PECVD设备无载板硅片传送机构及与该传送机构配合的工艺腔室制造技术

PECVD设备无载板硅片传送机构及与该传送机构配合的工艺腔室涉及太阳能电池设备技术领域，尤其涉及用于制造异质结太阳能电池的PECVD设备无载板硅片传送机构及与该传送机构配合的工艺腔室。本实用新型专利技术提供一种不需要使用载板，成本低廉，提高产能的PECVD设备无载板的硅片传送机构及与该传送机构配合的工艺腔室。本实用新型专利技术的无载板硅片传送机构，包括取片装置，其特征在于：取片装置底部设置有抓手。取片装置底部设置有抓手。取片装置底部设置有抓手。

【技术实现步骤摘要】
PECVD设备无载板硅片传送机构及与该传送机构配合的工艺腔室


[0001]本技术涉及太阳能电池设备
，尤其涉及用于制造异质结太阳能电池的PECVD设备无载板硅片传送机构及与该传送机构配合的工艺腔室。

技术介绍

[0002]现在的PECVD设备，普遍使用载板，将硅片放置在载板上，腔室间传送载板来实现硅片的传送，但是载板存在着很多限制和问题。
[0003]载板需要高频率的定期清洗和维护，严重影响设备的产能和利用率。加热载板需要长的加热时间和能量，影响生产节奏。载板的材料要求高，制造成本和维护成本高。载板会造成腔室间的交叉污染，影响薄膜质量和电池的转换效率。

技术实现思路

[0004]本技术就是针对上述问题，提供一种不需要使用载板，成本低廉，提高产能的PECVD设备无载板的硅片传送机构及与该传送机构配合的工艺腔室。
[0005]为了实现本技术的上述目的，本技术采用如下技术方案，本技术的无载板硅片传送机构，包括取片装置，其特征在于：取片装置底部设置有抓手。
[0006]作为本技术的一种优选方案，所述抓手设置本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.PECVD设备无载板硅片传送机构，包括取片装置，其特征在于：取片装置底部设置有抓手。2.根据权利要求1所述的PECVD设备无载板硅片传送机构，其特征在于：所述抓手设置为钩形抓手（207）、真空吸盘或静电吸盘，所述取片装置底部排布设置有多组抓手。3.根据权利要求2所述的PECVD设备无载板硅片传送机构，其特征在于：所述取片装置上通过支撑杆（209）设置有支撑轮（208）。4.一种与权利要求1～3所述任一一种无载板硅片传送机构配合的工艺腔室，其特征在于：包括工艺腔室（404）内的下电极底座（403），下电极底座（403）上设置有衬底支架（401），所述取片装置的抓手相应...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨宝海，杨娜，潘家永，许伟伟，宋玉超，李轶军，李翔，李敦信，李义升，
申请(专利权)人：营口金辰机械股份有限公司，
类型：新型
国别省市：