用于制作大面积氧化层的设备制造技术

本实用新型专利技术是有关于一种可制作大面积氧化层的设备，其中更可适用于沉积组成均匀的光波导设备，包含有一燃烧器沉积装置与一限压抽气装置，其中燃烧器沉积装置于可加热基材的加热器上设有基材旋转机构，且加热器上方另设有一可使燃烧器上设有基材旋转机构，且加热器上方另设有一可使燃烧器与玻璃微粒抽气管同步移动的燃烧器抽气组，而设于一侧的限压抽气装置则透过水幕的设计，可使其排气的差压变动小于０．５ｍｍ－Ｈ↓［２］Ｏ，藉此可维持沉积腔室的压力稳定，使得燃烧器喷出的气流与抽气间维持层流之关系而将玻璃微粒均匀定速的沉积于基材上，且避免未直接沉积于基板的玻璃微粒沉积于温度较低的区域形成不同浓度的掺杂而造成光波导组成不均匀，同时让废气中的玻璃微粒被稳定的抽离，达到可供制作组成均匀的大面积光波导的目的，进而降低大面积光波导的光损失与制作成本，并增加其产能。（*该技术在2011年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术是应用于可制作大面积氧化层的设备，在本案中以制作光波导制作设备当实施例说明其适用于一种光波导制作设备的
，藉由燃烧器沉积装置与限压抽气装置间的特殊设计，而可制作大面积的光波导晶片；为因应目前整合型光积体电路元件越来越大的尺寸，因此大面积光波导晶片的需求乃不可或缺，本技术不仅克服改善现有转盘式光波导燃烧器沉积设备在制作大面积光波导时，因内外径速度差扩大而导致沉积组成及厚度不均匀，也改善以X-Y运动取代转盘式光波导燃烧器沉积设备于制作大面积光波导时基板加热器需加大而造成基板不易均温的缺点，藉以大幅提升光波导的制作产能与经济效益。又如美国专利公告第3,873,339号与台湾专利公告第339611号的“制造平面光学导波板的改良方法”等专利前案中，所提及的燃烧器沉积设备，则是让燃烧器呈固定位置，而让放置基材的盘体呈水平与垂直状的直线移动，如此虽然可克服上述专利案转盘沿径向速率不同的问题，然而为了使整个基材能沉积均匀的玻璃微粒，其下方的加热盘体必须与基材座加大至整个盘体运行的轨迹为止，如此才能不间断提供热能，满足制作大面积的需求，如此即需加大整个设备的体积，提高了设备成本，同时加热盘体加大后，其加热速度较慢，且加热不易均匀，一样会影响到玻璃微粒的沉积均一度。如台湾专利公告第243500号“光波导的制造方法(一)”与公告第263566号“光波导的制造方法(二)”等专利技术专利案中所提及的光波导设备，其中燃烧器沉积设备的燃烧器管与抽气管通常是呈独立设计，其并无法同步移动，而造成燃烧器移动至不同位置时其抽气量不均，如此也会使玻璃微粒的沉积厚度不同，另外由于一般的抽气马达很难保持稳定的差压，因此其差压会有震荡的现象发生，故其玻璃微粒的抽离一样无法均匀，无形间亦会影响到玻璃微粒的沉积厚度。经由上述的说明可知，现有光波导的设备，由于设计未尽完善，使其厚度均匀性受到相当的阻碍，无法完成大面积的光波导制作，而仅能运用于小面积的制作，造成产能低，而成本高的现象，再加上排气系统的不完善，更造成其玻璃微粒抽离不均匀的现象，一样会影响到产品的均匀性，因此如何解决这些问题，是目前业界所亟欲开发，也是本技术所欲追求探讨的。所以，本专利技术人乃藉由多年从事光波导制作与开发的实务经验，针对上述的问题深入的探讨，并积极寻求解决的方案，经过长期努力的研究与试作，终于成功的创作出一种用于制作大面积光波导的设备，以增进光波导的均匀性，并提高整体的产能。本技术的目的还可以通过以下措施来实现一种用于制作大面积氧化层的设备，其包含有一燃烧器沉积装置及一设于一侧的限压抽气装置；其特征在于一燃烧器沉积装置，该燃烧器沉积装置是于一密闭空间内设一加热器，且加热器设有一可将基材旋转的基材旋转机构，又加热器上设有一可与加热器接触的均热座，均热座上用以设置基材，且加热器上方设有一燃烧器抽气组，该燃烧器抽气组是由可同步动作的燃烧器管与抽气所组成；一限压抽气装置，该限压抽气装置则是设于一箱体侧壁利用一抽气主管连接燃烧器沉积装置的侧壁，且箱体顶面另设有一可将处理后废气排出的排气主管，又箱体底端与顶端间设有一输水用的输水管，输水管上段在箱体内部中央设有一可形成两层水幕的旋转机构；藉此，组构成一氧化层沉积均匀、且可用于制作大面积氧化层的设备。基材旋转机构是于加热器的一端形成有一透孔，且基材旋转机构是由一旋转缸及一伸缩缸所构成，其中旋转缸与伸缩缸可同时作动一透孔的伸杆，以供利用伸杆顶升旋转基材。其中，伸杆顶端设有一旋盘，以提升基材旋转时的稳定性。其中，该加热器上设有一框板，该框板中形成有一中空孔，其中均热座可置于该孔中并直接接触于加热器上，且该框板可带动均热座滑移于加热器上。其中，该框板底部两侧分别设有轨导座，该轨导座可滑设于分设在加热器两侧的滑轨上，使框板可贴近加热器滑移。其中，燃烧器抽气装置是设有一连接驱动装置的动作杆，动作杆对应框板的端部设有一横向的固定架，而燃烧器管与抽气管则是设于固定架的两端。其中，燃烧器抽气组的燃烧器喷口与基材表面间距离L1小于10cm，而抽气管开口与基材表面间距离L2小于5cm，又抽气管口径D1与抽气管开口至燃烧器管开口距离D2的比值为D1∶D2至少小于1。其中，燃烧器抽气组移动的速度V1与框板基材移动的速度V2的比值为V1/V2至少大于10。其中，限压抽气装置箱体的抽气主管与排气主管内分设有过滤装置，以提供过滤作用。其中，箱体下方另设有填加碱性液体的注液口。其中，输水管内设有抽动水源的泵浦。其中，输水管内设有一酸碱检测器，用来检测水中的酸碱值。其中，伸管上段向下延伸有一较小径且具有出水孔的伸管。其中，旋转机构是于伸管上枢设有一中空旋体，旋体上方于伸管上另设有一可形成第一道水幕覆片，另旋体侧壁分设有系列内部具导管的叶片管，且导管于叶片管中央形成喷水口，以利用离心力形成第二道水幕。其中，旋体上、下分设有上、下盖板。一种用于制作大面积氧化层的设备，其包含有一燃烧器沉积装置及一设于一侧的限压抽气装置；其特征在于一燃烧器沉积装置，该燃烧器沉积装置是于一密闭空间内设一加热器，且加热器设有一可将基材旋转的基材旋转机构，又加热器上设有一可与加热器接触的均热座，均热座上用以设置基材，且加热器上设有一燃烧器抽气组，该燃烧器抽气组是由可同步作动的燃烧器管与抽气所组成；藉此，组构成一氧化层沉积均匀、且可用于制作大面积氧化层的设备。其中，基材旋转机构是于加热器的一端形成有一透孔，且基材旋转机构是由一旋转缸及一伸缩缸所构成，其中旋转缸与伸缩缸可同时作动一透孔的伸杆，以供利用伸杆顶升旋转基材。其中，伸杆顶端设有一旋盘，以提升基材旋转时的稳定性。其中，加热器上设有一框板，该框板中形成有一中空孔，其中均热座可置于该孔中并直接接触于加热器上，且该框板可带动均热座滑移于加热器上。其中，该框板底部两侧分别设有轨导座，该轨导座可滑设于分设在加热器两侧的滑轨上，使框板可贴近加热器滑移。其中，燃烧器抽气装置是设有一连接驱动装置的动作杆，动作杆对应框板的端部设有一横向的固定架，而燃烧器管与抽气管则是设于固定架的两端。其中，燃烧器抽气组的燃烧器管喷口与基材表面间距离L1小于10cm，而抽气管开口与基材表面间距离L2小于5cm，又抽气管口径D1与抽气管开口至燃烧器管开口距离D2的比值为D1∶D2至少小于1。其中，燃烧器抽气组移动的速度V1与框板基材移动的速度V2的比值为V1/V2至少大于10。归纳上述的说明，藉由本用技术上述结构的设计，使本技术可均匀沉积玻璃微粒、并均匀的抽离废气中玻璃微粒，而达到可制作大面积基材的目的，并进一步提高产能，以及降低生产成本。图2是燃烧器沉积装置的立体分解图，其显示各组件的态样及其相对关系。图3是燃烧器沉积装置的侧视平面示意图。图4是燃烧器沉积装置的俯视平面示意图，显示燃烧器抽气组的移动状态。图5是燃烧器沉积装置的另一侧视平面示意图，用来显示基材旋转的态样。图6是燃烧器沉积装置的另一俯视平面示意图。图7是本技术限压抽气装置的平面示意图。图8是本技术抽气装置的立体分解图，说明其各组件的态样与相对位置。图9是本技术限压抽气装置的动作示意图。图号说明1.燃烧器沉积装置 10.加热器11.透孔15.基材旋转机构16本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于制作大面积氧化层的设备，其包含有一燃烧器沉积装置及一设于一侧的限压抽气装置；其特征在于：一燃烧器沉积装置，该燃烧器沉积装置是于一密闭空间内设一加热器，且加热器设有一可将基材旋转的基材旋转机构，又加热器上设有一可与加热器接触的均热 座，均热座上用以设置基材，且加热器上方设有一燃烧器抽气组，该燃烧器抽气组是由可同步动作的燃烧器管与抽气所组成；一限压抽气装置，该限压抽气装置则是设于一箱体侧壁利用一抽气主管连接燃烧器沉积装置的侧壁，且箱体顶面另设有一可将处理后废气排出的 排气主管，又箱体底端与顶端间设有一输水用的输水管，输水管上段在箱体内部中央设有一可形成两层水幕的旋转机构；藉此，组构成一氧化层沉积均匀、且可用于制作大面积氧化层的设备。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：武东星，洪瑞华，李明辉，
申请(专利权)人：武东星，
类型：实用新型
国别省市：71[中国|台湾]