对光敏介质中形成的滤光器切趾制造技术

通过对光波导（５０）的光敏纤芯进行光化辐射曝光，在该光波导中形成滤光器光栅。光化辐射采用干涉光束（３８，４０）的形式，干涉光束的峰值强度（７２，７４）沿波导光轴（６４）相对位移。每束干涉光束都具有一单瓣形强度分布曲线，以及为在两束相对位移光束之间获得所需条纹衬度所需要的空间相干度。光敏纤芯中的折射率调制与辐射的照射（干涉）图案匹配。干涉光束的相对位移通过使折射率调制的平均折射率平坦化，缩小了光栅光谱响应的旁瓣。用两束光进行第二次曝光，但不发生光束干涉作用，此次曝光使得平均折射率进一步平坦。（*该技术在2019年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

通过在光化辐射下进行形成图案的曝光(例如，干涉)，可以在光敏光学介质中形成滤光器，此种滤光器一般具有带通或带阻光谱响应分布曲线。对介质中折射率变化的竞争性要求给响应分布曲线增添了不希望有的“结构”(例如，旁瓣)，而这些“结构”可以通过各种切趾技术来处理。背景布拉格光栅和长周期光栅是通过在光化辐射下进行形成图案的曝光而在光敏介质中形成的滤光器的例子。这些滤光器的纤芯一般掺有锗之类光敏介质，这种光敏介质可以使纤芯响应于光化辐射曝光而改变其折射率，这里光化辐射一般在紫外线光谱范围内。照射辐射一般会升高纤芯中被曝光部分的折射率，折射率的升高正比于辐射强度和曝光长度(时间)。可以通过干涉或掩蔽形成所需的图案，而图案形成过程中要控制耦合强度和光栅周期两者。布拉格光栅的周期小于光谱响应之中心波长的一半，该光栅最好通过斜角干涉两束光化辐射光束来实现。长周期的周期为100或1000倍，可以通过简单的掩蔽法刻写。例如，可以对振幅掩模形成图案，使空间分离的光带照射纤芯，从而形成长周期光栅。无论曝光方式如何，照射辐射的强度分布都会转化成纤芯中类似形状的折射率分布。例如，具有恒定强度分布的照射光束经干涉本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种在光学介质中形成的滤光器，其特征在于，所述滤光器沿光轴具有一系列对应于光化辐射干涉光束之强度图案的折射率调制，所述干涉光束的轴沿光轴相对位移，处于不同的固定位置。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：V巴提亚，TA库克，RA莫达维斯，CD罗布森，
申请(专利权)人：康宁股份有限公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]