膜显示预设的图案；光源，设置于所述液晶显示掩膜的一侧，所述光源发出的第一出射光照射并穿过所述液晶显示掩膜的表面射出第二出射光；其中，所述第二出射光用于照射被曝光物，以使得被曝光物被所述第二出射光照射的表面曝光显示出预设的形状图案。本申请中液晶显示掩膜显示预设的图案不需要使用额外的耗材，成像简单、成本低且成像的准确度高，因而能够有效地降低曝光成本，并提高曝光精确度。精确度。精确度。

【技术实现步骤摘要】
曝光装置


[0001]本申请涉及半导体制造
，特别是涉及一种曝光装置。

技术介绍

[0002]随着半导体技术的快速发展及市场对各种半导体器件需求量的增加，市场对半导体厂商的供货能力与产品质量提出了更高的要求。曝光显影是半导体器件蚀刻工艺中重要的步骤之一，曝光显影形成图案的准确度是影响蚀刻准确度的决定性因素之一，并决定着最终制备半导体器件的良品率、产品的使用寿命及工作的稳定性。
[0003]传统的曝光显影的过程一般采用发光二极管(Light Emitting Diode，LED)平行曝光机或采用激光直接成像(Laser Direct Imaging，LDI)的激光曝光机进行曝光处理。然而，LED平行曝光机需要使用菲林作为图像信息的载体，而菲林的制作、使用与保管都需要专业的设备及特殊的环境，处理不当或者遇到特殊的情况会给使用单位带来很大的工作量并增加不必要的使用成本。LDI激光曝光机虽然不需要使用菲林，直接成像，但激光成像的成本高昂，核心部件激光发生器寿命短，导致单次成功曝光的平均成本较高。曝光的成本居高不下且曝光成像的精确度难以达到本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种曝光装置，其特征在于，包括：液晶显示掩膜；控制器，与所述液晶显示掩膜连接，用于控制所述液晶显示掩膜显示预设的图案；光源，设置于所述液晶显示掩膜的一侧，所述光源发出的第一出射光照射并穿过所述液晶显示掩膜的表面射出第二出射光；其中，所述第二出射光用于照射被曝光物，以使得被曝光物被所述第二出射光照射的表面曝光显示出预设的形状图案。2.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述第一出射光包括紫外光、LED光及激光中的至少一种。3.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述第一出射光沿垂直于所述液晶显示掩膜的显示图案的表面的方向，照射所述液晶显示掩膜。4.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，当所述液晶显示掩膜显示预设的图案时，所述第一出射光照射并穿过所述液晶显示掩膜表面预设的图案并射出第二出射光。5.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述第一出射光照射并穿过，所述液晶显示掩膜表面除了所述预设的图案覆盖的区域...

【专利技术属性】
技术研发人员：李世波，
申请(专利权)人：深圳市爱普拓思科技有限公司，
类型：新型
国别省市：