一种显影溶液回收处理方法，以将显影溶液中碱化合物控制在一适当浓度，该显影溶液是重复溶洗复数基板上的欲去除的光阻剂，包含：以一计数单元来计数已显影的基板而获得一计数值的计数步骤，及以一控制单元来就计数值，适度调控一含有碱化合物补充液的补充单元的补充步骤；本发明专利技术亦请求一显影溶液回收处理装置，包含有一计数单元、一补充单元，及一控制单元；由此装置的运作而可有精确掌控该显影溶液浓度值、降低成本、延缓显影溶液劣化等功效。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术是有关于一种溶液回收处理方法，特别是指一种显影溶液回收处理方法；另外，本专利技术亦是有关于一种溶液回收处理装置，特别是指一种显影溶液回收处理装置。
技术介绍
在半导体及液晶基板制程中，为了先在基板上呈现例如逻辑电路的图谱，因此需在各基板上涂布光阻剂后，再透过一光罩而曝光，使得该光阻剂转化为欲保留于各基板上的光阻剂，及欲去除的光阻剂两部分；接着以显影溶液洗除掉欲去除的光阻剂，始可显影出所欲获得的图谱，以继而进行后续制程。 一般而言，光阻剂的主要成分包括例如邻-萘醌二迭氮-4-磺酸；邻-萘醌二迭氮-5-磺酸；邻-萘醌二迭氮-6-磺酸等的萘醌二迭氮系感光剂(o-naphthoquinone diazide；简称NQD)，与例如热塑性酚醛树脂(Novolac resin)等的碱可溶性粘结树脂(binder resin)，以及接口活性剂等；相对于光阻剂所使用的显影溶液，则含有碱化合物的成份，例如四甲基氢氧化铵(Tetramethylammonium hydroxide，于下文中以其简称“TMAH”表述)、四乙基氢氧化铵(tetraethylammoniumhydroxide)、四丙基氢氧化铵(tetrapropylammoniumhydroxide)、四丁基氢氧化铵(tetrabutylammoniumhydroxide)、甲基三乙基氢氧化铵(methyltriethylammoniumhydroxide)、三甲基乙基氢氧化铵(trimethylethylammoniumhydroxide)、二甲基二乙基氢氧化铵(dimethyldiethylammonium hydroxide)、三甲基(2-羟乙基)氢氧化铵[trimethyl(2-hydroxyethyl)ammoniumhydroxide]、三乙基(2-羟乙基)氢氧化铵[triethyl(2-hydroxyethyl)ammonium hydroxide]、二甲基二(2-羟乙基)氢氧化铵[dimethyldi(2-hydroxyethyl)ammoniumhydroxide]、二乙基二(2-羟乙基)氢氧化铵[diethyldi(2-hydroxyethyl)ammonium hydroxide]、甲基三(2-羟乙基)氢氧化铵[methyltri(2-hydroxyethyl)ammoniumhydroxide]、乙基三(2-羟乙基)氢氧化铵[ethyltri(2-hydroxyethyl)ammonium hydroxide]、四(2-羟乙基)氢氧化铵[tetra(2-hydroxyethyl)ammonium hydroxide]，及氢氧化钾(Potassium hydroxide，于下文中以其化学式「KOH」表述)等，供熟习此技艺者依需要而选择使用。 当显影溶液喷洒在基板上时，会由与经曝光后的欲去除的光阻剂相互作用，将其自所属的基板上溶洗掉；接着，使用过后的显影溶液将被收集，并经由循环管路而重复被喷洒在基板上。 但是，由于上述光阻剂是属酸性，因此随着显影过程持续地进行，显影溶液在重复显影光阻剂时，其中所含的实际与光阻剂作用的碱化合物，会逐渐与光阻剂酸碱中和而被消耗，使得显影溶液的有效浓度逐渐降低，无法持续地保有优良的显影效果。若是定时更新具有有效浓度的显影溶液，虽然可确保溶液的显影效果及产品良率具有一定的水准，然而废弃的显影溶液将衍生后续处理程序及环保等复杂的问题。 基于该显影溶液中的碱化合物浓度需维持于一适当浓度方能发挥良好的显影效果，同时顾及环保及成本等多方面的考量，因此，相关业界则发展出显影溶液的回收技术或相关处理设备，由此延长显影溶液的使用寿命。其主要的解决方法合策略，是在判别该显影溶液的碱化合物的浓度低于一设定值时，即将具有一较高浓度的碱化合物的补充液，适量地灌入该显影溶液中，以使该显影溶液中的碱化合物维持在一适当的浓度。 而前述判别该显影溶液的碱化合物浓度是否低于该设定值，则是由将该显影溶液流入各式传感器中，继而加以检知其碱化合物浓度而得，以便由其结果决定是否应灌入该补充液；例如台湾专利第373237号、日本公开特许特开平7-235487案使用吸光光度计，及日本公开特许特开平2003-l31398号案使用浓度计等。 由于该等传感器都是需要显影溶液流经其中方能感测，因此随着使用时间日久，该显影溶液中的光阻剂或其它杂质会逐渐附着在该等传感器的管路上，甚至形成阻塞，造成该等传感器误判该显影溶液的碱化合物浓度，连带地使得该显影溶液无法被正确地维持于适当的碱化合物浓度，影响后续显影溶液的显影效果，以及产品良率甚巨。 但是，该等传感器的感应能力，是在长时间下逐步恶化，因此工作人员，特别是经验不足者，不尽然能在第一时间察觉到所使用的传感器已无法正常运作，进而可能作出不恰当的制程危机处理方策，影响厂商成本甚巨；再者，为维护该等传感器的正常运作，厂商势必需定时派人清洗或是汰换更新，如此亦增加了人事、工时，及设备等各方面的成本。 因此，如何可使一重复使用的显影溶液的碱化合物浓度被正确地调整，以让其具有最佳的显影效果，提升后续产品良率，并且可同步地顾及其所需成本，即成为目前相关业界所亟欲发展之处。
技术实现思路
因此，本专利技术的目的，即在提供一种可有效地回复该显影溶液的显影效果的显影溶液回收处理方法，以及一种可以精确地调控该显影溶液中碱化合物浓度的显影溶液回收处理装置。 该显影溶液回收处理装置及回收处理方法，主要是依据该显影溶液所显影过的基板的数量，来调整补充入该显影溶液的碱化合物量，使得该显影溶液中的碱化合物得以精准地维持于一应有的适当浓度，而免除了以往由传感器侦测的方式所产生的缺点。 本专利技术首先提供的一种显影溶液回收处理装置，是装设在一用以运行涂布有光阻剂以待显影的各基板的显影装置上；该显影装置包含有一用以运行各基板的运行单元、一设置于该运行单元下方并容装含有一碱化合物的显影溶液的集液槽，及连通该集液槽并使该显影溶液循环地至各基板上以洗除各基板上的光阻剂的回流单元；其特征在于，该显影溶液回收处理装置则包含有一计数单元，用以计数经显影的基板数量而获得一计数值；一补充单元，是连接于该集液糟，并提供含碱化合物的补充液至集液槽；以及一控制单元，是连控该计数单元及补充单元，并依据该计数值来操控该补充单元的含碱化合物的补充液供应至集液槽的量。 其中，该补充单元包括有一具有含碱化合物的补充液、一容置该补充液的补充槽、一连通于该补充槽与集液槽的补充管路，及一设置在该补充管路上以控制该补充液的输出量的流量阀；其中，该补充液是被输送至该集液槽内，且该补充液中碱化合物的浓度是大于该集液槽内显影溶液中碱化合物的浓度。 其中，该控制单元是包括有择自于以下所构成的群组马达控制器、PID控制器(Proportional-Integral-Derivativecontroller)、PI控制器(Proportional-Integral controller)，以及DCS控制器(Digital Contribution System controller)。 其中还包含有一设置在该显影装置的运行单元下，供该显影溶液通过以消除其泡沫的消泡单元。 本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种显影溶液回收处理装置，是装设在一用以运行涂布有光阻剂以待显影的各基板的显影装置上；该显影装置包含有一用以运行各基板的运行单元、一设置于该运行单元下方并容装含有一碱化合物的显影溶液的集液槽，及连通该集液槽并使该显影溶液循环地至各基板上以洗除各基板上的光阻剂的回流单元；其特征在于，该显影溶液回收处理装置则包含有：一计数单元，用以计数经显影的基板数量而获得一计数值；一补充单元，是连接于该集液糟，并提供一含碱化合物的补充液至该集液槽；以及一控制单元，是连控该计数单元及该补充单元，并依据该计数值来操控该补充单元的该含碱化合物的补充液供应至该集液槽的量。
【技术特征摘要】
1.一种显影溶液回收处理装置，是装设在一用以运行涂布有光阻剂以待显影的各基板的显影装置上；该显影装置包含有一用以运行各基板的运行单元、一设置于该运行单元下方并容装含有一碱化合物的显影溶液的集液槽，及连通该集液槽并使该显影溶液循环地至各基板上以洗除各基板上的光阻剂的回流单元；其特征在于，该显影溶液回收处理装置则包含有一计数单元，用以计数经显影的基板数量而获得一计数值；一补充单元，是连接于该集液糟，并提供一含碱化合物的补充液至该集液槽；以及一控制单元，是连控该计数单元及该补充单元，并依据该计数值来操控该补充单元的该含碱化合物的补充液供应至该集液槽的量。2.依据权利要求1项所述的显影溶液回收处理装置，其特征在于，其中，该补充单元包括具有该含碱化合物的补充液、一容置该补充液的补充槽、一连通于该补充槽与该集液槽的一补充管路，及一设置在该补充管路上以控制该补充液的输出量的一流量阀；其中，该补充液是被输送至该集液槽内，且该补充液中碱化合物的浓度是大于该集液槽内显影溶液中碱化合物的浓度。3.依据权利要求1项所述的显影溶液回收处理装置，其特征在于，其中，该控制单元是包括有择自于以下所构成的群组马达控制器、PID控制器、PI控制器，以及DCS控制器。4.依据权利要求1项所述的显影溶液回收处理装置，其特征在于，其中还包含有一设置在该显影装置的运行单元下方，供该显影溶液通过以消除其泡沫的消泡单元。5.依据权利要求4项所述的显影溶液回收处理装置，其特征在于，其中，该消泡单元是为一消...
【专利技术属性】
技术研发人员：蔡宏明，
申请(专利权)人：奇美实业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]
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