一种激光器及其激光退火设备制造技术

本实用新型专利技术提供一种激光器及其激光退火设备，所述激光器包括：激光发射组件；透镜系统，设置于所述激光发射组件之后，所述透镜系统包括：第一透镜阵列，其包括多个第一柱形透镜；光波导，设置于所述第一透镜阵列之后；第二透镜阵列，设置于所述光波导之后，其包括多个第二柱形透镜；移动挡板组件，设置于所述光波导和所述第二透镜阵列之间，并靠近所述第二透镜阵列的入射面一侧；第一聚光透镜，设置于所述第二透镜阵列之后；所述第二柱形透镜的曲率半径与所述第一柱形透镜的曲率半径不同。根据本实用新型专利技术提供的激光器可以避免透镜其本身因加工或组装带来的误差缺陷，提高激光退火晶化效果。化效果。化效果。

【技术实现步骤摘要】
一种激光器及其激光退火设备


[0001]本技术涉及激光阵列工程
，特别涉及一种具有误差补偿功能的透镜系统、误差补偿方法及激光器。

技术介绍

[0002]多晶硅薄膜晶体管(英文全称为PolycrystallineSiliconThinFilmTransistor，简称为p-SiTFT)相较于非晶硅薄膜晶体管(英文全称为AmorphousSiliconThinFilmTransistor，简称为a-SiTFT)而言，其具有电子迁移率高等特性，从而在有源矩阵显示技术中有重要的应用，例如在有机发光显示设备中，高迁移率的p-SiTFT为其提供了所需要的大电流。因此，p-Si薄膜对TFT显示器而言尤其重要。
[0003]目前，在现有技术过程中，一般利用激光退火晶化，即，由准分子激光器激发出激光束，激光束在经过透镜在扩束和会聚后，产生高能量入射到非晶硅薄膜表面，使得仅在薄膜表层产生热能效应，从而将a-Si转化为p-Si。但是由于激光光路控制非常复杂和敏感，例如透镜中不可避免的加工误差或组装误差均易导致激光束不能良好聚焦，使得激光束的能量强度分布不均匀，从而对结晶的效果产生影响。因此，提供一种激光器消消除激光光路中透镜的加工误差或组装误差的缺陷，提高激光退火晶化效果十分重要。

技术实现思路

[0004]鉴于以上所述现有技术的缺点，本技术的目的在于提供一种激光器，所述激光器可以消除激光光路中透镜的加工误差或组装误差的缺陷，使激光束良好聚焦，提高激光束的能量强度分布的均匀性，从而提高激光退火晶化效果。
[0005]本技术的另一个目的在于，提供一种激光退火设备。
[0006]为实现上述目的及其他相关目的，本技术提供一种激光器，所述激光器包括：激光发射组件；透镜系统，设置于所述激光发射组件之后，以调整所述激光发射组件发射的激光束的激光光路，所述透镜系统包括：第一透镜阵列，以将激光束按照预定方向进行分割，所述第一透镜阵列包括多个第一柱形透镜；光波导，设置于所述第一透镜阵列之后；第二透镜阵列，设置于所述光波导之后，所述第二透镜阵列包括多个第二柱形透镜；移动挡板组件，设置于所述光波导和所述第二透镜阵列之间，并靠近所述第二透镜阵列的入射面一侧，所述移动挡板组件的挡板上具有开口部，所述移动挡板组件沿所述第二透镜阵列的长度方向移动；第一聚光透镜，设置于所述第二透镜阵列之后，以将分割后的激光束聚焦；其中，所述第二柱形透镜的曲率半径与所述第一柱形透镜的曲率半径不同，以补偿所述第一透镜阵列的误差，矫正所述激光光路，所述分割后的激光束在预定位置聚焦。
[0007]在一些实施例中，所述第一柱形透镜的曲率半径为0.5-5mm。
[0008]在一些实施例中，所述第二柱形透镜的曲率半径为0.3-5mm。
[0009]在一些实施例中，所述移动挡板的开口部的大小与所述第二柱形透镜的入射面相匹配。
[0010]在一些实施例中，所述移动挡板组件包括：支架，所述第二透镜阵列支架设置于所述支架上；驱动电机，设置于所述支架上；滑轨组件，设置于所述支架上，并于所述驱动电机传动连接；挡板，连接所述滑轨组件，所述开口部开设于所述挡板上，所述挡板靠近所述第二透镜阵列的入射面；所述移动挡板组件通过所述驱动电机和所述滑轨组件沿所述第二透镜阵列的长度方向移动。
[0011]在一些实施例中，所述透镜系统还包括第二聚光透镜，设置于所述第一透镜阵列和光波导之间。
[0012]在一些实施例中，所述激光器还包括一供气组件，以输送惰性气体。
[0013]在一些实施例中，所述激光器为准分子激光发射器。
[0014]在一些实施例中，所述准分子激光发射器输出波长为100nm～400nm。
[0015]本技术还提供一种激光退火设备，所述激光退火设备包括：承载台，所述承载台用于固定待退火基板；激光器，位于所述承载台的上方，以对所述待退火基板进行退火，所述激光器包括：激光发射组件；透镜系统，设置于所述激光发射组件之后，以调整所述激光发射组件发射的激光束的激光光路，所述透镜系统包括：第一透镜阵列，以将激光束按照预定方向进行分割，所述第一透镜阵列包括多个第一柱形透镜；光波导，设置于所述第一透镜阵列之后；第二透镜阵列，设置于所述光波导之后，所述第二透镜阵列包括多个第二柱形透镜；移动挡板组件，设置于所述光波导和所述第二透镜阵列之间，并靠近所述第二透镜阵列的入射面一侧，所述移动挡板组件的挡板上具有开口部，所述移动挡板组件沿所述第二透镜阵列的长度方向移动；第一聚光透镜，设置于所述第二透镜阵列之后，以将分割后的激光束聚焦；其中，所述第二柱形透镜的曲率半径与所述第一柱形透镜的曲率半径不同，以补偿所述第一透镜阵列的误差，矫正所述激光光路，所述分割后的激光束在预定位置聚焦；驱动装置，连接所述激光器。
[0016]本技术提供了一种激光器及其激光退火设备。所述激光器包括激光发射组件和具有误差补偿功能的透镜系统，所述具有误差补偿功能的透镜系统利用多个透镜以及光波导相互补充配合，避免透镜其本身因加工或组装带来的误差缺陷，从而校正激光光路的路径，使得激光束可以进行良好地分裂和会聚，叠加在同一表面上，激光束具有均匀的强度分布，进一步地在进行晶化退火时，将可以将非晶硅薄膜a-Si转化为多晶硅薄膜p-Si。其余的特征和益处还可以参考本申请公开在内的权利要求书和说明书中的内容。
附图说明
[0017]图1显示为本技术的激光退火设备的结构示意图。
[0018]图2显示为本技术的激光器的结构示意图。
[0019]图3显示为本技术的激光器在进行退火时的状态示意图。
[0020]图4显示为本技术的透镜系统的一具体实施方式的侧视图。
[0021]图5显示为图4中的俯视图。
[0022]图6显示为光波导的一具体实施方式的结构示意图。
[0023]图7显示为本技术的透镜系统的另一具体实施方式的侧视图。
[0024]图8显示为图6中的俯视图。
[0025]图9显示为本技术的移动挡板组件的结构示意图。
具体实施方式
[0026]以下通过特定的具体实例说明本技术的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本技术的其他优点与功效。本技术还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本技术的精神下进行各种修饰或改变。
[0027]在本技术中，需要说明的是，如出现术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等，其所指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，如出现术语“第一”、“第二”仅用于描述和区分目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[002本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种激光器，其特征在于，所述激光器包括：激光发射组件；透镜系统，设置于所述激光发射组件之后，以调整所述激光发射组件发射的激光束的激光光路，所述透镜系统包括：第一透镜阵列，以将激光束按照预定方向进行分割，所述第一透镜阵列包括多个第一柱形透镜；光波导，设置于所述第一透镜阵列之后；第二透镜阵列，设置于所述光波导之后，所述第二透镜阵列包括多个第二柱形透镜；移动挡板组件，设置于所述光波导和所述第二透镜阵列之间，并靠近所述第二透镜阵列的入射面一侧，所述移动挡板组件的挡板上具有开口部，所述移动挡板组件沿所述第二透镜阵列的长度方向移动；第一聚光透镜，设置于所述第二透镜阵列之后，以将分割后的激光束聚焦；其中，所述第二柱形透镜的曲率半径与所述第一柱形透镜的曲率半径不同，以补偿所述第一透镜阵列的误差，矫正所述激光光路，所述分割后的激光束在预定位置聚焦。2.根据权利要求1所述的激光器，其特征在于，所述第一柱形透镜的曲率半径为0.5-5mm。3.根据权利要求2所述的激光器，其特征在于，所述第二柱形透镜的曲率半径为0.3-5mm。4.根据权利要求3所述的激光器，其特征在于，所述移动挡板的开口部的大小与所述第二柱形透镜的入射面相匹配。5.根据权利要求1所述的激光器，其特征在于，所述移动挡板组件包括：支架，所述第二透镜阵列支架设置于所述支架上；驱动电机，设置于所述支架上；滑轨组件，设置于所述支架上，并于所述驱动电机传动连接；挡板，连接所述滑轨组件，所述开口部开设于所述挡板上，所述挡板靠近所述第二透镜阵列的入射面；所述移动挡板组件通过所述驱动电机和...

【专利技术属性】
技术研发人员：袁明峰，朱鹏程，凌步军，冯高俊，赵有伟，滕宇，孙月飞，吕金鹏，冷志斌，
申请(专利权)人：江苏亚威艾欧斯激光科技有限公司，
类型：新型
国别省市：