【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及滤光装置，特别是一种多滤光片的滤光装置。在共聚焦荧光探测系统中，必须加滤光片排除激发光，让荧光透过。由于荧光强度比激发光强度低得多，当滤光片不足以过滤激发光时，通常只有更换性能更高的滤光片而不能采用多片滤光片叠加的办法。如附图说明图1所示，激发光①照射到滤光片1，反射一部分，透射一部分激发光②。虽然滤光片2有进一步过滤作用，但是经滤光片2反射的激发光③会被滤光片1反射，相当于增加了射向滤光片2的激发光，这样导致透过滤光片2的激发光⑤并不比透过滤光片1的少多少。在高性能装置中，通常采用干涉滤光片，其光谱特性较好，但也具有非透射即反射的特点，尤其不利于如图1结构的情况。本专利技术的目的是为了克服上述已有技术多滤光片间互相反射激发光的影响，提供一种滤光装置，以大幅度提高其滤光性能。本专利技术的目的是这样实现的。一种滤光装置，沿入射光(主光轴)方向依次由多块(≥2)滤光片、会聚镜和光栏组成，其特点在于第一滤光片垂直于主光轴，第二滤光片及其以后的所有滤光片相互平行，且与第一滤光片倾斜一角度θ，使得2θ×f2＞r其中f2-会聚镜焦距r-针孔的半径所说的滤光...
【技术保护点】
一种滤光装置，沿入射光方向（主光轴）依次由多块（≥２）滤光片（１、２、…ｉ…）、会聚镜（３）和光栏（４）组成，其特征在于第一滤光片（１）垂直于主光轴，第二滤光片（２）及其以后的所有滤光片（ｉ）相互平行，且与第一滤光片（１）倾斜一角度θ，使得２θ×ｆ２＞ｒ其中：ｆ２－会聚镜焦距ｒ－针孔或光栏的半径。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：邵晖，冯哲民，陈大庞，
申请(专利权)人：上海爱普特仪器有限公司，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]
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