光敏组合物、转印材料、遮光膜及其制备方法、显示装置用滤色器、显示装置用衬底和显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种光敏组合物、使用该光敏组合物的转印材料和遮光膜及其制备方法、显示装置用滤色器、显示装置用衬底和显示装置，所述光敏组合物包含含有合金部分和单体的粒子，其中在将所述光敏组合物形成膜之后，该膜按每１μｍ干膜厚度计具有２．０以上的光密度。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光敏组合物、转印材料、遮光膜及其制备方法、显示装置用滤色器、显示装置用衬底和显示装置专利技术背景1. 专利
本专利技术涉及一种优选用于制备安置在显示装置如等离子体显示装置、EL显示装置和CRT显示装置中的遮光膜的光敏组合物、使用该光敏组合 物的转印材料、遮光膜及其制备方法；显示装置用滤色器；显示装置用衬 底和显示装置。2. 相关技术的描述在装置比如液晶显示装置、等离子体显示装置、EL显示装置和CRT 显示装置内，显示装置用遮光膜以黑边缘、像素周围的点阵图案、条状黑 边缘(所谓黑底)、点图案或线性黑图案形式，被安置作为用于薄膜晶体管 (TFT)的遮光。例如，黑底是构成液晶显示等的遮光膜的实例。为了防止由于光泄漏 通过在像素之间的空间而引起的对比度下降，通常安置黑底，以使其围绕 着装备在液晶显示装置内的滤色器的每一个有色像素(红色、绿色或蓝色像 素)。另一个实例是在使用TFT并且使用有源矩阵寻址法的液晶装置中， 装备在TFT上的遮光膜，以防止图像质量因被光引起的来自TFT上的电 流泄漏而劣化。遮光膜通常需要光密度为2以上的遮光性能，并且从显示装置的显示 图像的质量考虑，遮光膜优选为黑色的。有人提出了使用金属制备具有高遮光性能的遮光膜。例如，提出的方 法包括通过真空沉积或溅射制备金属薄膜；通过将光致抗蚀剂涂布在金属 薄膜上以形成光致抗蚀剂膜；使用图案掩模(光掩模)将该光致抗蚀剂膜曝 光以形成遮光膜；将曝光的光致抗蚀剂膜显影；蚀刻曝光的薄膜；以及将光致抗蚀剂膜从金属薄膜上剥离(参见，例如，彩色TFT液晶显示(Co/w 7Frh'^WO^to/Lfep/ay」，218-220页，由Kyoritsu Shuppan股份有限公 司于1997年4月10日出版)。有一种技术是使用炭黑形成具有低反射率的遮光膜(例如，参见日本专 利申请公开(JP-A) 62-9301)。这种遮光膜是通过如下步骤获得的膜将含 有炭黑的光敏树脂组合物涂敷到衬底上，将该组合物干燥，将所得膜曝光 以及将该膜显影。然而，由于相对于金属，其每单位量的光密度低，因此不可避免地增 加遮光膜的厚度，以确保高的遮光性能和光密度。因此，当形成遮光膜之 后形成红、蓝和绿色的像素时，容易产生空气气泡，或难于获得均匀像素。在另一种方法中，通过无电沉积形成了含有镍细粒的黑底(例如，参见 JP-A 7-218715)。然而，由于这种方法只获得平均粒子直径为30 nm以下 的粒子，因此难于获得完美的黑色色调或难于获得厚度为0.5 pm的薄膜。 而且，由于在制备过程中使用了电镀液体，因此这种方法给环境带来了沉 重的负担。鉴于上述方法和技术，有人提出了使用含有金属粒子的组合物或使用 转印材料形成遮光膜的技术(例如，参见JP-A 2004-240039)。这种技术可 以解决诸如上述的产生空气气泡、难于形成均匀像素、成为差的黑色色调 以及给环境带来巨大负担之类的问题，并且可以获得具有高的光密度和反 射率的薄遮光膜。然而，尽管由于使用了金属薄膜而甚至在膜厚度薄的情况下也获得了 高的遮光作用，但是由于真空沉积法如气相沉积和溅射或蚀刻法是必需 的，因而生产成本昂贵。此外，具有高的反射率的金属薄膜使显示对比度 在外部光下低。尽管在一种技术中使用了利用低反射铬膜(比如包含金属铬层和氧化 铬层的两层膜)的现有技术，但是不可否认的是生产成本进一步增加。将铬 用于这种膜还可以对环境带来了沉重的负担。当使用含有金属粒子的组合物或转印材料时，所获得的遮光膜具有反 射率在较高的温度增加的特性。由于为制备滤色器通常使用被称为烘焙处 理的高温处理，因此近年来在需要高质量图像的滤色器中，需要烘焙不引起反射率增加的遮光膜。专利技术概述本专利技术是鉴于上述问题而完成的。本专利技术的第一方面提供一种光敏组合物，所述光敏组合物包含含有合 金部分和单体的粒子，其中所述光敏组合物形成膜之后，所述膜按每l^m 干膜厚度计具有2.0以上的光密度。本专利技术的第二方面是提供一种转印材料，所述转印材料包含临时载体 和安置在临时载体上的光敏层，其中所述光敏层包含在临时载体上的第一 方面的光敏组合物。本专利技术的第三方面提供一种遮光膜，所述遮光膜通过将第一方面的光 敏组合物涂敷到衬底上而形成。本专利技术的第三方面提供一种遮光膜，所述遮光膜通过将第二方面的转 印材料的光敏层转移到衬底上而形成。本专利技术的第五方面提供一种显示装置用衬底，所述显示装置用衬底包 含第三或第四方面的遮光膜。本专利技术的第六方面提供一种显示装置用滤色器，所述显示装置用滤色 器包括第五方面的显示装置用衬底。本专利技术的第七方面提供一种显示装置，所述显示装置包含第六方面的 显示装置用滤色器。本专利技术的第八方面提供一种用于制备遮光膜的方法，所述方法包括 通过将第一方面的光敏组合物涂敷到衬底上，然后干燥涂敷的光敏组合 物，形成光敏层；通过将所述光敏层进行成图案式曝光，然后将曝光的光 敏层显影，形成有图案的图像；将有图案的图像在150。C或更高的温度进 行5分钟以上的热处理。本专利技术的第九方面提供一种用于制备遮光膜的方法，所述方法包括将第二方面的转印材料的光敏层转移到衬底上；通过将转移的光敏层进行 成图案式曝光，然后将曝光的光敏层显影，形成有图案的图像；以及将有 图案的图像在150。C或更高的温度进行5分钟以上的热处理。本专利技术的第十方面提供一种遮光膜，所述遮光膜通过第八方面的方法制备。本专利技术的第十一方面提供一种遮光膜，所述遮光膜通过第九方面的方 法制备。本专利技术提供光敏组合物，所述光敏组合物赋予薄膜优异的遮光性能(具 有高的光密度)，并且作为加热结果的反射率增加小，对环境的负担降低； 转印材料；遮光膜及其制备方法；显示装置用衬底；能够显示具有高对比 度的亮图像的显示装置用滤色器；以及显示装置。专利技术详述以下将详细描述本专利技术的光敏组合物，同时在本说明书中还列出转印 材料、遮光膜及其制备方法；显示装置用滤色器；显示装置用衬底和显示 装置的细节。<光敏组合物>本专利技术的光敏组合物包含含有合金部分和单体的粒子，其中所述光敏 组合物形成膜之后，该膜按每lpm干膜厚度计具有2.0以上的光密度。本 专利技术的光敏组合物可以任选包含其它组分，比如粘合剂聚合物、光聚合引 发剂、分散剂和分散介质。在此处使用的膜的干燥厚度是指在本专利技术的光敏组合物被涂敷到衬底 上之后的膜厚度并且是按如下测量出的。通过将光敏组合物涂敷到衬底(例如，PET或玻璃衬底)上，并且将该 组合物通过在100°C以下的热空气吹扫而进行干燥，使得残留溶剂的量为 2质量％以下，从而形成具有光敏树脂层的光敏材料。用测量装置比如接 触表面粗糙度计(商品名Pl， TENKOR制造)测量光敏材料的厚度。然后， 测量将光敏树脂层从衬底上完全移除之后的衬底的厚度，将这两个测量值 之差定义为干膜的厚度。通过气相色谱-质谱测量残留溶剂的量。由于采用含有合金部分的粒子作为在本专利技术的光敏组合物中的着色 剂，因此获得具有高光密度的薄膜。该膜的色调(特别是黑色调)优异，同 时作为热处理结果的反射率增加小。该光敏组合物还具有对环境的良好相容性，对环境造成的负担小。由于所形成的膜按每1lam干膜厚度计具有2.0以上的光密度，因此即 使当膜薄时，本专利技术的光敏组合物也能够确保高的光密本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光敏组合物，其包含含有合金部分和单体的粒子，其中在将所述光敏组合物形成膜之后，所述膜按每１μｍ干膜厚度计具有２．０以上的光密度。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：畠山晶，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]