显示屏、显示装置及显示屏的制备方法制造方法及图纸

技术编号:27008622 阅读:21 留言:0更新日期:2021-01-08 17:15
本发明专利技术提供了一种显示屏、显示装置及显示屏的制备方法,涉及显示技术领域,该显示屏包括依次层叠设置的阵列基板、阳极层、发光层以及阴极层;发光层包括多个发光单元和用于隔离各发光单元的像素限定层,像素限定层为透明层;阴极层中设有与像素限定层对应的镂空区,镂空区具有半透光部以及贯穿所述阴极层的透光部。本发明专利技术通过透光部的设置可以提高与像素限定层对应的阴极层的透光率,从而提高感光元件获取图像的效果。此外,半透光部保证当射向感光元件的光线透过该镂空区时,大大减少出现相位或者振幅相长的情况,这样可以避免相位的叠加,减弱了衍射现象的产生,进而提高了感光元件获取的图像效果。

【技术实现步骤摘要】
显示屏、显示装置及显示屏的制备方法
本专利技术涉及显示
,尤其涉及一种显示屏、显示装置及显示屏的制备方法。
技术介绍
随着显示技术的飞速发展,全面屏显示已经成为手机等电子设备的发展趋势。为了实现全面屏显示,通常需要将摄像头设置在电子设备的显示屏的下方,从而形成屏下摄像头。OLED显示屏通常包括依次层叠设置的阵列基板、阳极层、发光层以及阴极层,其中,发光层包括多个发光单元和用于隔离各发光单元的像素限定层,由于像素限定层不发光,因此,为了提高阴极层的透光率,通常会利用刮刀或者其他工具,将阴极层与像素限定层相对应的部分去除,使得阴极层上形成多个间隔分布的条形通孔。虽然,上述的方式可以增加阴极层的透光率,相应地,也会增加光线的衍射率,降低屏下摄像头等感光元件获取的图像效果。
技术实现思路
鉴于上述问题,本专利技术实施例提供一种显示屏、显示装置及显示屏的制备方法,在提高阴极层的透光率的同时,也能降低射向感光元件的光线的衍射率,提高了感光元件获取的图像效果。为了实现上述目的,本专利技术实施例提供如下技术方案:本专利技术实施例的第一方面提供一种显示屏,其包括:依次层叠设置的阵列基板、阳极层、发光层以及阴极层;所述发光层包括多个发光单元和用于隔离各所述发光单元的像素限定层,所述像素限定层为透明层;所述阴极层中设有与所述像素限定层对应的镂空区,所述镂空区具有半透光部以及贯穿所述阴极层的透光部,所述透光部用于供射向感光元件的光线穿过,所述半透光部用于阻止射向感光元件的光线经过镂空区时产生衍射。如上所述的显示屏,其中,所述透光部由多个贯穿所述阴极层的通孔组成,且多个所述通孔不规则排列在所述镂空区内;相邻的所述通孔之间形成所述半透光部。如上所述的显示屏,其中,所述通孔为贯穿所述阴极层的狭缝,且所述狭缝的宽度不等。本专利技术实施例的第二方面提供一种显示装置,包括如上所述的显示屏,以及位于所述显示屏下方的感光元件,所述显示屏中的镂空区与所述感光元件对应。本专利技术实施例的第三方面提供一种显示屏的制备方法,包括:提供阵列基板;在所述阵列基板上形成阳极层;在所述阳极层上形成发光层,所述发光层包括多个发光单元和用于隔离各所述发光单元的像素限定层;在所述发光层上形成阴极层;去除所述阴极层中的部分区域,形成贯穿阴极层的透光部,且相邻的所述透光部之间形成半透光部,所述透光部和所述半透光部形成镂空区,所述镂空区与所述像素限定层对应。如上所述的显示屏的制备方法,其中,去除所述阴极层中的部分区域,形成贯穿阴极层的透光部,且相邻的所述透光部之间形成半透光部,所述透光部和所述半透光部形成镂空区,所述镂空区与所述像素限定层对应的步骤中包括:提供压印模板;在所述压印模板上形成第一光刻胶膜层;图形化所述第一光刻胶膜层,形成第一光刻胶掩膜图案,所述第一光刻胶掩膜图案包括第一掩膜区和第一蚀刻区;去除位于所述第一蚀刻区内的部分深度的所述压印模板,所述第一掩膜区对应的所述压印模板上形成压印图形,所述压印图形用于形成所述镂空区。如上所述的显示屏的制备方法,其中,去除位于所述第一蚀刻区内的部分深度的所述压印模板,所述第一掩膜区对应的所述压印模板上形成压印图形,所述压印图形用于形成镂空区的步骤包括:采用干法刻蚀或者湿法刻蚀去除与所述第一蚀刻区对应的部分深度的所述压印模板,形成与所述第一掩膜区对应的第一凸起;在所述第一凸起上形成压印图形。如上所述的显示屏的制备方法,其中,在所述第一凸起上形成压印图形的步骤包括:在所述第一凸起背离所述压印模板的表面上形成第二光刻胶膜层;图形化所述第二光刻胶膜层,形成第二光刻胶掩膜图案,所述第二光刻胶掩膜图案包括第二掩膜区和第二蚀刻区;去除与所述第二蚀刻区对应的部分深度的所述第一凸起,所述第二掩膜区对应的第一凸起上形成第二凸起,所述第二凸起用于形成所述镂空区的透光部。如上所述的显示屏的制备方法,其中,去除与所述第二蚀刻区对应的部分深度的所述第一凸起,所述第二掩膜区对应的第二凸起的步骤之后,还包括:提供加压设备,所述加压设备的输出端与所述压印模板连接,用于给所述压印模板提供压力,使压印模板的压印图形与像素限定层对应的阴极层形成冷焊粘结;移除压印模板,压印模板将与所述像素限定层对应的阴极层的部分区域剥离,在与所述像素限定层对应的阴极层上形成镂空区的透光部。如上所述的显示屏的制备方法,其中,所述压印模板的材质包括硅、硅化合物或者金属中的至少一种。本专利技术实施例所提供的显示屏、显示装置及显示屏的制备方法中,通过将与像素限定层对应的阴极层设置成镂空区,且镂空区内设有透光部,这样可以提高与像素限定层对应的阴极层的透光率,减少了射向感光元件的光线穿过与像素限定层对应的阴极层时的光线损失,从而提高感光元件获取图像的效果。此外,镂空区还具有阻挡相邻发光单元发射的光线穿过镂空区的半透光部,利用半透光部将相邻的透光部分割开,使得射向感光元件的光线越不容易出现相位或者振幅相长的情况,从而保证当射向感光元件的光线透过该镂空区时,大大减少出现相位或者振幅相长的情况,这样可以避免相位的叠加,减弱了衍射现象的产生,进而提高了感光元件获取的图像效果。除了上面所描述的本专利技术实施例解决的技术问题、构成技术方案的技术特征以及由这些技术方案的技术特征所带来的有益效果外,本专利技术实施例提供的显示屏、显示装置及显示屏的制备方法所能解决的其他技术问题、技术方案中包含的其他技术特征以及这些技术特征带来的有益效果,将在具体实施方式中作出进一步详细的说明。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本专利技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为相关技术中显示屏的结构示意图;图2为本专利技术实施例一提供的显示屏的结构示意图;图3为本专利技术实施例一提供的显示屏的一种俯视图;图4为本专利技术实施例一提供的显示屏的另一种俯视图;图5为本专利技术实施例一提供的镂空区的俯视图;图6为本专利技术实施例三提供的显示屏的制备方法的流程图一;图7为本专利技术实施例三提供的显示屏的制备方法的流程图二;图8为本专利技术实施例三提供的显示屏的制备方法的流程图三;图9为本专利技术实施例三提供的显示屏的制备方法的初始状态图;图10为本专利技术实施例三提供的显示屏的制备方法的最终状态图。附图标记:100:阵列基板;200:阳极层;300:发光层;310:发光单元;320:像素限定层;400:阴极层;500:镂空区;510:透光部;520:半透光部;600:压印模板;610:第一凸起;62本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示屏,其特征在于,包括依次层叠设置的阵列基板、阳极层、发光层以及阴极层;/n所述发光层包括多个发光单元和用于隔离各所述发光单元的像素限定层,所述像素限定层为透明层;/n所述阴极层中设有与所述像素限定层对应的镂空区,所述镂空区具有半透光部以及贯穿所述阴极层的透光部,所述透光部用于供射向感光元件的光线穿过,所述半透光部用于阻止射向感光元件的光线经过所述镂空区时产生衍射。/n

【技术特征摘要】
1.一种显示屏,其特征在于,包括依次层叠设置的阵列基板、阳极层、发光层以及阴极层;
所述发光层包括多个发光单元和用于隔离各所述发光单元的像素限定层,所述像素限定层为透明层;
所述阴极层中设有与所述像素限定层对应的镂空区,所述镂空区具有半透光部以及贯穿所述阴极层的透光部,所述透光部用于供射向感光元件的光线穿过,所述半透光部用于阻止射向感光元件的光线经过所述镂空区时产生衍射。


2.根据权利要求1所述的显示屏,其特征在于,所述透光部由多个贯穿所述阴极层的通孔组成,且多个所述通孔不规则排列在所述镂空区内;
相邻的所述通孔之间形成所述半透光部。


3.根据权利要求2所述的显示屏,其特征在于,所述通孔为贯穿所述阴极层的狭缝,且所述狭缝的宽度不等。


4.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1-3中任一项所述的显示屏,以及位于所述显示屏下方的感光元件,所述显示屏中的镂空区与所述感光元件对应。


5.一种显示屏的制备方法,其特征在于,包括如下步骤;
提供阵列基板;
在所述阵列基板上形成阳极层;
在所述阳极层上形成发光层,所述发光层包括多个发光单元和用于隔离各所述发光单元的像素限定层;
在所述发光层上形成阴极层;
去除所述阴极层中的部分区域,形成贯穿阴极层的透光部,且相邻的所述透光部之间形成半透光部,所述透光部和所述半透光部形成镂空区,所述镂空区与所述像素限定层对应。


6.根据权利要求5所述的显示屏的制备方法,其特征在于,去除所述阴极层中的部分区域,形成贯穿阴极层的透光部,且相邻的所述透光部之间形成半透光部,所述透光部和所述半透光部形成镂空区,所述镂空区与所述像素限定层对应的步骤中包括:
提供压印模板;
在所述压印模板上形成第一光刻胶膜层;
图形...

【专利技术属性】
技术研发人员:邢汝博刘如胜
申请(专利权)人:云谷固安科技有限公司
类型:发明
国别省市:河北;13

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