一种彩色射线成像板制备方法技术

一种彩色射线成像板制备方法；其包括红、蓝、绿纳米射线成像材料，反光层、树脂粘结剂、保护层；其特征在于分别将红、蓝、绿纳米射线探测材料按比例与树脂粘结剂混合后通过丝网印刷在反光层表面制备出矩阵式射线成像板，然后在成像板表面涂敷保护层就得到彩色成像板，将彩色成像板与TFT成像器件配合使用可以实现彩色射线成像器件。

【技术实现步骤摘要】
一种彩色射线成像板制备方法
本专利技术属医疗、工业、安检中X光成像

技术介绍
现有X光成像已经广泛用于医疗诊断的实时影像、大型安检成像等，现有成像传感器技术产品的结构主要是由：X光荧光板、无机半导体光传感元件、控制配套电路等组成，其中半导体光传感元件主要是非晶硅、非晶硒、CMOS、CCD等，这些的固态半导体器件形成复杂的矩阵感光像素平板，将荧光图像转为电信号，从而形成数字影像生成与存储。本专利技术一种彩色射线成像板制备方法；其包括红、蓝、绿纳米射线成像材料，反光层、树脂粘结剂、保护层；其特征在于分别将红、蓝、绿纳米射线探测材料按比例与树脂粘结剂混合后通过丝网印刷在反光层表面制备出矩阵式射线成像板，然后在成像板表面涂敷保护层就得到彩色成像板，将彩色成像板与TFT成像器件配合使用可以实现彩色射线成像器件。本专利技术可以用于医疗、工业、安检中X光成像
，也可以用于便携式三维立体X光成像，中子成像、质子成像等。
技术实现思路
一种彩色射线成像板制备方法；其包括红、蓝、绿纳米射线成像材料，反光层、树脂粘结剂、保护层；其特征在于分别将红、蓝、绿纳米射线探测材料按比例与树脂粘结剂混合后通过丝网印刷在反光层表面制备出矩阵式射线成像板，然后在成像板表面涂敷保护层就得到彩色成像板，将彩色成像板与TFT成像器件配合使用可以实现彩色射线成像器件。本专利技术中红色纳米射线探测材料为YOS；Eu；Sr，蓝色纳米射线探测材料为ZnS；Tl；Al，绿色纳米射线探测材料为GOS；Pr；Ce，通过调整材料之间的比例可以实现白光射线探测材料的制备。本专利技术中红色纳米射线探测材料为YOS；Eu；Sr的合成工艺：将Y2O3、Eu2O3、Sr2O3按重量比1：0.05:0.001称量后置于烧杯中，然后加入硝酸溶解完成后在电炉上加热挥发多余的硝酸，然后加入总重量500倍的去离子水稀释，冷却后加入100ml质量分数为10%-15%的EDTA溶液，置于微波反应釜中反应，反应完成后离心、水洗、干燥，然后再加入重量比3%-5%的高纯硫研磨均匀，置于气氛保护炉内反应，炉内通氮气保护，炉温设置200-500度；反应时间1-3小时，反应完成后水洗，干燥得到红色纳米射线探测材料，粒度分布300-500nm，发射波长630-660nm。本专利技术中蓝色纳米射线探测材料制备方式为：将金属铊用硝酸溶解制备成5x10-5g/ml的溶液，将Al2（SO4）3制备成2x10-4g/ml的溶液，然后按重量比1：0.005：0.01依次取ZnS、Tl离子溶液、Al离子溶液置于表面皿中，然后加入去离子水搅拌均匀后干燥得到前驱体，将干燥后的前驱体置于管式炉内，炉内通循环氩气，炉温设置500-800度，反应时间30-60min，反应结束将水洗干燥后所得到的材料进行表面硅化处理得到防潮性能优异的蓝色纳米射线探测材料，粒度分布500-600nm，发射波长430-480nm。本专利技术中绿色纳米射线探测材料制备方式为：将Gd2O3、Pr6O11、CeO2按重量比1：0.025:0.0001称量后置于烧杯中，然后加入硝酸溶解完成后在电炉上加热挥发多余的硝酸，然后加入总重量300倍的去离子水稀释，冷却后加入80ml质量分数为15%-30%的草酸溶液，置于微波反应釜中反应，反应完成后离心、水洗、干燥，然后再加入重量比3%-5%的高纯硫研磨均匀，置于气氛保护炉内反应，炉内通氮气保护，炉温设置300-600度；反应时间1-2小时，反应完成后水洗，干燥得到红色纳米射线探测材料，粒度分布400-600nm，发射波长510-530nm。本专利技术中的反光层为背光反射膜，置于成像板的背面，提高成像效率，树脂粘结剂为环氧树脂、聚苯胺、尼龙、纤维素中的一种或多种，保护层为UV油墨、聚丙烯酰胺油墨、氟硅树脂油墨中的一种或多种，在成像板表面起到防潮、抗刮的作用。本专利技术中一种彩色射线成像板制备方法；其特征在于将红、蓝、绿纳米射线探测材料按比例与树脂粘结剂混合，然后依次在反光层表面印刷上射线探测材料，制备出矩阵阵列成像板，然后在表面涂敷保护层，将矩阵阵列成像板与TFT成像模块结合可以制备出彩色成像器件，利用光电转换和图像处理系统可以实现射线器件的彩色成像，在医疗检测，CT成像，PET成像，海关安检领域有较好的应用前景。附图说明图1一种彩色射线成像板结构截面图图2一种彩色射线成像板结构平面图图3一种彩色射线成像板矩阵结构图图中结构为：1反光层，2射线成像层，3保护层，4射线矩阵阵列，5TFT矩阵，6红色射线探测材料，7蓝色射线探测材料，8绿色射线探测材料。具体实施方式一种彩色射线成像板制备方法；其包括1反光层，2射线成像层，3保护层，4射线矩阵阵列，6红色射线探测材料，7蓝色射线探测材料，8绿色射线探测材料其特征在于分别将红、蓝、绿纳米射线探测材料按比例与树脂粘结剂混合后通过丝网印刷在反光层表面制备出矩阵式射线成像板，然后在成像板表面涂敷保护层就得到彩色成像板，将彩色成像板与TFT成像器件配合使用可以实现彩色射线成像器件。本专利技术中红色纳米射线探测材料为YOS；Eu；Sr的合成工艺：将Y2O3、Eu2O3、Sr2O3按重量比1：0.05:0.001称量后置于烧杯中，然后加入硝酸溶解完成后在电炉上加热挥发多余的硝酸，然后加入总重量500倍的去离子水稀释，冷却后加入100ml质量分数为10%-15%的EDTA溶液，置于微波反应釜中反应，反应完成后离心、水洗、干燥，然后再加入重量比3%-5%的高纯硫研磨均匀，置于气氛保护炉内反应，炉内通氮气保护，炉温设置200-500度；反应时间1-3小时，反应完成后水洗，干燥得到红色纳米射线探测材料，粒度分布300-500nm，发射波长630-660nm。本专利技术中蓝色纳米射线探测材料制备方式为：将金属铊用硝酸溶解制备成5x10-5g/ml的溶液，将Al2（SO4）3制备成2x10-4g/ml的溶液，然后按重量比1：0.005：0.01依次取ZnS、Tl离子溶液、Al离子溶液置于表面皿中，然后加入去离子水搅拌均匀后干燥得到前驱体，将干燥后的前驱体置于管式炉内，炉内通循环氩气，炉温设置500-800度，反应时间30-60min，反应结束将水洗干燥后所得到的材料进行表面硅化处理得到防潮性能优异的蓝色纳米射线探测材料，粒度分布500-600nm，发射波长430-480nm。本专利技术中绿色纳米射线探测材料制备方式为：将Gd2O3、Pr6O11、CeO2按重量比1：0.025:0.0001称量后置于烧杯中，然后加入硝酸溶解完成后在电炉上加热挥发多余的硝酸，然后加入总重量300倍的去离子水稀释，冷却后加入80ml质量分数为15%-30%的草酸溶液，置于微波反应釜中反应，反应完成后离心、水洗、干燥，然后再加入重量比3%-5%的高纯硫研磨均匀，置于气氛保护炉内反应，炉内通氮气保护，炉温设置300-600度；反应时间1-2小时，反应完成后水洗，干燥得到红色纳米射线探测材料，粒度分布400-600nm，发射波本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种彩色射线成像板制备方法；其包括红、蓝、绿纳米射线成像材料，反光层、树脂粘结剂、保护层；其特征在于分别将红、蓝、绿纳米射线探测材料按比例与树脂粘结剂混合后通过丝网印刷在反光层表面制备出矩阵式射线成像板，然后在成像板表面涂敷保护层就得到彩色成像板，将彩色成像板与TFT成像器件配合使用可以实现彩色射线成像器件。/n

【技术特征摘要】
1.一种彩色射线成像板制备方法；其包括红、蓝、绿纳米射线成像材料，反光层、树脂粘结剂、保护层；其特征在于分别将红、蓝、绿纳米射线探测材料按比例与树脂粘结剂混合后通过丝网印刷在反光层表面制备出矩阵式射线成像板，然后在成像板表面涂敷保护层就得到彩色成像板，将彩色成像板与TFT成像器件配合使用可以实现彩色射线成像器件。


2.如权利要求1所述的一种彩色射线成像板制备方法；其特征在于所述的红色纳米射线探测材料为YOS；Eu；Sr，蓝色纳米射线探测材料为ZnS；Tl；Al，绿色纳米射线探测材料为GOS；Pr；Ce，通过调整材料之间的比例可以实现白光射线探测材料的制备。


3.如权利要求1所述的一种彩色...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭素文，郑岩，全丽华，陈君燕，耿树范，边静宇，费运启，陈磊，王露，
申请(专利权)人：上海科炎光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31