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本发明提供了一种含纳米银的半水基型清洗剂，以重量份计，包含：有机硅乳化剂5‑10份，阴离子乳化剂5‑10份，纳米银溶液0.1‑1份，偏硅酸铝镁2‑5份，去离子水20‑30份，油性基质50‑80份，助剂0.5‑2份。所述有机硅乳化剂为聚二甲基...
该专利属于苏州特密达新材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州特密达新材料有限公司授权不得商用。

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