光学单元制造技术

本发明专利技术提供一种薄型且能够在较宽的调节范围内朝向拍摄元件调节入射光束的光学单元。该光学单元(1)具备：基板(4)，具有通过入射光束拍摄被拍摄体像的拍摄元件(41)；反射部(2)，使入射光束从自外部的入射方向(D1)向朝向拍摄元件(41)的反射方向(D2)反射；基板摆动机构(50)，具有成对的第一磁体和第一线圈，以滚动轴(Ar)为基准使基板(4)摆动；以及反射部摆动机构(51)，具有成对的第二磁体和第二线圈，以偏转轴(Ay)及俯仰轴(Ap)中的至少一方为基准使反射部(2)摆动。使反射部(2)摆动。使反射部(2)摆动。

【技术实现步骤摘要】
光学单元


[0001]本专利技术涉及一种光学单元。

技术介绍

[0002]以往，使用具备基板和反射部的各种光学单元，其中，上述基板具有通过入射光束拍摄被拍摄体像的拍摄元件，上述反射部使入射光束反射。通过设为使入射光束反射的结构，可以将光学单元制成薄型。例如，在专利文献1中公开了一种摄像头模块，该摄像头模块具备具有图像传感器的基板和使入射光束反射的棱镜。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：US2018/0217475A1

技术实现思路

[0006]专利技术所要解决的技术问题
[0007]然而，如上所述的具备具有拍摄元件的基板和反射部的传统上的光学单元不能说是能够在较宽的调节范围内朝向拍摄元件调节入射光束的结构。例如，在专利文献1的摄像头模块中，入射光束可能在旋转方向上偏离地入射至拍摄元件。因此，本专利技术的目的在于提供一种薄型且能够在较宽的调节范围内朝向拍摄元件调节入射光束的光学单元。
[0008]解决技术问题所采用的技术方案
[0009]本专利技术提供一种光学单元，其特征在于，具备：基板，所述基板具有通过入射光束拍摄被拍摄体像的拍摄元件；反射部，所述反射部使所述入射光束从自外部的入射方向向朝向所述拍摄元件的反射方向反射；基板摆动机构，所述基板摆动机构具有成对的第一磁体和第一线圈，且以滚动轴为基准使所述基板摆动；以及反射部摆动机构，所述反射部摆动机构具有成对的第二磁体和第二线圈，且以偏转轴及俯仰轴中的至少一方为基准使所述反射部摆动。
[0010]根据本方式，具备以偏转轴及俯仰轴中的至少一方为基准使反射部摆动的反射部摆动机构，并且具备以滚动轴为基准使基板摆动的基板摆动机构。因此，通过使反射部在较宽的范围内运动，并且以滚动轴为基准使基板摆动，能够消除入射光束在旋转方向上偏离地入射至拍摄元件的风险。即，能够设为能够在较宽的调节范围内朝向拍摄元件调节入射光束的光学单元。另外，通过设置反射部，能够将光学单元设为薄型。此外，通过将基板摆动机构和反射部摆动机构设为成对的磁体和线圈，能够将基板摆动机构和反射部摆动机构小型化，特别是能够将光学单元制成薄型。
[0011]在本专利技术的光学单元中，优选的是，所述反射部摆动机构以偏转轴及俯仰轴双方为基准使反射部摆动。这是因为通过以偏转轴及俯仰轴双方为基准使反射部摆动，能够使反射部在特别宽的范围内运动。
[0012]在本专利技术的光学单元中，优选的一例为，作为所述反射部摆动机构，在从所述入射
方向观察时与所述反射部交叠的位置具备以偏转轴为基准使所述反射部摆动的成对的所述第二磁体和所述第二线圈。这是因为以偏转轴为基准的反射部的平衡变得良好。
[0013]在本专利技术的光学单元中，优选的一例为，作为所述反射部摆动机构，在从俯仰轴方向观察时与所述反射部交叠的位置具备以偏转轴为基准使所述反射部摆动的成对的所述第二磁体和所述第二线圈。从入射方向观察时，在与反射部交叠的位置没有设置反射部摆动机构的空间的情况下有效。
[0014]在这样的结构的情况下，优选的是，作为所述反射部摆动机构，从所述入射方向观察时，在所述俯仰轴方向上的所述反射部的两侧具备以偏转轴为基准使所述反射部摆动的成对的所述第二磁体和所述第二线圈。这是因为以偏转轴为基准的反射部的平衡变得良好。
[0015]在本专利技术的光学单元中，优选的是，从所述反射方向观察时以滚动轴为基准在两侧具备作为所述基板摆动机构的成对的所述第一磁体和所述第一线圈。这是因为以滚动轴为基准的基板的平衡变得良好。
[0016]在本专利技术的光学单元中，优选的是，所述基板摆动机构具有成对的所述第一磁体和所述第一线圈，所述第一磁体固定于所述基板上，所述第一线圈在所述基板的周围固定于与所述第一磁体对置的位置。这是因为通过在基板上设置磁体，能够将包括该基板的摆动单元小型化，并且能够容易地进行配线。
[0017]在本专利技术的光学单元中，优选的是，所述反射部摆动机构具有成对的所述第二磁体和所述第二线圈，所述第二磁体固定于所述反射部，所述第二线圈在所述反射部的周围固定于与所述第二磁体对置的位置。这是因为通过在反射部设置磁体，能够将包括该反射部的摆动单元小型化，并且能够容易地进行配线。
[0018]在本专利技术的光学单元中，优选的是，在所述基板和所述反射部之间具备透镜单元，所述透镜单元固定于所述基板上。这是因为通过将透镜单元固定于基板上，能够使基板在维持透镜单元和基板的位置关系的状态下摆动。
[0019]专利技术效果
[0020]本专利技术的光学单元为薄型，且能够在较宽的调节范围内朝向拍摄元件调节入射光束。
附图说明
[0021]图1是具备本专利技术的实施例1的光学单元的智能手机的立体图。
[0022]图2是本专利技术的实施例1的光学单元的侧视图。
[0023]图3是本专利技术的实施例1的光学单元的立体图。
[0024]图4是从与图2不同的角度观察的本专利技术的实施例1的光学单元的立体图。
[0025]图5是本专利技术的实施例2的光学单元的立体图。
[0026]图6是从与图5不同的角度观察到的本专利技术的实施例2的光学单元的立体图。
[0027]附图标记说明
[0028]1…
光学单元；2
…
反射部；3
…
透镜单元；4
…
基板；21
…
反射镜；41
…
拍摄元件；50
…
基板摆动机构；51
…
反射部摆动机构；100
…
智能手机；101
…
透镜；Ap
…
俯仰轴；Ar
…
滚动轴；Ay
…
偏转轴；C1A
…
线圈(第一线圈)；C1B
…
线圈(第一线圈)；C2
…
线圈(第二线圈)；
C2A
…
线圈(第二线圈)；C2B
…
线圈(第二线圈)；C3
…
线圈(第二线圈)；M1A
…
磁体(第一磁体)；M1B
…
磁体(第一磁体)；M2
…
磁体(第二磁体)；M2A
…
磁体(第二磁体)；M2B
…
磁体(第二磁体)；M3
…
磁体(第二磁体)；L
…
光轴。
具体实施方式
[0029]以下，基于附图对本专利技术的实施方式进行说明。此外，在各实施例中，对于相同的结构标注相同的附图标记，仅在最前面的实施例中进行说明，在以后的实施例中省略其结构的说明。
[0030][实施例1](图1至图4)
[0031]首先，使用图1～图4对本专利技术的实施例1的光学单元1进行说明。在各图中，Y轴方向对应于入射光束从外部入射的入射方向D1，Z轴方向是与Y轴方向正交的方向，且对应于入射光束被反射部2的反射本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光学单元，其特征在于，具备：基板，所述基板具有通过入射光束拍摄被拍摄体像的拍摄元件；反射部，所述反射部使所述入射光束从自外部的入射方向向朝向所述拍摄元件的反射方向反射；基板摆动机构，所述基板摆动机构具有成对的第一磁体和第一线圈，且以滚动轴为基准使所述基板摆动；以及反射部摆动机构，所述反射部摆动机构具有成对的第二磁体和第二线圈，且以偏转轴及俯仰轴中的至少一方为基准使所述反射部摆动。2.根据权利要求1所述的光学单元，其特征在于，所述反射部摆动机构以偏转轴及俯仰轴双方为基准使所述反射部摆动。3.根据权利要求1或2所述的光学单元，其特征在于，作为所述反射部摆动机构，在从所述入射方向观察时与所述反射部交叠的位置具备以偏转轴为基准使所述反射部摆动的成对的所述第二磁体和所述第二线圈。4.根据权利要求1～3中任一项所述的光学单元，其特征在于，作为所述反射部摆动机构，在从俯仰轴方向观察时与所述反射部交叠的位置具备以偏转轴为基准使所述反射部摆动的成对的所述第二磁体和所述第二线圈。5.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：须江猛，
申请(专利权)人：日本电产三协株式会社，
类型：发明
国别省市：