制造一种光学装置的方法制造方法及图纸

技术编号:2681646 阅读:158 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
用于在一种硅基片上制作一种基于硅石的光学装置的工艺过程被公开。该装置有一个在硅基片中形成的覆盖层。该装置也有一个活性区,而且该活性区被形成于该覆盖层上。该覆盖层是通过在该硅基片中形成一个多孔硅区域而制成的。该多孔硅然后被氧化和变密实。在变密实之后,该装置的活性层在该覆盖层上形成。(*该技术在2020年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及各种光学装置,特别是平面光学波导。光纤通讯系统正在变得更为流行。除光纤本身之外光纤通讯系统使用很宽种类的用于接收、发送和利用光学信号的光学装置。集成光学装置的一种类型是一种在硅基片上制造的硅石光学电路。这种装置的基本结构在HenryC.H.等在IEEProc.-Optoelectron.Vol.143,No.5,pp.263-280(1996)上的“Silica-based optical integratedcircuits”一文中作了描述。该波导由三层制成这些层是一个下覆盖层(按Henry的说法被认为是基层)、芯子层和上覆盖层。下覆盖层将基本模式和硅基片隔离开。这样隔离能防止光学信号经由硅石一硅(基片)界面泄漏掉。这一界面和其它波导界面不同,不能完全反射。上覆盖层的折射率被选择得接近等于基层的折射率。下覆盖层由未掺杂的或轻微掺杂的硅石制成。这是最坚固的一层,它保持着附着于其上的芯子在成形后不会移动。其它的玻璃是掺杂程度较高的二氧化硅。提出了多种多样的制造各种硅石-硅光学装置的工艺方案。这样的工艺方案一般要求基层被沉积到硅基片的表面上。当前用于制作下覆盖层的技术本文档来自技高网...

【技术保护点】
用于制造一种光学装置的方法,包括:在一个硅基片中形成一个多孔硅区;将该多孔硅区氧化;使该多孔硅区变密实;以及在变密实的多孔硅上形成一个光学装置的活性部分。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:谢亚宏约瑟夫西姆罗维奇阿勒克赛格勒波夫阿兰J布鲁斯
申请(专利权)人:朗迅科技公司
类型:发明
国别省市:US[美国]

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