【技术实现步骤摘要】
一种碱溶性光刻胶
本专利技术涉及光学材料领域，尤其涉及一种碱溶性光刻胶。
技术介绍
光刻胶是指通过紫外光曝光光源的照射或辐射使其在显影液中的溶解度发生变化的感光混合液体，是集成电路产业链的关键材料，主要应用于微电子和半导体分立器件的细微图形加工。光刻胶由成膜树脂、感光剂、助剂和溶剂等组成，其中成膜树脂是关键组成部分，能够发生光化学反应，决定光刻胶感光度，分辨率和溶解性。商品化的碱溶性碱溶性光刻胶主要为丙烯酸改性的环氧树脂，但此类树脂的脆性大，在显影时容易造成线条边缘粗糙(李虎.光刻胶用成膜树脂的合成及性能研究[D].)，而且成膜树脂中含有大量的油性官能团使得成膜树脂在硅片上的附着力较小。有文献报道，在光刻胶的成膜树脂中引入S、F等杂原子可以提高光刻胶的分辨率，但是目前针对两种或两种以上杂原子共同引入光刻胶成膜树脂分子链中对分辨率影响的研究鲜有报道。
技术实现思路
针对现有技术中存在的问题，本专利技术要解决的技术问题是：商品化的碱溶性碱溶性光刻胶主要为丙烯酸改性的环氧树脂，但此类树脂的脆性大...
【技术保护点】
1.一种碱溶性光刻胶，其特征在于，以重量份数计，包括以下成分：/n
【技术特征摘要】
1.一种碱溶性光刻胶，其特征在于，以重量份数计，包括以下成分：
2.根据权利要求1所述的一种碱溶性光刻胶，其特征在于：所述成膜树脂按照以下方法制备：
(1)将45mL丙烯酸叔丁酯、3g含Si可聚合材料、2g可聚合含P化合物、20mL丙烯酸-2-乙基己酯、15ml甲基丙烯酸丁酯、35mL甲基丙烯酸甲酯、20ml马来酸酐、3mL偶氮二异丁腈、2.5mL链转移剂和150mL丙二醇甲醚醋酸酯均匀混合后，设定反应温度为90℃，开动搅拌器，在氮气保护下充分反应，经红外检测反应体系中的双键消失后，停止反应，得到共聚物Ⅰ；
(2)将上述反应体系温度升高至115℃，加入0.2g对甲氧基酚、1g三苯基磷和50mL丙二醇甲醚醋酸酯中混合均匀，不断搅拌过程中将30mL甲基丙烯酸-2-羟基乙酯滴加到反应体系中，在10min内滴加完成，直到反应体系的酸值不再变化，反应结束，将反应溶液经丙酮溶解后，滴加到石油醚中沉淀，抽滤后再经丙酮溶解，沉淀，反复三次，最后置于30℃的真空干燥箱24h，即得到成膜树脂。
3.根据权利要求2所述的一种碱溶性光刻胶，其特征在于，所述含Si可聚合材料按照以下方法制备：
依次将8g纳米二...
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