光量调节装置、其制造方法以及摄影装置制造方法及图纸

技术编号:2733486 阅读:126 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
提供一种制造成本低、成品率高、用简便操作即能经济地制造可充分满足光学特性的光量调节构件的制造方法。进而,廉价地提供具有可达到充分光学特性的光量调节构件的各种光量调节装置和摄影装置。所述光量调节构件的制造方法的特征为,它包括利用液体喷射记录法向透明基材赋予含有着色剂的着色液,形成具有特定光学浓度的光量调节区域的工序。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
光量调节构件的制造方法,光量调节构件,光量调节装置以及摄影装置
本专利技术涉及可以简便地获得能够在数字照相机,电视摄像机等光学设备等或者电子照相方式记录装置等各领域中使用的光量调节构件的制造方法,以及由此获得的光量调节构件,光量调节装置及摄影装置。
技术介绍
在用于照相机等光学设备的成像(摄影)光学系统中,一般地内装调节入射光束的光量的光量调节装置,即所谓光圈装置。在这种光圈装置中,多个光圈叶片形成规定面积的开口部,通过用调节器调节该开口部的开口直径,调节通过开口部光束的量。但是,随着该开口部开口直径的缩小,在光圈叶片的端部产生的衍射的影响变大,降低成像光学系统的成像性能。为了避免这种缺点,在上述光圈叶片的一部分上设置作为光量调节构件的滤光片,用光学滤光片代替缩小开口直径从而使通过开口部光束的量(光量)衰减的技术是公知的。在用于这种目的的光学滤光片中,要求光的散射、折射异常以及分光透射率偏差等光学缺陷少。在现有技术中,作为光量调节构件,一般使用通过在光透射性薄膜形成材料中混合掺混进吸收光的颜料和染料等着色剂制成的着色薄膜类型的构件。但是,利用这种方式制造的光量调节构件价格非常高,不能满足需求不断扩大而提出的降低成本的要求。此外,在光透射性薄膜材料中掺混进着色剂制造着色薄膜的方式中,制造具有连续或者阶梯式浓度分布(下面称之为“多浓度”)的光量调节构件,显然是十分困难的。-->作为其它的已知光量调节构件的制造方法,有利用银盐薄膜制造多浓度光量调节构件的方法(参照特开平5-173004号公报)。但是,在利用这种方法获得光量调节构件的情况下,由于在薄膜内部银粒子表面上光束的反射以及通过银粒子端部光束的衍射,会损坏通过该薄膜的光线的直进性,造成光学系统的成像性能降低,产生利用银盐薄膜所特有的问题。此外,也公开了利用蒸镀法制造多浓度光量调节构件的方法(特开平10-133254号公报)。但是,在这种方法的情况下,除制造成本相当高之外,由于随浓度的不同膜的厚度变化,所以,浓度高的部位和浓度低的部位产生膜厚差,其结果产生光路差和分辨率降低的问题。进而,在这种方法中,尽管可以制造浓度阶梯式变化的制品,但制造具有连续浓度分布的制品相当困难。此外,有人提出了首先在薄膜材料中掺混进因光褪色的有机色素制成薄膜,通过在所获得的薄膜上部分地照射高能量的光,使照射部分的有机色素分解,借此,制造多浓度光量调节构件的方法(特开平10-96971号公报)。但是,在这种方法中,由于能够使用的着色剂限于因光褪色的材料,所以很难得到具有足够光学特性的制品。进而,由其复杂的制造方法,可以很容易推测所获得的制品的价格非常昂贵。进而,有人公开了利用蒸镀或者照相制版等印刷工艺将单一浓度的膜形成网点状,通过根据不同的部位改变网点的图样,制造透射率无阶梯式变化的光量调节构件的滤光片的方法(参照特开2000-352736号公报)。但是,这种方法用照相制版或者蒸镀形成规定浓度的膜,存在着不管采用哪种工艺,都会使装置大型化,价格昂贵,滤光片制造成本增加的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的是,为了解决上述现有技术中的课题,提供一种制造成本低、成品率高、通过简便的操作就可以经济地制造充分满足-->光学特性的光量调节构件的方法。进而,本专利技术的目的还在于,利用上述简便的制造方法,通过廉价而简便地制造能够充分满足光学特性的光量调节构件,可以廉价地提供充分达到所需光学特性的具有光量调节构件的各种光量调节装置以及摄影装置。上述目的通过下面所述的本专利技术达到。即,根据本专利技术的光量调节构件的制造方法,其特征为,它包括以下工序:准备具有由能够吸收着色液的材料构成层的透明基材的工序,以及,通过液体喷射记录法赋予该层含有着色剂的着色液,形成具有特定光学浓度的光量调节区域的工序。此外,本专利技术的光量调节构件的制造方法的另一方案,其特征为包括以下工序:利用液体喷射记录法在透明基材上赋予至少含有透明树脂以及着色剂的着色液的工序,以及,将该树脂固化形成具有特定光学浓度的光量调节区域的工序。此外,根据本专利技术的光量调节构件,其特征为,它是利用前述光量调节构件的制造方法制造的。此外,根据本专利技术的光量调节装置,在调节通过具有规定开口直径开口部的光束的状态用的光量调节装置中,其特征为,它备有用于给予前述光束规定透射率的第一区域和用于遮断前述光束的第二区域,并且前述第一区域由前述光量调节构件组成。进而,根据本专利技术的摄影装置,其特征为,它具有前述光量调节装置,形成被拍照物体像的摄影光学系统,将所形成的被拍照物体的像进行光电转换的摄像装置,以及记录进行过上述光电转换信号的记录装置,并且,上述光量调节装置被配置在摄影光学系统中。此外,本专利技术的光量调节构件制造方法的其它形式是可以简便地获得具有连续或者阶梯状浓度分布的光量调节构件的方法。附图说明图1是具有本专利技术光量调节构件的光圈叶片的图示。图2是采用图1所示光圈叶片的光量调节装置的图示。-->图3是装有图2所示光量调节装置的摄影装置的结构图。图4是具有阶梯状浓度梯度的光量调节构件的图示。图5是用于制造光量调节构件的研磨装置的示意结构图。具体实施方式下面,列举优选的实施方案进一步详细说明本专利技术。<第一方案>本专利技术光量调节构件的制造方法,其特征为,相对于具有由能够吸收着色液的材料构成的层的透明基材,利用液体喷射记录法赋予含有着色剂的着色液并使之保持在其上形成可以调节光束透过量的具有特定光学浓度的光量调节区域。其中,也可以在透明基材上形成由能够吸收着色液的材料构成的层的工序之后,接着进行形成着色层的工序。下面,对在透明基材上形成由能够吸收着色液的材料构成的层时所使用的涂布方法以及所使用的材料进行说明。为了在透明基材上形成能够保持着色液的层,首先,根据需要将后面所述的材料和其它添加剂一起,溶解或分散到水或者乙醇,多元醇类,或者其它适当的有机溶剂中,调制涂布液。然后,将获得的涂布液,例如用如下方法涂布到基材的表面上,所述涂布方法包括:辊涂布法,刮刀涂布法,气刀涂布法,门辊式涂布法,刮棒涂布法,施胶挤压法,喷涂法,凹板涂布法,帘式涂布法,旋转涂布法等。然后,利用热风干燥炉,热滚筒,加热板等进行干燥,形成能够吸收保持着色液的保持层。作为可以用于本专利技术中的透明基材,只要具有作为光量调节构件所需的机械强度以及光学特性等必要特性,没有特定的限制。例如,可以列举出由聚对苯二甲酸乙二醇酯,二乙酸酯,三乙酸酯,赛璐玢,赛璐珞,聚碳酸酯,聚酰亚胺,聚氯乙稀,聚偏氯乙烯,聚丙烯酸酯,聚乙烯,聚丙烯等构成的透明薄膜基材。此外,如果满足上述必要特性的话,也可以使用玻璃基材。此外,作为在上述透明基材上形成能够吸收着色液层时的涂布液-->材料,只要由该材料形成的层能够吸收着色液、并且能够保持和固定该着色液中的着色剂即可,没有特定的限制,但优选使用下面列举的水溶性树脂和水分散性树脂。作为水溶性树脂,例如,可以列举出:聚乙烯醇、阴离子改性聚乙烯醇、阳离子改性聚乙烯醇、缩醛改性聚乙烯醇等聚乙烯醇的改性物;水性聚氨酯;聚乙烯吡咯烷酮、乙烯基吡咯烷酮和醋酸乙烯基酯共聚物、乙烯基吡咯烷酮和二甲基氨基乙基甲基丙烯酸的共聚物、季化乙烯基吡咯烷酮和二甲基氨基乙基甲基丙烯酸的共聚物、乙烯基吡咯烷酮和丙烯酸酰本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种光量调节构件的制造方法,其特征为,所述方法包括:准备具有由能够吸收着色液的材料构成的层的透明基材的工序,以及,通过液体喷射记录法赋予所述的层含有着色剂的着色液、形成具有特定光学浓度的光量调节区域的工序。

【技术特征摘要】
JP 2002-2-19 041623/2002;JP 2002-2-19 041634/20021.一种光量调节构件的制造方法,其特征为,所述方法包括:准备具有由能够吸收着色液的材料构成的层的透明基材的工序,以及,通过液体喷射记录法赋予所述的层含有着色剂的着色液、形成具有特定光学浓度的光量调节区域的工序。2.如权利要求1所述的光量调节构件的制造方法,所述光量调节区域以具有连续的或者阶梯状的浓度分布的方式赋予着色液。3.如权利要求1所述的光量调节构件的制造方法,还包括在形成前述光量调节区域后在前述光量调节区域表面上设置平坦化层的工序。4.如权利要求1所述的光量调节构件的制造方法,其中在所述层赋予着色液的方式为,由被赋予到着色层上的着色液所形成的着色液的一个点的面积,为所述光量调节区域面积的二十分之一以下。5.一种光量调节构件,是用权利要求1所述的光量调节构件的制造方法制造的。6.一种光量调节装置,是调节通过具有规定开口直径的开口部的光束状态的光量调节装置,其特征为,它具有用于给予所述光束规定透射率的第1区域,以及用于遮断所述光束的第2区域,并且,所述第1区域由权利要求5所述的光量调节构件构成。7.一种摄影装置,其特征为,它具有如下组成:权利要求6所述的光量调节装置;形成被拍照物体像的摄影光学系统;对所形成的被拍照物体像进行光电转换的摄像装置;以及记录上述光电转换信号的记录装置;并且,上...

【专利技术属性】
技术研发人员:宫崎健大贯一朗八岛正孝柏崎昭夫鲶江英利子
申请(专利权)人:佳能株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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