防眩性透明基体及具备该防眩性透明基体的显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种防眩性透明基体，其特征在于，具备由具有第1主面和第2主面的化学强化玻璃构成的透明基体，上述第1主面具备算术平均粗糙度Ra为0.05nm～2nm的第1平滑区域、以及具有比上述第1平滑区域的算术平均粗糙度Ra大的算术平均粗糙度Ra的第1粗面区域，所述第2主面在与所述第1平滑区域对置的区域的至少一部分具备算术平均粗糙度Ra为0.05nm～2nm的第2平滑区域。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】防眩性透明基体及具备该防眩性透明基体的显示装置
本专利技术涉及一种防眩性透明基体及具备该防眩性透明基体的显示装置。
技术介绍
导航系统、音频等车载用信息机器、携带通信机器具备显示装置。显示装置中在显示面板的前面介由粘接层设置有板状的透明基体即保护盖。保护盖具备降低外光反射、或保护显示面板免受外部冲击的功能。从强度、美观、辨识性的观点考虑，保护盖有时使用化学强化玻璃。另一方面，由于入射光，周围的景色有时会映在保护盖上。为了防止因入射光所致的映像，对保护盖的表面实施防眩处理(AG处理)来形成防眩性透明基体是有效的。防眩处理是在保护盖的表面形成微细的凹凸的处理。利用实施了防眩处理的表面，可以使入射的光发生散射，使映入的周围的景色变淡。从防止映入的观点考虑，防眩处理是有用的，但存在优选不将防眩处理设置在需要平滑的面的区域的情况。这是因为，指纹认证那样，在显示装置具备读取认证对象的立体形状的功能的情况下，认证部有可能会把由防眩处理形成的微细的凹凸误认为认证对象的立体形状的一部分。因此，提出了利用磨石研磨防眩处理后的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种防眩性透明基体，其特征在于，具备由包括第1主面和第2主面的化学强化玻璃构成的透明基体，/n所述第1主面具备：/n第1平滑区域，算术平均粗糙度Ra为0.05nm～2nm，以及/n第1粗面区域，具有比所述第1平滑区域的算术平均粗糙度Ra大的算术平均粗糙度Ra；/n所述第2主面在与所述第1平滑区域对置的区域的至少一部分具备算术平均粗糙度Ra为0.05nm～2nm的第2平滑区域。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180521 JP 2018-0969811.一种防眩性透明基体，其特征在于，具备由包括第1主面和第2主面的化学强化玻璃构成的透明基体，
所述第1主面具备：
第1平滑区域，算术平均粗糙度Ra为0.05nm～2nm，以及
第1粗面区域，具有比所述第1平滑区域的算术平均粗糙度Ra大的算术平均粗糙度Ra；
所述第2主面在与所述第1平滑区域对置的区域的至少一部分具备算术平均粗糙度Ra为0.05nm～2nm的第2平滑区域。


2.根据权利要求1所述的防眩性透明基体，其中，所述第1粗面区域的算术平均粗糙度Ra超过2nm且为1000nm以下。


3.根据权利要求1或2所述的防眩性透明基体，其中，所述第2主面还具备第2粗面区域，所述第2粗面区域具有比所述第2平滑区域的算术平均粗糙度Ra大的算术平均粗糙度Ra。


4.根据权利要求3所述的防眩性透明基体，其中，所述第2粗面区域的算术平均粗糙度Ra超过2nm且为1000nm以下。


5.根据权利要求1～4中任一项所述的防眩性透明基体，其中，将选自Al、B、Zr、Ti中的元素X与Si的原子组成比X/Si定义为Z，将所述第1粗面区域的原子组成比Z定义为Z1，将所述第1平滑区域的原子组成比Z定义为Z0时，Z1与Z0的比Z1/Z0为0～1.1。


6.根据权利要求1～5中任一项所述的防眩性透明基体，其中，所述第1粗面区域的...

【专利技术属性】
技术研发人员：波田野麻耶，金杉谕，尾关正雄，
申请(专利权)人：AGC株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP