一种反应槽内晶圆组分离装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种反应槽内晶圆组分离装置，包括由下至上依次布置在立柱直线运动单元上的晶圆组运动平台、载具运动平台、晶圆组夹持单元、晶圆组导向单元，凸轮连杆组、平台联动锁定单元安装于立柱直线运动单元两侧，晶圆组运动平台、载具运动平台分别与凸轮连杆组、平台联动锁定单元连接，并通过平台联动锁定单元实现开锁分离，载具运动平台设于晶圆组运动平台之上，且在凸轮连杆组的带动下作上下运动，并将晶圆载具内的晶圆组顶出晶圆载具上方，以进入晶圆组导向单元内，晶圆组夹持单元对分离出的晶圆组进行轴向定位；本发明专利技术能够确保载具与晶圆组的分离过程中不会打断制程或离开制程区，使其始终位于同一区域，获得较高的洁净度或干燥度。或干燥度。或干燥度。

【技术实现步骤摘要】
一种反应槽内晶圆组分离装置
[
][0001]本专利技术涉及半导体行业
，具体地说是一种反应槽内晶圆组分离装置。
[
技术介绍
][0002]中高端半导体行业内对晶圆(Wafer)在制程过程时进行直接接触(又称：无载具工艺Cassetteless)的应用场景较多。通常见于批次式(Batch)湿制程干燥工序或200mm直径及以上单晶圆(Single)湿制程的上下货工序。目前，业内常采用高精度机械臂对载具内的晶圆组进行单片式取放作业，或非制程区载具脱离装置进行晶圆组的整体分离。此类装置的优点在于标准化及制程柔性程度较高，可根据制程要求进行模组化的配置，实现晶圆分离工序的嵌入(Embed)。但无论是非制程区的脱离装置或高精度机械臂，都属于专机专用型设备，不同程度的具有设备复杂，造价相对高昂，占用空间较大等缺点，且难以在具有腐蚀性的制程区进行长期作业并使区域内物体不受运动部件产生的颗粒物带来的污染。
[0003]因此只能以离散工序的形式进行“离线式”作业。在此情况下，若能针对上诉缺陷提出反应槽内晶圆组分离装置的技术方案，将具有非常重要的意义。
[专利技术本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种反应槽内晶圆组分离装置，包括晶圆组运动平台(1)、载具运动平台(2)、凸轮连杆组(3)、立柱直线运动单元(4)、平台联动锁定单元(5)、晶圆组导向单元(6)、晶圆组夹持单元(7)，其特征在于：所述晶圆组运动平台(1)、载具运动平台(2)、晶圆组夹持单元(7)、晶圆组导向单元(6)由下至上依次布置在立柱直线运动单元(4)上，且沿立柱直线运动单元(4)的运动轴方向同轴布局，所述凸轮连杆组(3)、平台联动锁定单元(5)安装于立柱直线运动单元(4)的两侧，且与晶圆组运动平台(1)、载具运动平台(2)、晶圆组导向单元(6)、晶圆组夹持单元(7)错开布置，所述晶圆组运动平台(1)、载具运动平台(2)分别与凸轮连杆组(3)、平台联动锁定单元(5)连接，并通过平台联动锁定单元(5)实现开锁分离，所述载具运动平台(2)设于晶圆组运动平台(1)之上，所述载具运动平台(2)上置有晶圆载具(8)，所述晶圆载具(8)内放置有晶圆组(9)，所述晶圆组运动平台(1)在凸轮连杆组(3)的带动下作上下运动，并将晶圆载具(8)内的晶圆组(9)顶出于晶圆载具(8)上方，以进入晶圆组导向单元(6)内，所述晶圆组夹持单元(7)安装在晶圆组导向单元(6)内，并对分离出的晶圆组(9)进行轴向定位。2.如权利要求1所述的反应槽内晶圆组分离装置，其特征在于：所述晶圆组运动平台(1)包括平台悬臂(10)，所述平台悬臂(10)呈L型结构，所述平台悬臂(10)顶端连接凸轮连杆组(3)，并在凸轮连杆组(3)的带动下作上下运动，所述平台悬臂(10)上安装有垂直布置的刀型托架(11)，所述刀型托架(11)由下至上以线接触形式对晶圆组(9)进行垂直方向约束，所述刀型托架(11)顶端设有V形定位块(12)，所述V形定位块(12)与晶圆组(9)底部接触连接。3.如权利要求2所述的反应槽内晶圆组分离装置，其特征在于：所述平台悬臂(10)与刀型托架(11)采用不可拆卸的一体式结构。4.如权利要求2或3所述的反应槽内晶圆组分离装置，其特征在于：所述载具运动平台(2)包括L型支撑架(13)，所述L型支撑架(13)由垂直支撑杆和水平支...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄自柯，林生海，赵晗，
申请(专利权)人：冠礼控制科技上海有限公司，
类型：发明
国别省市：