工艺设计工具包开发方法、装置、电子设备及存储介质制造方法及图纸

本公开提供一种工艺设计工具包开发方法，包括：基于多个电子设计自动化工具平台的底层函数库构建标准工艺设计工具包；对照预设工艺设计工具包的设置信息，修正所述标准工艺设计工具包的设置信息，得到目标工艺设计工具包。以多电子设计自动化工具平台为基础开发组件，提高工艺设计工具包的复用性，以预设工艺设计工具包为标准，验证修正相关组件，保证多工具平台下工艺数据的一致性。平台下工艺数据的一致性。平台下工艺数据的一致性。

【技术实现步骤摘要】
工艺设计工具包开发方法、装置、电子设备及存储介质


[0001]本公开涉及集成电路设计自动化领域，具体涉及一种工艺设计工具包开发方法、装置、电子设备及存储介质。

技术介绍

[0002]工艺设计工具包(PDK，Process Design Kit)是基于集成电路(IC，Integrated Circuit)生产工艺而开发的一整套包括器件信息、工艺信息和验证文件的设计数据包，也是工艺信息、IC设计方法、电子设计自动化(EDA，Electronics Design Automation)技术集合的有形载体。
[0003]随着芯片技术的不断发展，每个芯片生产厂都有众多不同的工艺线，为了有效地促进IC生产工艺的使用，必须建立与不同工艺线相对应的PDK，把生产工艺完整准确的迁移到EDA工具平台，保证芯片设计者获取到准确的工艺信息。不同的EDA平台电各自拥有不同的EDA工具，不同EDA工具之间的数据标准和底层函数不兼容。除此之外，PDK涵盖的内容组件繁多，后期对PDK进行更新和维护工作量也变得异常复杂。因此，为了让IC设计者能选择更多EDA工具进行芯片本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种工艺设计工具包开发方法，其特征在于，包括：基于多个电子设计自动化工具平台的底层函数库构建标准工艺设计工具包；对照预设工艺设计工具包的设置信息，修正所述标准工艺设计工具包的设置信息，得到目标工艺设计工具包。2.根据权利要求1所述的工艺设计工具包开发方法，其特征在于，所述基于多个电子设计自动化工具平台的底层函数库构建标准工艺设计工具包，包括：基于Open Access数据库，构建多个共用组件；基于多个电子设计自动化工具平台的底层函数库，构建所多个强相关组件；将所述多个共用组件和所述多个强相关组件集成打包，生成所述标准工艺设计工具包。3.根据权利要求2所述的工艺设计工具包开发方法，其特征在于，所述多个共用组件包括Symbol View、CDF参数、Layout View和工艺文件；所述多个强相关组件包括器件网表和回调函数。4.根据权利要求1所述的工艺设计工具包开发方法，其特征在于，所述对照预设工艺设计工具包的设置信息，修正所述标准工艺设计工具包的设置信息，包括：利用所述标准工艺设计工具包生成实际电路原理图和实际版图，及利用预设工艺设计工具包生成参考电路原理图和参考版图；对照所述参考电路原理图，修正所述实际电路原理图，得到修正后的实际电路原理图；对照所述参考版图，修正所述实际版图，得到修正后的实际版图；对所述修正后的实际电路原理图和所述修正后的实际版图进行物理规则检查和原理图与版图一致性检查。5.根据权利要求4所述的工艺设计工具包开发方法，其特征在于，所述对照所述参考电路原理图，修正所述实际电路原理图，包括：导出与所述实际电路原理图对应的实际网表文件，以及导出与所述参考电路原理图对应的参考网表文件；判断所述实际网表文件的定义参数与所述参考网表文件的定义参数是否相...

【专利技术属性】
技术研发人员：尹明会，陈岚，张卫华，周欢欢，王晨，
申请(专利权)人：中国科学院微电子研究所，
类型：发明
国别省市：