一种磁组件表面等离子清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种磁组件表面等离子清洗装置，涉及磁性材料生产技术领域，解决了用酒精擦拭磁组件表面的方式达因会随时间延长而降低，效果不理想的技术问题。该装置包括机体和设置于其上的等离子清洗组件以及用于输送磁组件的输送装置，等离子清洗组件包括等离子电源、枪头移动模组和等离子清洗枪，等离子清洗枪安装于枪头移动模组上，且等离子清洗枪位于输送装置的上方。磁组件沿输送装置输送至等离子清洗枪的清洗区域被等离子清洗去除油污后继续传送至输送装置的末端，完成等离子清洗。与传统的酒精擦拭磁组件表面的方式相比，达因保持效果理想，能满足客户的要求；而且机械化操作，清洗效率较高。

【技术实现步骤摘要】
一种磁组件表面等离子清洗装置
本技术涉及磁性材料生产
，尤其是涉及一种磁组件表面等离子清洗装置。
技术介绍
磁组件表面由于存在油污，组装厂将磁组件用胶水粘到机壳后，经常发生磁组件脱落现象，进而要求上游供应商在出厂时保证磁组件具有一定的表面张力(俗称达因)。想要保证很高的达因，到客户组装时满足要求，这就对磁铁厂的磁组件的出厂质量提出了更高的要求。本申请人发现现有技术至少存在以下技术问题：现在通用的做法是用酒精擦拭磁组件表面，以达到磁组件表面干净，达因合格。但是擦拭后的保持效果并不理想，达因会随时间延长降低，保持时间较短。而且在用洒精清洗时需要一个个地擦拭磁组件，效率低且擦拭效果不理想，如果出厂检验不合格，还需要返工擦拭。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种磁组件表面等离子清洗装置，以解决现有技术中存在的用酒精擦拭磁组件表面的方式达因会随时间延长而降低，效果不理想的技术问题。本技术提供的诸多技术方案中的优选技术方案所能产生的诸多技术效果详见下文阐述。为实现上述目的，本技术提供了以下技术方案：本技术提本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种磁组件表面等离子清洗装置，其特征在于，包括：/n输送装置，其用于输送磁组件；/n等离子清洗组件，其包括等离子电源、枪头移动模组和等离子清洗枪，所述等离子清洗枪安装于所述枪头移动模组上，且所述等离子清洗枪位于所述输送装置的上方；/n机体，所述输送装置和所述等离子清洗组件均安装于所述机体上。/n

【技术特征摘要】
1.一种磁组件表面等离子清洗装置，其特征在于，包括：
输送装置，其用于输送磁组件；
等离子清洗组件，其包括等离子电源、枪头移动模组和等离子清洗枪，所述等离子清洗枪安装于所述枪头移动模组上，且所述等离子清洗枪位于所述输送装置的上方；
机体，所述输送装置和所述等离子清洗组件均安装于所述机体上。


2.根据权利要求1所述的磁组件表面等离子清洗装置，其特征在于，所述枪头移动模组包括横梁滑轨和移动块，所述等离子清洗枪安装于所述移动块，所述移动块可滑移设置于所述横梁滑轨上。


3.根据权利要求2所述的磁组件表面等离子清洗装置，其特征在于，所述输送装置包括传送带，所述传送带沿第一方向输送所述磁组件；所述移动块沿与所述第一方向相垂直的第二方向往复运动带动所述等离子清洗枪清洗所述磁组件。


4.根据权利要求3所述的磁组件表面等离子清洗装置，其特征在于，所述机体包括支架，所述横梁滑轨可升降式设置于所述支架，且所述横梁滑轨横跨于所述传送带上。


5.根据权利要求3所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：林云，江跃帆，刘平，白雪冰，
申请(专利权)人：包头市英思特稀磁新材料股份有限公司，
类型：新型
国别省市：内蒙古;15