本发明专利技术提供了一种含纳米银的半水基型清洗剂，以重量份计，包含：有机硅乳化剂5‑10份，阴离子乳化剂5‑10份，纳米银溶液0.1‑1份，偏硅酸铝镁2‑5份，去离子水20‑30份，油性基质50‑80份，助剂0.5‑2份。所述有机硅乳化剂为聚二甲基硅氧烷PEG‑10/15交联聚合物。本发明专利技术的配方是一种半水基型清洗剂，具有较好的金属表面清洁效果，同时也具有较高的抑菌性能，且存储时间长，体系稳定。
【技术实现步骤摘要】
一种含纳米银的半水基型清洗剂
本专利技术涉及一种半水基型清洗剂，具体涉及一种含纳米银的半水基型清洗剂。
技术介绍
金属表面的清洗通常使用清洁剂来完成，金属表面清洁的种类多样，但总结而言可分为有机溶剂清洁剂，水基清洁剂和半水基清洁剂。有机溶剂清洁剂主要用来清洁重油污金属，通过有机溶剂的溶解性可达到强力清洁的效果，但通常有机溶剂的使用会带来很多环境压力。另一种是水基清洁剂，是以水、表面活性剂及助剂等成分组成的清洗剂。而半水基清洁剂是以水、表面活性剂、有机溶剂及助剂等成分组成的稳态或亚稳态的清洗剂。其中有机溶剂可以溶解污渍，表面活性剂起到乳化发泡的作用。半水基清洁剂的使用通常通过超声或者浸泡的方式进行清洗，可以有效清洁金属工件表面的油、蜡、脱模剂、胶类等物质。半水基清洁剂在常温下的挥发性较小，与水结合可形成乳白色的液体，因此，可以选择直接使用原液进行清洗，或者稀释后进行清洗。某些特殊工件除了清洗之外，还有抗菌需求，已知的无机抗菌剂有纳米银，有机抗菌剂有壳聚糖，但纳米银在溶液中容易沉降，因此如何开发一种具有良好抗菌效果，但又体系稳定的半水基清洗剂是现阶段需要考虑的技术问题。现有技术中已经开发出了一些清洁剂，例如中国专利申请CN201910479303.9中公开了一种抗菌型油烟清洁剂，通过添加纳米银溶液和壳聚糖提高了清洁剂的抗菌性能，但是该现有技术未考虑到纳米银的沉降问题，仅使用了本领域中常用的一些表面活性剂。例如中国专利申请CN201910257510.X中公开了一种抗菌清洁剂，含有纳米银粉体，但同样的，未考虑到纳米银的沉降问题。有鉴于此，有必要开发一种稳定性良好的含银清洗剂。
技术实现思路
为了解决目前在半水基型清洗剂中提高抗菌作用的技术问题，以及提高半水基型清洗剂稳定性的问题，本专利技术提供了一种含纳米银的半水基型清洗剂。本专利技术所述一种含纳米银的半水基型清洗剂由以下技术方案加以实现：一种含纳米银的半水基型清洗剂，以重量份计，包含：有机硅乳化剂5-10份，阴离子乳化剂5-10份，纳米银溶液0.1-1份，偏硅酸铝镁2-5份，去离子水20-30份，油性基质50-80份。根据本专利技术，所述有机硅乳化剂为聚二甲基硅氧烷PEG-10/15交联聚合物，典型的应用示例为购自日本信越公司的KSG-210乳化剂或SSG-210SP乳化剂，该乳化剂为信越公司独创的具有乳化能力的有机硅弹性体，可作为W/Si和W/O体系的乳化剂。独特的是，以该乳化剂可制备大粒径乳液，最大可至50μm。大粒径乳液更加有利于纳米银在液滴中的悬浮性能，避免微乳液或者细乳液体系中部分胶束破乳而形成团聚效应。根据本专利技术，偏硅酸铝镁为增稠悬浮剂，用于增加体系的粘度，提高纳米银在体系中的悬浮性能。根据本专利技术，所述油性基质选自聚二甲基硅氧烷或苯基硅油中的一种或多种。根据本专利技术，所述阴离子乳化剂选自十二烷基硫酸钠、十二烷基苯磺酸钠中的一种或多种，上述阴离子乳化剂去污性能好，成本便宜，可以弥补有机硅乳化剂价格昂贵的缺陷。作为本专利技术一个优选的实施方式，本专利技术还提供了一种含纳米银的半水基型清洗剂，以重量份计，包含：有机硅乳化剂5-10份，阴离子乳化剂5-10份，纳米银溶液0.1-1份，偏硅酸铝镁2-5份，去离子水20-30份，油性基质50-80份，助剂0.5-2份。根据本专利技术，所述助剂选自pH调节剂、芳香剂、光亮剂中的一种或多种。作为本专利技术一个优选的实施方式，本专利技术还可以包含pH调节剂，所述pH调节剂选自柠檬酸-柠檬酸钠、琥珀酸-琥珀酸钠、磷酸二氢钠-磷酸氢二钠缓冲体系中的一种或多种。作为本专利技术一个优选的实施方式，本专利技术还可以包含芳香剂，所述芳香剂选自香精。作为本专利技术一个优选的实施方式，本专利技术还可以包含光亮剂，所述光亮剂选自苯亚甲基丙酮、邻苯甲酰磺酰亚胺中的一种或多种。作为本专利技术一个优选的实施方式，本专利技术还提供了一种含纳米银的半水基型清洗剂，以重量份计，包含：有机硅乳化剂4-9份，阴离子乳化剂4-9份，纳米银溶液0.2-0.8份，偏硅酸铝镁2-4份，去离子水22-28份，油性基质60-75份，pH调节剂0.1-0.2份，光亮剂0.2-1.8份，香精0.05-0.1份。作为本专利技术一个优选的实施方式，本专利技术还提供了一种含纳米银的半水基型清洗剂，以重量份计，包含：有机硅乳化剂8份，阴离子乳化剂8份，纳米银溶液0.5份，偏硅酸铝镁3份，去离子水25份，油性基质70份，pH调节剂0.2份，光亮剂1.0份，香精0.05份。本专利技术一并提供了一种含纳米银的半水基型清洗剂的制备方法，包括如下步骤：将纳米银溶液、阴离子乳化剂和去离子水混合后搅拌均匀得到水相溶液，将有机硅乳化剂、偏硅酸铝镁、油性基质、光亮剂混合后搅拌均匀得到油相溶液，将水相溶液加入至油相溶液中搅拌均质，完成后加入pH调节剂和香精即得本专利技术所述含纳米银的半水基型清洗剂。本专利技术的有益的技术效果：(1)本专利技术采用了特殊的有机硅乳化剂，尤其是聚二甲基硅氧烷PEG-10/15交联聚合物乳化剂，该乳化剂对于纳米银在体系中的分散具有较好的稳定作用。(2)本专利技术进一步添加了增稠悬浮剂，体系粘度的增加可以更加有利于纳米银的悬浮。(3)本专利技术的配方是一种半水基型清洗剂，具有较好的金属表面清洁效果，同时也具有较高的抑菌性能，且存储时间长，体系稳定。具体实施方式实施例1一种含纳米银的半水基型清洗剂，以重量份计，包含：有机硅乳化剂(信越KSG-210乳化剂)8份，十二烷基硫酸钠8份，纳米银溶液0.5份，偏硅酸铝镁3份，去离子水25份，聚二甲基硅氧烷70份，pH调节剂0.2份，苯亚甲基丙酮1.0份，香精0.05份。将纳米银溶液、阴离子乳化剂和去离子水混合后搅拌均匀得到水相溶液，将有机硅乳化剂、偏硅酸铝镁、油性基质、光亮剂混合后搅拌均匀得到油相溶液，将水相溶液加入至油相溶液中搅拌均质，完成后加入pH调节剂和香精即得所述含纳米银的半水基型清洗剂。实施例2一种含纳米银的半水基型清洗剂，以重量份计，包含：有机硅乳化剂(信越KSG-210乳化剂)8份，十二烷基苯磺酸钠10份，纳米银溶液0.6份，偏硅酸铝镁3份，去离子水28份，苯基硅油70份，pH调节剂0.2份，邻苯甲酰磺酰亚胺1.5份，香精0.05份。制备方法同实施例1。实施例3一种含纳米银的半水基型清洗剂，以重量份计，包含：有机硅乳化剂(信越SSG-210SP乳化剂)10份，十二烷基硫酸钠6份，纳米银溶液0.5份，偏硅酸铝镁4份，去离子水25份，聚二甲基硅氧烷70份，pH调节剂0.2份，邻苯甲酰磺酰亚胺0.8份，香精0.1份。制备方法同实施例1。对比例1相对于实施例1未添加偏硅酸铝镁，其余与实施例1一致。对比例2将信越KSG-210乳化剂替换为PEG-10聚二甲基硅氧烷(信越KF-6017乳化剂)，其余与实施例1一致。对比例3将信越KSG-210乳本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种含纳米银的半水基型清洗剂，其特征在于：以重量份计，包含：有机硅乳化剂5-10份，阴离子乳化剂5-10份，纳米银溶液0.1-1份，偏硅酸铝镁2-5份，去离子水20-30份，油性基质50-80份；所述有机硅乳化剂为聚二甲基硅氧烷PEG-10/15交联聚合物；所述阴离子乳化剂选自十二烷基硫酸钠、十二烷基苯磺酸钠中的一种或多种；所述油性基质选自聚二甲基硅氧烷或苯基硅油中的一种或多种。/n
【技术特征摘要】
1.一种含纳米银的半水基型清洗剂，其特征在于：以重量份计，包含：有机硅乳化剂5-10份，阴离子乳化剂5-10份，纳米银溶液0.1-1份，偏硅酸铝镁2-5份，去离子水20-30份，油性基质50-80份；所述有机硅乳化剂为聚二甲基硅氧烷PEG-10/15交联聚合物；所述阴离子乳化剂选自十二烷基硫酸钠、十二烷基苯磺酸钠中的一种或多种；所述油性基质选自聚二甲基硅氧烷或苯基硅油中的一种或多种。
2.如权利要求1所述一种含纳米银的半水基型清洗剂，其特征在于：所述聚二甲基硅氧烷PEG-10/15交联聚合物选自KSG-210乳化剂或SSG-210SP乳化剂。
3.如权利要求1所述一种含纳米银的半水基型清洗剂，其特征在于：以重量份计，包含：有机硅乳化剂5-10份，阴离子乳化剂5-10份，纳米银溶液0.1-1份，偏硅酸铝镁2-5份，去离子水20-30份，油性基质50-80份，助剂0.5-2份。
4.如权利要求3所述一种含纳米银的半水基型清洗剂，其特征在于：所述助剂选自pH调节剂、芳香剂、光亮剂中的一种或多种。
5.如权利要求4所述一种含纳米银的半水基型清洗剂，其特征在于：所述pH调节剂选自柠檬酸-柠檬酸钠、琥珀酸-琥珀酸钠、磷酸二氢钠-磷酸氢二钠缓冲体系中的一种或多种。
【专利技术属性】
技术研发人员：顾成松，顾成超，
申请(专利权)人：苏州特密达新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。