方片旋转涂胶机构制造技术

本发明专利技术涉及光刻胶的胶涂技术，具体为一种方片旋转涂胶机构，应用于掩膜板及平板显示器制造中方形基片涂光刻胶工艺，也可在其它要求较高均匀性的方形基片涂覆工艺中运用，解决传统旋转涂覆方式在涂胶过程中，方形基片的四角会出现胶膜不均匀而影响使用等问题。采用双层腔体结构，包括上盖、旋转盖板、承片台、外腔体，方形基片吸附于承片台上，承片台外侧设置外腔体，可升降的上盖底部安装旋转盖板；上盖扣在外腔体上，形成外层封闭腔体；旋转盖板扣在承片台上，形成内层封闭腔体。本发明专利技术可在涂覆光刻胶工艺中能够在方形基片上形成一层均匀的胶膜，除方形基片边缘２～３ｍｍ边框以外，整体均匀性很高。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光亥贩的胶涂技术，具体为一种方片旋转涂胶机构，应用于掩膜 板及平板显示器制造中方形基片(板)涂光刻胶工艺，也可在其它要求较高均匀 性的方形基片(板)涂覆工艺中运用。
技术介绍
-在掩膜板及平^M示器制造中需要在基fch涂覆一层光亥帔，要求均匀性很 高，然后经过曝光、显影等工艺使设计好的图形能够转移到基fei:。这是掩膜板 及平板显示器制造中的一项重要工序，劂频量直接影响到所成图形的质量。传统的旋转涂覆技术在掩膜板及平板显示器制造中得到广泛应用，通常采用 在一个圆形腔体内中心有一带吸附平台的旋转主轴，基片用真空吸附在平台上完 成涂覆工艺。这一方式广泛应用于圆形基片的涂胶工艺中，育巨够取得很好的胶膜 均匀性。但是，传统的旋涂方式在对方形基片涂胶过程中，由于本身的形状及周 边气流的影响方形基片四个角上的胶膜会变厚，极不均匀，造成四角周边很大一 块区域不能使用，对基片慰艮大的浪费，并且可會糙成某些工艺要求无法实现。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种方片旋转涂胶机构，解^^专统旋转涂覆方式在涂 胶过程中，方形基片的四角会出现胶膜不均匀而影响使用等问题。 本专利技术的技术方案是一种方片旋转涂胶机构，采用双层腔体结构，包括上盖、旋转盖板、承片台、 外腔体，方形基片吸附于承片台上，承片台外侧设置外腔体，可升降的上盖底部 安装旋转盖板；上盖扣在外腔体上，形成外层封闭腔体；旋转盖板扣在承片台上， 形成内层封闭腔体。戶，承片台周边可以设有销子，旋转盖板通过其上的销孔与承片台上的销子 扣合。戶;M承片台底部可连接由主轴电机驱动的旋转主轴。戶脱外腔体外侦何设置用于滴加光刻胶的移动胶臂。戶/M外层封闭腔体底部可连接排风机构。本专利技术的有益效果是1、 本专利技术方片旋转涂胶机构采用了旋转涂覆方式，其基本原理是先在方形基 片上滴一定量的光刻胶，然后瞬间加速決速甩胶，在高速旋转过程中使光刻胶覆 盖在方形基片表面形成一层胶膜，其均匀性、膜厚受到转速、加速度、气流等多 方面的影响。方片旋转涂f交机构正是运用于这一工艺，能够在方形基片上形成一 层均匀的胶膜，实现方形基片胶膜的整体均匀性。2、 本专利技术方片旋转涂胶机构的核心技术是采用双层腔体结构，内层由一圆形 旋转盖板和承片台扣在一起形成一封闭腔体，并带动方形基片一起旋转，通过改 变气流形成方形的均匀胶膜。该封闭腔体可以延缓光刻胶的挥发，使光刻j^旋转到方形基片边缘时，有充足的时间^ii缘继纟彭勾匀涂胶。3、 本专利技术割艮于解谢专统旋转涂覆方式产生的问题，在涂覆光亥贩工艺中能够在方形基片上形成一层均匀的胶膜，除方形基片边缘2 3mm边框以外，整体 均匀性很高。附图说明图1为本专利技术方片旋转涂胶机构的结构图。图中，l上盖；2旋转盖板；3承片台；4主轴电机；5旋转主轴；6外腔体； 7移动胶臂；8销子；9方形基片。 具体实 式如图1所示，本专利技术方片旋转涂胶机构采用双层腔体结构，包括上盖1、旋转盖板2、承片台3、夕卜腔体6，方形基片9吸附于承片台3上，承片台3外侧设 置外腔体6，可升降的上盖1底部安装旋转盖板2。上盖1扣在外腔体6上，形成 外层封闭腔体；旋转盖板2扣在承片台3上，形成内层封闭腔体。承片台3周边 设有销子8，旋转盖板2通过其上的销孔与承片台上的销子扣合，承片台3底部 连接由主轴电机4驱动的旋转主轴5，夕卜腔体6外侧设置用于滴加光刻胶的移动 胶臂7。本专利技术的工作过程为手动放片，承片台3抽真空吸附方形基片9，然后通过移动胶臂7滴一定量光刻鹏方形基片9上，移动胶臂7移出后，上盖1带动旋转盖板2 —起下降， 上盖1扣在外腔体6上，旋转盖板2则扣在承片台3上，并通过承片台3周边的 销子8和其连在一起在主轴电机4驱动下，按预先设定的工艺参数( 、加速 度、旋转时间等)完成甩胶过程。本专利技术方片旋转涂胶机构可I^A全自动或独立式半自动方片涂胶设备中用于 掩膜板及平板显示器制造中。权利要求1、 一种方片旋转涂胶机构，其特征在于采用双层腔体结构，包括上盖(1)、旋转盖板(2)、承片台(3)、外腔体(6)，方形基片(9)吸附于承片台(3)上， 承片台(3)外侧设置外腔体(6)，可升降的上盖(1)底部安装旋转盖板(2); 上盖(1)扣在外腔体(6)上，形成外层封闭腔体；旋转盖板(2)扣在承片台(3) 上，形成内层封闭腔体。2、 按照权利要求1戶脱的方片旋转涂胶机构，其特征在于戶诚承片台(3) 周边设有销子(8)，旋转盖板(2)通过其上的销孑L与承片台上的销子扣合。3、 按照权利要求1戶脱的方片旋转涂胶机构，其特征在于戶服承片台(3) 底部连接由主轴电机(4)驱动的旋转主轴(5)。4、 按照权禾腰求1所述的方片旋转涂胶机构，其特征在于戶脱外腔体(6) 外侧设置用于滴加光刻胶的移动胶臂(7)。5、 按照权利要求1戶腿的方片旋转涂胶机构，其特征在于戶脱外层封闭腔体底部连接排风机构。全文摘要本专利技术涉及光刻胶的胶涂技术，具体为一种方片旋转涂胶机构，应用于掩膜板及平板显示器制造中方形基片涂光刻胶工艺，也可在其它要求较高均匀性的方形基片涂覆工艺中运用，解决传统旋转涂覆方式在涂胶过程中，方形基片的四角会出现胶膜不均匀而影响使用等问题。采用双层腔体结构，包括上盖、旋转盖板、承片台、外腔体，方形基片吸附于承片台上，承片台外侧设置外腔体，可升降的上盖底部安装旋转盖板；上盖扣在外腔体上，形成外层封闭腔体；旋转盖板扣在承片台上，形成内层封闭腔体。本专利技术可在涂覆光刻胶工艺中能够在方形基片上形成一层均匀的胶膜，除方形基片边缘2～3mm边框以外，整体均匀性很高。文档编号G03F7/16GK101311830SQ20071001143公开日2008年11月26日 申请日期2007年5月25日 优先权日2007年5月25日专利技术者宁 康, 焱 陈 申请人:沈阳芯源微电子设备有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种方片旋转涂胶机构，其特征在于：采用双层腔体结构，包括上盖（１）、旋转盖板（２）、承片台（３）、外腔体（６），方形基片（９）吸附于承片台（３）上，承片台（３）外侧设置外腔体（６），可升降的上盖（１）底部安装旋转盖板（２）；上盖（１）扣在外腔体（６）上，形成外层封闭腔体；旋转盖板（２）扣在承片台（３）上，形成内层封闭腔体。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陈焱，康宁，
申请(专利权)人：沈阳芯源微电子设备有限公司，
类型：发明
国别省市：89[中国|沈阳]