平板处理设备制造技术

一种平板处理设备，其包括一可承载诸如液晶显示器的玻璃基板等平板产品的承载平台；一光源，其设置于承载平台的一端，用于照射承载平台上的基板；以及一反射镜，其设置于承载平台的相对光源的另一端，以将该承载平台上的基板所反射的光线进行二次反射，并使该光线反射至操作者眼中。这样，操作者可以在操作过程中清楚地看到承载平台上的基板表面的处理状况，例如表面是否清洁干净，以利于对该平板产品的作业。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种平板处理设备，尤其涉及一种可以清楚观察平板表面情况、便于对平板进行处理作业的平板处理设备。
技术介绍
公知的平板产品，例如液晶显示器所使用的玻璃基板等，在其制造过程中通常需要进行各种处理，例如以玻璃基板封装液晶、在基板上贴附彩色滤光片、在已贴附滤光片的基板上贴附偏光片、组装成背光板等。图1所示为公知的平板(例如，液晶面板)处理设备101，其用于处理液晶显示器所使用的玻璃基板。平板处理设备101具有倾斜设置的承载平台102，待处理的基板103放置于承载平台102上。承载平台102的顶端设置有一平面光源104，用于照亮基板103，以便进行相关作业。由于一般基板103的尺寸比较大，因此将承载平台102倾斜设置；如果基板103呈水平放置，则会使操作者105不易进行清洁基板和贴附偏光片等处理。此外，如果基板103呈水平放置，则操作者因必须弯腰处理而比较容易疲劳。因此，为了便于站立作业的操作者105能方便地在基板103上进行各种处理工作，一般将该承载平台102设置为倾斜的。在基板103贴附偏光片时，由于对基板103表面的清洁度要求很高，而且要求偏光片与基板103之间必须紧密贴合不能出现气泡，所以操作者105必须能够清楚看到基板103整个表面的情况，以确保基板103的整个表面完全清洁，也就是确保在偏光片与基板103之间不会存在异物或者气泡。如前所述，由于现有的平板处理设备101的承载平台102是倾斜的，这样承载平台102上方的平面光源104所发出的光照射到基板103上时，光线经基板103反射之后，有些光线无法进入站立作业的操作者105眼中；换言之，操作者105可能无法看到基板103某些区域的表面情况，这样在基板103贴附偏光片的过程中，在操作者无法看到的区域可能出现偏光片与基板103之间存在异物或者气泡的不良情况。因此，有必要提供一种方案，以克服和改进公知技术的上述缺陷。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术的目的在于提供一种平板处理设备，其能够使操作者清楚地观察到整个平板表面，以便于对平板进行作业。依据本专利技术的上述目的，本专利技术提供一种平板处理设备，其包括一可承载待处理平板的承载平台；一光源，其设置于该平板处理设备的承载平台的一端，用于照射该平板处理设备的承载平台；以及一反射镜，其设置于该平板处理设备的承载平台的相对的另一端，以将该平板所反射的光线进行二次反射，从而使光线进入操作者眼中。前述反射镜设置为可调整其角度，以保证将光线反射至操作者眼中。本专利技术还提供一种偏光片贴附设备，用于将偏光片贴附于面板，其包括承载平台，其用于承载待处理的面板；光源，其设置于该承载平台的一端，用于照射该承载平台上的面板；以及反射镜，其设置于该承载平台的相对另一端，以将该面板所反射的光线进行二次反射。前述反射镜包括一镜片固定件，该镜片固定件通过一枢轴固定于一支架上，该反射镜可绕支架转动而调整角度。与公知技术相比，采用本专利技术的平板处理设备，操作者可以在操作过程中清楚地看到承载平台上的平板表面的清洁情况，因此在处理平板产品时，例如在给液晶面板的基板贴附偏光片时，不会产生偏光片与基板之间存在异物或者气泡的不良情况，有利于提高产品的合格率。附图说明图1是公知的液晶面板处理设备的示意图；图2是本专利技术的平板处理设备的示意图；图3是本专利技术的平板处理设备的光源与承载平台的距离设定示意图；图4是本专利技术的平板处理设备的反射镜的镜片固定件的示意图；图5是本专利技术的平板处理设备的反射镜支架的示意图。其中，附图标记说明如下 101平板处理设备102承载平台 103基板 104光源105操作者 1平板处理设备2承载平台 21挡板22定位件 3基板4光源 41灯管42反射罩 402最内侧光线401最外侧光线 5反射镜51镜片固定件 511转轴 52支架 521螺孔522固定孔 6操作者具体实施方式请参阅图2，本专利技术的平板处理设备1包括一承载平台2，其上表面为一倾斜面。承载平台2为一个垂直于图面的纵长平台，图中仅示出其侧面示意图。前述倾斜面的倾角α的大小以方便操作者6对平板处理设备上的产品进行操作为宜。根据本专利技术的优选实施例，参照液晶面板的尺寸，倾角α为60±5°。在承载平台2的底部设置有一超出承载平台2表面的挡板21，在承载平台2的两侧分别设置一个定位件22；这样一来，当待处理的基板3放置于该承载平台2的表面时，即可从承载平台2的底部和两侧来限制基板3，以防止基板3从承载平台2掉落。在承载平台2的一端的上方设置有一个与承载平台长度近似相同的光源4。光源4包括一纵长灯管41以及一反射灯罩42。反射灯罩42可将纵长灯管41的光线汇聚成近似带状平行光的光线，以照射放置于承载平台2上的基板3。带状平行光的照射范围由反射罩42与灯管41共同决定，其中照射的长度由灯管41的长度决定。在本实施例中，灯管41的长度与承载平台2的长度相等；带状平行光照射的宽度则受到反射罩的大小影响，反射罩42越大，则平行光的宽度越大。请同时参阅图2与图3，由于光源4的光线经反射罩42反射后汇聚为近似带状平行光，用来照亮承载平台2。若光源4距离承载平台2表面过远，则当带状平行光光线照射到承载平台2的远离灯管41的一端的表面时，承载平台2靠近灯管41一端的表面不能被带状平行光线同时照射到。因此，根据本专利技术的实施例，反射罩42的反射面上最靠近承载平台2的点与承载平台2表面的距离不超过2cm。另外，带状平行光照射承载平台2的角度不宜过大，即带状平行光的、靠近该承载平台2的最外侧光线401与承载平台2表面形成的夹角不宜过大，因为夹角过大会导致带状平行光只能照射到承载平台2的靠近光源的一端的表面，而无法照射承载平台2远离光源4的一端的表面。如图3所示，在优选实施例中，带状平行光的最外侧光线401与承载平台表面形成的夹角θ与光源4的带状平行光的宽度a与承载平台的宽度b之间需满足下面的公式sinθ≤a/b才能保证带状平行光能够照射整个承载平台2。在本实施例中，带状平行光的宽度a为1cm，承载平台的宽度为50cm；当该带状平行光的最外侧光线与承载平台表面的夹角为arcsin(0.02)时，光线恰好能照射承载平台2的整个表面。请继续参阅图2。根据本专利技术，平板处理设备1的承载平台2相对于前述光源的另一端的下方设置有一反射镜5，自光源4发射出的光线经过承载平台2上的基板3的反射之后会照射到反射镜5上，然后经过反射镜5，形成二次反射而进入操作者眼中，这样操作者6就可看到经过承载平台2上的基板3反射的光线，也就是可看到承载平台2上的基板3的表面情况。根据本专利技术的实施例，反射镜5是一矩形的高反射率镜片，其反射率优选地为大于或等于98％，其长度与承载平台2的长度优选地为实质上相同，其宽度可根据需要设定，在本实施例中其宽度为10～20cm。请同时参阅图2与图4，平板处理设备还包括一镜片固定件51，其用于固定该反射镜5。在本实施例中，镜片固定件51为一包裹镜片边缘及背面的镜框。请同时参阅图2与图5，平板处理设备可以还包括一支架52，支架52用于固定该反射镜5。在本实施例中，支架52为一三角架，其中，支架52的三角形底边的一端设置有两个螺孔521，可通过将螺钉穿过螺孔521而将该支架本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种平板处理设备，其包括：承载平台，用于承载待处理的平板；光源，其设置于该承载平台的一端，用于照射该承载平台上的平板；以及反射镜，其设置于该承载平台的相对另一端，以将该平板所反射的光线进行二次反射。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张军，
申请(专利权)人：友达光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[]