一种半导体生产用离子清洗机制造技术

本实用新型专利技术公开了一种半导体生产用离子清洗机，具体涉及半导体生产技术领域，包括机体，所述机体的两侧外壁上设置有多组载物件，所述机体的前表面设置有显示屏，所述机体的前表面靠近显示屏一侧设置有真空室，所述真空室的内部设置有压合件。本实用新型专利技术中利用自动复位的压网，从而带动压网压合在半导体产品上，能够较为快速进行限位固定，保证了其在清洗作业中的稳定性，不会由于冲击力而导致发生四处乱窜的现象，从而使得离子清洗的更加干净，并且能够对不同规格型号的产品进行限位，使用范围较为广阔，具备较高的实用性。具备较高的实用性。具备较高的实用性。

【技术实现步骤摘要】
一种半导体生产用离子清洗机


[0001]本技术涉及半导体生产
，更具体地说，本技术涉及一种半导体生产用离子清洗机。

技术介绍

[0002]半导体是一种电导率在绝缘体至导体之间的物质，其电导率容易受控制，可作为信息处理的元件材料。从科技或是经济发展的角度来看，半导体非常重要。很多电子产品，如计算机、移动电话、数字录音机的核心单元都是利用半导体的电导率变化来处理信息。常见的半导体材料有硅、锗、砷化镓等，而硅更是各种半导体材料中，在商业应用上最具有影响力的一种，半导体在生产的过程中，需要使用到离子清洗机。
[0003]但是其在实际使用时，仍旧存在较多缺点，半导体产品种类较多，在清洗的时候由于冲击力较大，容易导致四处乱窜的现象，不容易对其进行清洗。

技术实现思路

[0004]为了克服现有技术的上述缺陷，本技术的实施例提供一种半导体生产用离子清洗机，通过利用自动复位的压网，从而带动压网压合在半导体产品上，能够较为快速进行限位固定，保证了其在清洗作业中的稳定性，不会由于冲击力而导致发生四处乱窜的现象，并且能够对不同规格型号的产品进本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种半导体生产用离子清洗机，包括机体(1)，其特征在于：所述机体(1)的两侧外壁上设置有多组载物件(2)，所述机体(1)的前表面设置有显示屏(3)，所述机体(1)的前表面靠近显示屏(3)一侧设置有真空室(4)，所述真空室(4)的内部设置有压合件(5)，所述真空室(4)的内部设置有离子喷头；所述压合件(5)包括有置于机体(1)内部的底板(51)，所述底板(51)上表面的两端沿竖直方向上设置有固定杆(52)，所述固定杆(52)外部套有弹簧(53)，所述弹簧(53)顶端固定安装有活动环(54)，所述活动环(54)的侧表面设置有侧板(55)，所述侧板(55)的侧表面沿水平方向上安装有导轨(56)，两组所述侧板(55)之间安装有压网(57)，所述压网(57)的端部安装有滑动块(58)。2.根据权利要求1所述的一种半导体生产用离子清洗机，其特征在于：所述弹簧(53)的一端与底板(51)表面相连接，所述弹簧(53)的另一端与活动环(54)相连接，所述活动环(54)与固定杆(52)之间通过滑动方式相连接。3.根据权利要求1所述的一种...

【专利技术属性】
技术研发人员：张文翰，
申请(专利权)人：深圳市星曜微半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：