透镜装置制造方法及图纸

一种透镜装置，其中，透镜元件的第一和第二阵列位于该装置的第一和第二表面上。设置第一和第二阵列，因此，当穿过第一阵列观察第二阵列时，可看到表示代表第二阵列的一个元件的放大图像的莫尔图案。至少一个阵列可包括至少一个预定的可识别的不连续变化，该变化是对应于阵列相邻元件的相同特征的阵列的至少一个元件的特征。至少一个元件可包括向至少一个元件提供横截面的压纹，该横截面与其上形成至少一个元件的表面平行，与穿过不包括所述压纹的至少一个元件的部分的平行横截面相比，其形状是不规则的。至少一个预定的并可识别的缺陷可被编码于至少一个第一和第二阵列中，对于独立观察者而言，缺陷基本上是难以分辨的。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种透镜装置。具体而言，但不排他地，本专利技术涉及一种包括第一和第二光学微元件阵列的透镜片形式的透镜装置，所述元件阵列一起提供一种莫尔条纹图案。这种透镜片可位于例如光盘等记录载体中或具有例如光盘等记录载体。从给定片出现期望莫尔条纹图案表示与该片相关的物体为真实的。已将提供莫尔条纹图案的透镜片用作防伪装置。附图说明图1中说明了一种已知的透镜片。该片包括在第一侧2上的层1，该侧具有带有间距t1的凸起显微凸透镜4的透镜阵列4。在该层的第二侧3上具有带有稍不同间距t2的凸起显微凸透镜7的透镜阵列6。因为阵列4和6的微透镜相差t2-t1，所以该片提供一周期为(t1*t2)/|t2-t1|的莫尔条纹图案。当从第一侧2看过去，莫尔条纹图案表现为第二侧3上显微透镜7的放大图像的副本。因为第二侧3上的光学微元件为圆显微凸透镜，所以每个莫尔条纹图案中的放大图像都具有深度。复制透镜片是困难的。难以精确复制片阵列的位置关系。与原始片相比的复制片阵列的位置关系中的缺陷将导致复制片的莫尔条纹图案不同于原始片的图案。本征片生成的图案和不准确复制片之间的判别可由肉眼或检验装置识别出来。因此可识别出具有缺陷复制透镜片的伪造物体。然而，并非不可能复制出图1所示的透镜片。通过精确地映射片阵列的位置关系，可生成具有阵列底片的模。然后使用该模来批量生成精确复制的片以供伪造物体使用。WO9923513A公开了一种透镜片，一个透镜阵列的显微透镜在与包括至少两个不连续面的对应表面垂直的平面中具有横截面，在该阵列的每个显微透镜中提供一环形反射部，因此可提高穿过其它阵列所看到的莫尔条纹图案的可见性。WO9427254A公开了一种透镜装置，该装置包括一个透镜阵列和一个二维缩微图像阵列。该透镜阵列可被固定于、或增加到缩微图像阵列上。通过印刷处理来形成缩微图像，其中，穿过对应于透镜阵列的微透镜阵列的形状暴光光刻胶来形成印刷板。值得注意的是，与压印的相比，这种图像印刷提供了一种不同的视觉效果，其中，通过改变不同入射角度上的内部反射的程度、而不是图像的对比度来形成该可视图案。US-A-3-357-773公开了一种透镜片材料，在该材料的一侧上具有透镜阵列，在另一侧上具有不同的透镜阵列。在两侧重合前不同地拉伸该材料的一侧或另一侧可产生不同类型的莫尔图案。然而，这种在至少一个阵列的间距中产生连续变化的拉伸所产生的效果可被相对容易地再现，但难以检验为是本征的，并可能仅提供装饰效果。期望提供一种具有可检验特征的镜镜装置，该特征致使该装置更难以被复制。根据本专利技术的一个方面，提供一种透镜装置，包括在该装置的第一表面上的第一透镜元件阵列；和在该装置的第二表面上的第二透镜元件阵列，其中，该第一和第二阵列如此设置，以致当穿过第一阵列观察第二阵列时，可看到表示代表第二阵列元件的放大图像的莫尔图案，其特征在于至少一个阵列包括至少一个预定的可检验的不连续变化，该变化处于对应于阵列相邻元件的相同特性的至少一个阵列元件一特性中。根据本专利技术的另一方面，提供一种透镜装置，包括在该装置的第一表面上的第一透镜元件阵列；和在该装置的第二表面上的第二元件阵列，所述元件阵列由基本上相似的元件构成，其中，该第一和第二阵列如此设置，以致当穿过第一阵列观察第二阵列时，可看到表示代表第二阵列元件的放大图像的莫尔图案，其特征在于所述第二阵列包括至少一个预定的可检验的不连续变化，该变化处于对应于阵列相邻元件的相同特性的至少一个阵列元件一特性中。不连续变化是不会在阵列长度或宽度上平稳产生的变化。仅通过拉伸其上形成阵列的材料不能实现相邻元件之间的不连续变化。根据本专利技术的再一方面，提供一种透镜装置，包括在该装置的第一表面上的第一透镜元件阵列；和在该装置的第二表面上的第二透镜元件阵列，其中，该第一和第二阵列如此设置，以致当穿过第一阵列观察第二阵列时，可看到表示代表第二阵列元件的放大图像的莫尔图案，其特征在于至少一个元件包括一个凸起，使至少一个元件具有横截面，该横截面平行于其上形成至少一个元件的表面，该表面具有预定的可检验的形状，与穿过部分不包括所述凸起的至少一个元件的平行横截面的形状相比，所述形状是不规则的。这种装置的结构使得该装置更难以复制。因为凸起引起的横截面的形状是预定的，所以由形状的变化就可检测到有缺陷的复制，同时由独立观测员或辅助观测员可容易地检验出本征项目，如下面将进一步详细描述的。根据本专利技术的又一方面，提供一种透镜装置，包括在该装置的第一表面上的第一透镜元件阵列，其元件为透镜；和在该装置的第二表面上的第二透镜元件阵列，其中，该第一和第二阵列如此设置，以致当穿过第一阵列观察第二阵列时，可看到表示代表第二阵列元件的放大图像的莫尔图案，其特征在于至少一个预定的可检验的缺陷被编码在至少一个第一和第二阵列中，对于独立观察者而言，该缺陷基本上是看不见的。这种装置在阵列中具有一种保密结构，它使得片难以复制，但不会产生任何可见的影响。需要由例如显微镜等装置来检验该结构的有或没有。下面权利要求阐明了本专利技术的上述和其它特征，本专利技术的上述和其它特征以及优点将通过结构附图、参考下面本专利技术的典型实施例的详细说明变得更清楚，其中图1表示这里已描述的已知透镜片的横截面；图2表示根据本专利技术的透镜片第一实施例的横截面；图3(A)、3(B)和3(C)表示可用于第一实施例中的凸起的不同实例；图4表示根据本专利技术的透镜片第二实施例的横截面；图5(A)表示沿根据本专利技术的透镜片的第三实施例的第一方向的横截面；图5(B)表示沿透镜片的第三实施例的第二方向的横截面；图6表示由透镜片的第三实施例生成的莫尔图案的示意说明；图7表示根据本专利技术的透镜片第四实施例的横截面；图8表示根据本专利技术的透镜片第五实施例的横截面；和图9表示根据本专利技术的透镜片第六实施例的横截面。参见附图中的图2，表示根据本专利技术的透镜片第一实施例的横截面。中央层1和其每侧上的两个侧层2、3形成片的主体。一个侧层2具有透镜阵列4，该阵列具有多个排列成规则阵列图案的显微镜5，显微镜之间具有预定的中心至中心间隔t1，例如336μm。每个显微镜5为凸出突起形式，当从侧层2的方向观察片时为一凸透镜。显微镜5的焦距约与片的厚度相同。另一侧层3具有透镜阵列6，该阵列具有多个排列成规则阵列图案的显微镜7，显微镜之间具有预定的中心至中心间隔t2，例如326μm。在任何情况下，为了生成一适当的莫尔图案，t1必须不同于t2，t1与t2之间的差不能太大，例如|t1－t2|/(t1＋t2)＜1/10。另一层3上的每个显微镜7也为凸出突起形式，如果从侧层3的方向观察片时为一凸透镜。如果例如侧层3被覆盖于反射涂层内，则从该方向看不到该片。在任何情况下，无论是否从该方向看到该片，当从相反方向(从侧层2的方向)看到该片时，显微镜7不作为透镜，而是提供由入射光位置和角度决定内部反射数量的反射元件。透镜片提供的莫尔图案在其中测量了中心至中心间隔的方向上具有周期(t1*t2)/|t1-t2|。在上述实例中，该莫尔图案的周期为(336*326)/(336-326)＝10.95微米。当从阵列侧3观察时，莫尔图案是显微镜7的放大图像的副本。在本专利技术的该实施例中，每个显微镜7包括一基本球形或抛物面突起7a，其上提供一相本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种透镜装置，包括：在该装置的第一表面上的第一透镜元件阵列；和在该装置的第二表面上的第二透镜元件阵列，其中，该第一和第二阵列如此设置，以致当穿过第一阵列观察第二阵列时，可看到表示代表第二阵列元件的放大图像的莫尔图案，其特征在于： 至少一个所述阵列包括至少一个预定的可检验的不连续变化，该变化处于对应于该阵列相邻元件的相同特性而言该阵列至少一个元件一特性中。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：MJJ多纳，JJM布拉尔特，
申请(专利权)人：皇家菲利浦电子有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]