用于容器的内部消毒的系统技术方案

本发明专利技术涉及一种用于在具有产品的容器的吹制和填充系统中对所述容器进行消毒的系统，特别是涉及一种用于通过紫外C辐射LED发射器对所述容器进行内部消毒的系统。本发明专利技术特别涉及一种容器(C)或预制件(P)的消毒单元(6)，其中，该消毒单元包括转盘(13)，在转盘上支撑有多个消毒构件(8、108)，该消毒构件可在升高位置和降低位置之间移动，其中，所述降低位置构造为允许消毒构件(8、108)进入待消毒的所述容器(C)或预制件(P)，其中，所述消毒构件(8、108)中的每个包括发射UV‑C辐射的多个消毒元件(20)或者与发射UV‑C辐射或可见光‑红外场(VIS)辐射的激光源(102)连接。

【技术实现步骤摘要】
用于容器的内部消毒的系统
本专利技术涉及一种用于在具有产品的容器的吹制和填充系统中对所述容器进行消毒的系统，特别是涉及一种用于通过紫外C辐射LED发射器对所述容器进行内部消毒的系统。
技术介绍
如已知的，在填充步骤中，用对微生物污染敏感的产品(例如，牛奶和类似产品)填充容器需要卫生水平，该卫生水平被定义为“超洁净”，即，以第IV级标准VDMA2/2000第三版2016填充，以及被定义为“无菌”，即，以第V级标准VDMA2/2000第三版2016填充。目前，容器的主要消毒系统需要使用氧化和杀菌物质，这导致许多缺点，例如：-具有可能污染食品的杀菌处理的残留物的风险；-具有在补充和处理步骤期间污染操作者本身的风险。还已知容器的其他消毒系统，所有这些系统都涉及各种缺点，特别是：-脉冲光，由于电弧灯的构造，该脉冲光需要在两端处供给，因此其具有与大多数瓶子的狭窄颈部不相容的体积。脉冲光还需要以各种连续脉冲提供的大量电功率，因此需要使用非常强大的电源系统。最后，只有大约20％的脉冲光发射光谱处于杀菌电磁辐射场中，而剩余的80％的发射光谱不仅无效，而且在给定波长下可能激活微生物中的损伤修复机制，这使得操作处于无效的风险。-低压紫外灯，尽管其具有集中在有效波长范围内的光谱，但是其发射非常适量的能量，因此不足以辐射自动装瓶机中的容器内部。此外，这些灯使用汞蒸气，其定时达到与在自动装瓶机中的使用不相容的操作速度和最佳操作温度。此外，汞蒸气的使用与接下来的欧洲环境标准形成对比。-高压紫外灯，尽管其具有较大的能量发射，但是导致与低压紫外灯相同的缺点，并且还涉及爆炸的风险。
技术实现思路
因此，基于本专利技术的问题是提供一种用于在容器的吹制和填充系统中对所述容器进行消毒的系统，所述容器具有对微生物污染敏感的产品。这种问题通过一种具有对微生物污染敏感的产品的容器的吹制和填充系统来解决，所述系统包括如下文中限定的消毒单元，该限定形成本说明书的组成部分。因此，本专利技术的第一目的是一种容器的吹制和填充系统，包括经受吹制步骤的容器的消毒单元，其中，所述消毒单元包括多个消毒元件，该消毒元件包括杀菌UV-C辐射LED发射器。本专利技术的第二目的是一种容器的吹制和填充系统，包括如上限定的预制件的消毒单元，该消毒单元布置在吹制站的上游。附图说明参考以下附图，从下面仅通过非限制性的、指示性的实例给出的本专利技术的某些实施方式的描述中，本专利技术的进一步的特征和优点将变得更加明显：图1示出了根据本专利技术的包括用于容器的内部消毒的单元的吹制和填充系统的第一实施方式的简化平面图；图2示出了根据本专利技术的用于容器的内部消毒的单元的简化透视图；图3示出了根据图2中的方向A的用于容器的内部消毒的单元的侧视图；图4示出了图3中的用于容器的内部消毒的单元的细节的侧视图；图5示出了图4中的细节的侧剖视图；图6示出了图5中的细节的内部元件的透视图；图7示出了图6中的元件的一部分的放大透视图；图8示出了根据本专利技术的包括用于容器的内部消毒的单元的吹制和填充系统的第二实施方式的简化平面图；图9示出了根据图8中的实施方式的用于容器的内部消毒的单元的简化透视图；图10A示出了根据本专利技术的不同实施方式的消毒构件的侧剖视图；图10B示出了图10A中的消毒构件的透明透视图；图10C示出了图10A中的消毒构件的透明侧视图；图10D示出了图10A中的消毒构件的细节的剖面透视图；图11A示出了包括图10A中的消毒构件的消毒单元的透明透视图；图11B示出了图11A中的消毒单元在不同操作条件下的透明透视图；图12示出了图10A中的消毒构件在操作条件下的简化示意性侧视图；图13示出了图12中的光学组件的不同变型的视图；图14A至图14B分别示出了由图10A中的消毒构件产生的辐射图案的简化顶视图和简化侧视图；图15示出了图10A中的消毒构件的光学组件的第一细节的辐射的射线路径的侧视图；图16示出了图10A中的消毒构件的光学组件的第二细节的侧视图；图17示出了根据一个实施方式的本专利技术的消毒构件的剖面透视图；图18示出了图17中的实施方式的细节的透视图；图19示出了图17中的实施方式的不同细节的透视图。具体实施方式参考附图，整体上用附图标记1表示的根据本专利技术的容器的吹制和填充系统包括：用于通过合适的处理装置3将预制件P输入到系统中的加热炉2、放置在加热炉2下游的吹制单元4、布置在吹制单元4下游的具有填充产品的填充单元5，以及消毒单元6，在图1的实施方式中，该消毒单元布置在吹制单元4和填充单元5之间的中间位置。因此，在这个实施方式中，消毒单元6适于对从吹制单元4离开的容器(通常是瓶子)进行消毒。吹制单元4和填充单元5优选地是旋转型的，并且分别包括用于处理预制件和容器的合适的分布星形件7、7'、7”。吹制单元4和填充单元5是传统类型的，因此不再详细描述。吹制单元4优选地是拉伸吹制单元。在图8和图9所示的不同实施方式中，整体上用附图标记101表示的容器的吹制和填充系统包括：用于通过合适的处理装置3将预制件P输入到系统中的加热炉2、放置在加热炉2下游的吹制单元4、布置在吹制单元4下游的具有填充产品的填充单元5，以及消毒单元6，在图8的实施方式中，该消毒单元布置在处理装置3和加热炉2之间的中间位置。因此，在这种实施方式中，消毒单元6适于对进入加热炉2中的预制件P进行消毒。参考图2、图3和图9，容器C或预制件P的消毒单元6包括其上支撑有多个消毒构件8的转盘13，该消毒构件可在升高位置和降低位置之间移动，其中，所述降低位置构造为允许将消毒构件8引入到待消毒的所述容器C或预制件P中。转盘13通过合适的驱动系统9旋转移动，并且包括支撑盘10，在该支撑盘的外围上布置有当容器C或预制件P由转盘13拾取并旋转时用于容器或预制件的颈部的多个支撑元件。消毒构件8的支撑结构11位于支撑盘10的上方，固定到转盘13的该支撑结构11可与支撑盘10一体旋转。合适的分布星形件12、12'与转盘13彼此相切地联接，以便向转盘13供给输入的容器C或预制件P，并且拾取输出的消毒的预制件P或容器C，以便将其送至后续处理，在图1的实施方式中，该后续处理是填充单元5，而在图8的实施方式中，该后续处理是加热炉2。转盘13和分布星形件12、12'支撑在设置有支腿14a的框架14上，并且封闭在容纳结构15中，在该容纳结构中通常借助于无菌空气的过压来保持受控气氛。容纳结构15构造为允许例如通过每个消毒构件8上的合适的警告LED进行视觉操作检查，以及允许对操作者进行充分的保护以免受到用于消毒的电离辐射的影响。容纳结构15通常包括侧壁15a和顶部15b。消毒单元6还包括通风装置16，在该装置的下游布置有除湿装置17和无菌过滤器18，以便将本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种容器(C)或预制件(P)的消毒单元(6)，其特征在于，所述消毒单元包括转盘(13)，在所述转盘上支撑有多个消毒构件(8、108)，所述消毒构件能在升高位置和降低位置之间移动，其中，所述降低位置构造为允许所述消毒构件(8、108)引入到待消毒的所述容器(C)或预制件(P)中，其中，所述消毒构件(8、108)中的每个包括发射UV-C辐射的多个消毒元件(20)，或者所述消毒构件中的每个与发射UV-C或VIR辐射的激光源(102)连接。/n

【技术特征摘要】
20190620 IT 1020190000095911.一种容器(C)或预制件(P)的消毒单元(6)，其特征在于，所述消毒单元包括转盘(13)，在所述转盘上支撑有多个消毒构件(8、108)，所述消毒构件能在升高位置和降低位置之间移动，其中，所述降低位置构造为允许所述消毒构件(8、108)引入到待消毒的所述容器(C)或预制件(P)中，其中，所述消毒构件(8、108)中的每个包括发射UV-C辐射的多个消毒元件(20)，或者所述消毒构件中的每个与发射UV-C或VIR辐射的激光源(102)连接。


2.根据权利要求1所述的消毒单元(6)，包括容纳结构(15)，在所述容纳结构中优选地通过无菌空气的过压来保持受控气氛。


3.根据权利要求2所述的消毒单元(6)，包括通风装置(16)，在所述通风装置的下游布置有除湿装置(17)和无菌过滤器(18)，以便将干燥且无菌的空气引入到所述容纳结构(15)中，所述干燥且无菌的空气优选地是预冷却的无菌干燥空气。


4.根据权利要求1至3中任一项所述的消毒单元(6)，其中，所述消毒构件(8)包括沿着轴线(X-X)延伸的管状体(19)，所述管状体(19)包括近端部分(19a)和远端部分(19b)，所述远端部分(19b)构造为插入到所述容器(C)或预制件(P)中，其中，所述近端部分(19a)在其近端端部(23a)处敞开，而所述远端部分(19b)在其远端端部(23b)处封闭，并且其中，所述消毒元件(20)覆盖所述管状体(19)的所述远端部分(19b)的全部或部分。


5.根据权利要求1至4中任一项所述的消毒单元(6)，其中：
-所述消毒元件(20)是UV-C辐射LED，其特征是在200至290nm范围内的窄发射光谱，其中峰值波长优选地是265nm和/或275nm，或者
-所述激光源(102)发射250至330nm范围内的UV-C辐射或700至1200nm范围内的可见光-红外辐射(VIR)。


6.根据权利要求4或5所述的消毒单元(6)，其中，所述管状体(19)构造为使制冷剂流体在其中流动，所述制冷剂流体优选地是冷水。


7.根据权利要求1至3中任一项所述的消毒单元(6)，其中，所述消毒构件(108)包括杆(105)，所述杆能在升高位置和降低位置之间竖直地移动，在所述升高位置中，所述杆定位在所述瓶子(C)的颈部上方，在所述降低位置中，所述杆的下部插入所述瓶子(C)中，其中，所述杆(105)包括：
-上部(107)，具有管状形状，以便在其中结合由光纤(103)传导的激光辐射的光路，所述上部(107)具有进给螺杆外表面，
-能旋转的下部(109)，构造为插入到所述瓶子(C)的颈部中，以及
-衬套或支承元件(110)，与所述上部(107)成一体，并且其中，所述下部(109)能旋转地关联。


8.根据权利要求7所述的消毒单元(6)，其中，所述杆(105)容纳在壳体(104)中并且包括第一致动器(111)，所述第一致动器在基本上中间位置紧固到所述壳体(104)的内壁，并构造为使引导元件(112)旋转，所述引导元件例如为由自润滑材料制成的再循环滚珠引导件、螺杆或螺旋引导件，所述引导元件(112)将扭矩施加到所述上部(107)的进给螺杆表面，并且其中，所述上部(107)旋转紧固成使得所述杆(105)的所述上部(107)能借助于与旋转的所述引导...

【专利技术属性】
技术研发人员：乔瓦尼·米莱西，伊万·科特诺维斯，埃德加·费希尔，
申请(专利权)人：SMI股份有限公司，
类型：发明
国别省市：意大利;IT