氧化铝沉积设备及供气方法技术

本发明专利技术公开一种氧化铝沉积设备，包括三甲基铝储液仓、氩气源、以及依次连通的液体蒸发器控制系统、混气管和反应仓；所述三甲基铝储液仓具有送液管，所述送液管与所述液体蒸发器控制系统连通；所述氩气源具有并联设置的第一送气管和第二送气管；所述第一送气管与所述液体蒸发器控制系统连通，所述第二送气管与所述混气管连通，以向所述混气管中补入氩气，形成通入所述反应仓中的工艺气体。本发明专利技术还公开了一种供气方法。通过本发明专利技术不仅可以有效降低液体蒸发器控制系统的堵塞概率，而且还能提升镀膜片的品质和生产产能，同时提升沉积设备自动化上下料设备的开机速率。

【技术实现步骤摘要】
氧化铝沉积设备及供气方法
本专利技术涉及光伏电池生产设备
，尤其涉及一种氧化铝沉积设备及供气方法。
技术介绍
氧化铝镀膜技术广泛应用于晶硅太阳能电池、薄膜太阳能电池等新能源领域，现有的氧化铝镀膜技术主要有ALD(原子层沉积)法、CVD(化学气相沉积)法和溶胶凝胶等湿化学方法等，其中，CVD法应用广泛，CVD法是指把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应剂的蒸气及反应所需其它气体引入反应室，在衬底表面发生化学反应生成薄膜的过程。在等离子体沉积氧化铝膜的工艺中，需要用氩气携带三甲基铝(TMA)进入到反应仓中与N2O进行反应。传统氧化铝沉积设备的气路设计如图1所示，液体三甲基铝通过第一气动阀6进入液体蒸发器控制系统3中，氩气通过第二气动阀7进入液体蒸发器控制系统3中，从而携带三甲基铝进入反应仓5中进行反应，但在实际操作过程中，往往会存在因氩气的纯度不足而发生堵塞液体蒸发器控制系统3的现象，考虑到携带三甲基铝所需的氩气量比较小，因此，目前大多做法是通过降低氩气的流量，来减小液体蒸发器控制系统3的堵塞概率。但是在反应仓中，氧化铝的生本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种氧化铝沉积设备，其特征在于，包括三甲基铝储液仓、氩气源、以及依次连通的液体蒸发器控制系统、混气管和反应仓；/n所述三甲基铝储液仓具有送液管，所述送液管与所述液体蒸发器控制系统连通；所述氩气源具有并联设置的第一送气管和第二送气管；所述第一送气管与所述液体蒸发器控制系统连通；所述第二送气管与所述混气管连通，以向所述混气管中补入氩气，形成通入所述反应仓中的工艺气体。/n

【技术特征摘要】
1.一种氧化铝沉积设备，其特征在于，包括三甲基铝储液仓、氩气源、以及依次连通的液体蒸发器控制系统、混气管和反应仓；
所述三甲基铝储液仓具有送液管，所述送液管与所述液体蒸发器控制系统连通；所述氩气源具有并联设置的第一送气管和第二送气管；所述第一送气管与所述液体蒸发器控制系统连通；所述第二送气管与所述混气管连通，以向所述混气管中补入氩气，形成通入所述反应仓中的工艺气体。


2.根据权利要求1所述的氧化铝沉积设备，其特征在于，所述送液管上设有第一气动阀，以控制通入所述液体蒸发器控制系统中三甲基铝液体的流量；所述第一送气管上设有第二气动阀，以控制用以携带气化三甲基铝的氩气的流量；所述第二送气管上设有第三气动阀，以控制所述工艺气体中氩气的流量。


3.根据权利要求1或2所述的氧化铝沉积...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵环，白进谦，王朝辉，
申请(专利权)人：晶澳太阳能有限公司，
类型：发明
国别省市：河北;13