显示设备制造技术

公开了显示设备，该显示设备包括：基底层；位于基底层上的像素电路层；以及位于像素电路层上的显示元件层。像素电路层包括位于显示元件层与基底层之间的凹陷处的透镜图案，显示元件层包括发光元件，并且发光元件的至少一部分与透镜图案重叠。

【技术实现步骤摘要】
显示设备相关申请的交叉引用本申请要求于2019年6月19日在韩国知识产权局提交的第10-2019-0073075号韩国专利申请的优先权和权益，该专利申请的全部内容通过引用并入本文中。
本专利技术的一个或多个示例性实施方式涉及显示设备。
技术介绍
近来，已开发了使用具有具备高可靠性的无机晶体结构的材料制造超小型发光元件的技术以及使用发光元件制造发光器件的技术。例如，已开发了用于制造具有小到纳米级或微米级的尺寸的多个超小型发光元件的技术，以及用于使用超小型发光元件制造包括像素的各种发光器件的技术。在本
技术介绍
部分中公开的上述信息是为了增强对本专利技术的
技术介绍
的理解，并且因此，其可包含不构成现有技术的信息。
技术实现思路
本专利技术的一个或多个示例性实施方式涉及包括多个发光元件的显示设备，该显示设备能够通过位于显示设备中的发光元件下方的透镜图案单元(例如，透镜图案)改善光学效率。然而，本专利技术不限于此，并且本领域的普通技术人员可从本文中描述的示例性实施方式中理解本专利技术的其它方面和特征。根据一本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.显示设备，包括：/n基底层；/n像素电路层，位于所述基底层上；以及/n显示元件层，位于所述像素电路层上，/n其中，所述像素电路层包括位于所述显示元件层与所述基底层之间的凹陷处的透镜图案，以及/n其中，所述显示元件层包括发光元件，并且所述发光元件的至少一部分与所述透镜图案重叠。/n

【技术特征摘要】
20190619 KR 10-2019-00730751.显示设备，包括：
基底层；
像素电路层，位于所述基底层上；以及
显示元件层，位于所述像素电路层上，
其中，所述像素电路层包括位于所述显示元件层与所述基底层之间的凹陷处的透镜图案，以及
其中，所述显示元件层包括发光元件，并且所述发光元件的至少一部分与所述透镜图案重叠。


2.根据权利要求1所述的显示设备，其中，
所述显示元件层包括第一电极和与所述第一电极间隔开的第二电极，并且所述发光元件位于所述第一电极与所述第二电极之间。


3.根据权利要求2所述的显示设备，其中，
所述发光元件包括第一半导体层、有源层和第二半导体层，其中，所述有源层包围所述第一半导体层的至少一部分，所述第二半导体层的类型与所述第一半导体层的类型不同并且所述第二半导体层包围所述有源层的至少一部分。


4.根据权利要求3所述的显示设备，其中，
所述发光元件包括第一端部和第二端部，所述第一端部包括所述有源层，并且所述第二端部不包括所述有源层。


5.根据权利要求4所述的显示设备，其中，
所述显示元件层包括第一接触电极和第二接触电极，其中，所述第一接触电极位于所述第一电极上并电连接至所述第一端部，所述第二接触电极位于所述第二电极上并电连接至所述第二端部。


6.根据权利要求2所述的显示设备，其中，
所述像素电路层包括多个晶体管和覆盖所述多个晶体管的有机层，所述有机层包括所述透镜图案。


7.根据权利要求6所述的显示设备，其中，
所述显示元件层还包括覆盖所述第一电极、所述第二电极和所述有机层的绝缘层，以及
其中，所述绝缘层的折射率大于所述有机层的折射率。


8.根据权利要求6所述的显示设备，其中，
所述透镜图案包括不均匀图案，以及
其中，所述不均匀图案配置成不规则地反射入射光。


9.根据权利要求2所述的显示设备，其中，
所述第一电极和所述第二电极不与所述透镜图案重叠。


10.根据权利要求9...

【专利技术属性】
技术研发人员：李智慧，金璟陪，李柔辰，蔡锺哲，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR