一种液晶分子的排列方法技术

本发明专利技术属于制作液晶显示器件领域，在形成电极的ＩＴＯ玻璃表面上均匀涂敷一层聚酰亚胺薄膜，以激光器作为刻蚀光源，用双平面反射镜干涉装置，在聚酰亚胺薄膜上刻蚀出规整沟槽，使液晶分子定向排列。可用于各种液晶显示器件，如ＡＭ－ＬＣＤ（有源矩阵液晶显示器）、ＴＮ－ＬＣＤ（扭曲向列相液晶显示器）、ＳＴＮ－ＬＣＤ（超扭曲向列相液晶显示器）、ＧＨ－ＬＣＤ（宾主效应液晶显示器）、ＥＣＢ－ＬＣＤ（电控双折射效应液晶显示器）等。（*该技术在2015年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于制作液晶显示器件领域，可用于各种液晶器件，如AM-LCD(有源矩阵液晶显示器)、TN-LCD(扭曲向列相液晶显示器)、STN-LCD(超扭曲向列相液晶显示器)、GH-LCD(宾主效应液晶显示器)、ECB-LCD(电控双折射效应液晶显示器)等。目前，在各种模式的液晶显示器件中，大多需要对液晶分子作取向处理。液晶分子的排列控制不仅对于液晶物性的研究，而且在液晶显示元件的构成上也是一种必需的技术(参见《液晶器件手册》，P247-265，黄锡珉等译，航空工业出版社)。液晶分子取向处理的方法有很多，当前使用的主要有两种，一是倾斜蒸镀SiO2、MgF等无机膜使液晶分子取向；二是摩擦高分子有机膜层使液晶分子在上面定向排列(参见《液晶の基础と应用》，P69-77(1991)，松本正一、角田市良著，日本株式会社工业调查会)。这两种方法都有许多自身的无法克服的缺点1.蒸镀SiO2、MgF等无机取向膜，受设备条件限制，蒸镀面积较小，成本高，难以实现批量生产。2.倾斜蒸镀和摩擦工艺产生的表面沟槽不易控制，难以得到精良的取向质量。3.摩擦有机膜方法易产生机械划伤，影响显示质量。4.摩擦有机膜方法易产生灰尘和静电等许多不利因素，对TFT-LCD器件质量影响尤其严重。本专利技术的目的是提供，可避免上述缺点。为了实现上述目的，本专利技术在形成电极的ITO玻璃表面上均匀涂敷一层聚酰亚胺薄膜，以激光器作为刻蚀光源，用双平面反射镜干涉装置，在聚酰亚胺薄膜上刻蚀出规整沟槽，使液晶分子定向排列。由公式ΔL＝λ/2sinθ(ΔL为沟槽宽度，λ为光波长，θ为镜面夹角)改变激光器功率可控制沟槽的深浅，以确定预倾角度。本专利技术的优点在于1.可以很好地控制液晶分子的取向效果。2.工艺过程中不接触取向层，有效地防止了机械损伤。3.工艺过程中不产生静电和灰尘，有利于提高器件的显示质量，特别适合于TFT-LCD。4.可实现0°-20°的预倾角，适合批量生产。下面结合附图和实施例对本专利技术作详细描述。附图说明图1是本专利技术的示意图。图中(1)-激光器；(2)，(3)-反射镜；(4)-聚酰亚胺薄膜；(5)-玻璃基片。实施例1、TN-LCD将聚酰亚胺溶液涂敷在已有图形的ITO玻璃基片(5)上，200℃烘烤一小时成聚酰亚胺薄膜(4)，以20W氩离子激光器(1)为刻蚀光源进行刻蚀，成盒后得到预倾角为3°的正性TN液晶显示器件。实施例2、STN-LCD以40W氩离子激光器为刻蚀光源进行刻蚀，其余条件同实施例1，成盒后得到预倾角为15°的STN液晶显示器件。实施例3、TFT-LCD在有源矩阵的ITO玻璃基片上制备取向层，取向处理，其余条件同实施例1，成盒后得到TFT-LCD显示器件。权利要求1.，其特征是在形成电极的ITO玻璃表面上均匀涂敷一层聚酰亚胺薄膜，以激光器作为刻蚀光源，用双平面反射镜干涉装置，在聚酰亚胺薄膜上刻蚀出规整沟槽，使液晶分子定向排列。全文摘要本专利技术属于制作液晶显示器件领域，在形成电极的ITO玻璃表面上均匀涂敷一层聚酰亚胺薄膜，以激光器作为刻蚀光源，用双平面反射镜干涉装置，在聚酰亚胺薄膜上刻蚀出规整沟槽，使液晶分子定向排列。可用于各种液晶显示器件，如AM-LCD(有源矩阵液晶显示器)、TN-LCD(扭曲向列相液晶显示器)、STN-LCD(超扭曲向列相液晶显示器)、GH-LCD(宾主效应液晶显示器)、ECB-LCD(电控双折射效应液晶显示器)等。文档编号G02F1/13GK1144911SQ9510682公开日1997年3月12日 申请日期1995年6月6日 优先权日1995年6月6日专利技术者荆海, 黄锡珉, 马凯, 马仁祥, 朱希玲, 马振军, 于涛, 郭建新, 吴声 申请人:中国科学院长春物理研究所本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种液晶分子的排列方法，其特征是在形成电极的ＩＴＯ玻璃表面上均匀涂敷一层聚酰亚胺薄膜，以激光器作为刻蚀光源，用双平面反射镜干涉装置，在聚酰亚胺薄膜上刻蚀出规整沟槽，使液晶分子定向排列。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：荆海，黄锡珉，马凯，马仁祥，朱希玲，马振军，于涛，郭建新，吴声，
申请(专利权)人：中国科学院长春物理研究所，
类型：发明
国别省市：22[中国|吉林]