空间激光薄膜制备方法技术

本发明专利技术属于光学薄膜技术领域，具体涉及空间激光薄膜制备方法。该方法提出一种制备空间激光薄膜的全流程技术方案，包括去除基底表面污染物和亚表面缺陷、增加抗辐照保护层，基底上镀膜，明确了各环节的技术方案和实现途径，使用本发明专利技术制备的薄膜，基底表面及亚表面缺陷大大减少，薄膜折射率可达到体材料水平，在大气

【技术实现步骤摘要】
空间激光薄膜制备方法


[0001]本专利技术属于光学薄膜
，具体涉及空间激光薄膜制备方法。

技术介绍

[0002]随着人类对空间环境探测的不断深入，以及激光器不断发展，空间激光系统已成为航天任务中的重要工具。而光学薄膜作为光学系统中最为薄弱的元件之一，并且在轨运行中光学薄膜一旦发生损伤将无法修复或更换，因此它的稳定性和使用寿命对于整个系统来说至关重要。空间中有着不同于地面的真空、高低温交变、高能粒子辐照等特殊环境因素，对于空间应用的激光薄膜，不仅要能抵抗激光损伤，还要能在空间环境中有很好的稳定性，这对光学薄膜提出了更高的要求。
[0003]而传统电子束蒸发制备的激光薄膜结构疏松多孔，从地面到空间的过程中会发生较为严重的大气-真空效应和辐照损伤，造成薄膜材料的微观结构、应力及材料热力学参数发生变化，进而影响到宏观的光谱性能和抗激光损伤性能，因此不适用于空间环境。
[0004]此外，基底的表面缺陷和亚表面缺陷也极大地限制了薄膜的激光损伤阈值，通常使用的超声清洗无法有效去除基底杂质，需要HF等化学刻蚀方法或离子束刻蚀方法才能有效本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.空间激光薄膜制备方法，其特征在于该方法包含以下步骤：(1)去除基底表面污染物和亚表面缺陷；(2)选择SiO2、Al2O3和MgF2中的一种作为抗辐照保护层，并在基底上镀膜。2.根据权利要求1所述的空间激光薄膜制备方法，其特征在于：所述步骤(1)的具体步骤为(1.1)将基底经过超声清洗10～30min，再用去离子水冲洗，最后用高纯氮气吹干；(1.2)对基底进行氢氟酸刻蚀或离子束刻蚀，刻蚀深度为180-220nm。3.根据权利要求1所述的空间激光薄膜制备方法，其特征在于：所述基底材料为抗空间辐照基底材料，如石英玻璃。4.根据权利要求1所述的空间激光薄膜制备方法，其特征在于：所述激光薄膜是由SiO2、Al2O3、MgF2、TiO2、Ta2O5、ZrO2、HfO2、Nb2O5中的一种或多种组成的单层膜或多层膜。5.根据权利要求1所述的空间激光薄膜制备方法，其特征在于：步骤(2)中的抗辐照保护层位于入射介质层上面，其中SiO2、MgF2适用于紫外波段，Al2O3适用于可见和红外波...

【专利技术属性】
技术研发人员：王胭脂，王志皓，张宇晖，陈瑞溢，许贝贝，朱晔新，赵娇玲，邵宇川，易葵，贺洪波，邵建达，
申请(专利权)人：中国科学院上海光学精密机械研究所，
类型：发明
国别省市：