一种密序苣苔的组织培养方法技术

本发明专利技术提供一种密序苣苔的组织培养方法，包括以下措施：密序苣苔外植体的无菌体系建立、密序苣苔组织的初代培养、继代增殖、生根培养、炼苗移栽。本发明专利技术提供密序苣苔组织培养方法不仅能够降低密序苣苔叶片外植体接种过程中的污染率、提高的成活率，还能够提高密序苣苔的不定芽诱导率、增殖系数及生根率。

【技术实现步骤摘要】
一种密序苣苔的组织培养方法
本专利技术涉及植物养殖
，尤其涉及一种密序苣苔的组织培养方法。
技术介绍
密序苣苔(Hemiboeopsislongisepala(H.W.Li)W.T.Wang)原属于苦苣苔科(Gesneriaceae)，密序苣苔属(Hemiboeopsis)，为多年生亚灌木，该属为单型属，仅有密序苣苔一种，其优美的植株形态、鲜艳巨大的花朵赋予了该物种较高的观赏与开发利用价值。根据最新的分子生物学与形态学证据，植物分类学者将密序苣苔重新归类于汉克苣苔属(Henckelia)，并将接受名改为Henckelialongisepala(H.W.Li)D.J.MiddletonandMich.(al.,2016；Wenetal.,2019)。密序苣苔分布于云南东南部，老挝与越南北部，仅生于海拔250～800m石灰岩山谷灌丛或沟边阴处，生境非常特殊，对环境要求的严格程度高，一旦上层植被遭到破坏即难以生存。云南省极小种群拯救保护规划纲要(2010-2020年)将其列为亟待保护的62种野生极小种群植物之一，IUCN评价属于极危状态[CRB本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种密序苣苔的组织培养方法，其特征在于，包括以下措施：/n密序苣苔外植体处理、密序苣苔组织的初代培养、继代增殖、生根培养、炼苗移栽。/n

【技术特征摘要】
1.一种密序苣苔的组织培养方法，其特征在于，包括以下措施：
密序苣苔外植体处理、密序苣苔组织的初代培养、继代增殖、生根培养、炼苗移栽。


2.根据权利要求1所述的密序苣苔的组织培养方法，其特征在于，所述密序苣苔外植体处理包括：
选取密序苣苔健康植株的幼嫩叶片，用软毛刷蘸取洗洁精稀释液轻轻扫除其表面污物，自来水下冲洗干净后放入盛满水的150ml烧杯中，加入3滴洗洁精，轻轻震荡10min后，流水冲洗15min，转移到超净工作台进行灭菌的操作；
然后将叶片在75％酒精溶液中浸泡10s，无菌水冲洗2次；然后将叶片在加入3-5滴的吐温80的0.1％HgCl2溶液中浸泡2-10min，浸泡过程中轻轻震荡使叶片充分接触溶液，无菌水冲洗5次。


3.根据权利要求1所述的密序苣苔的组织培养方法，其特征在于，所述密序苣苔组织的初代培养包括：
将灭菌结束后的叶片切成1.5cm×1.5cm大小，按叶面正面朝上的方式平铺接入不定芽诱导培养基中进行培养；
所述不定芽诱导培养基为...

【专利技术属性】
技术研发人员：王逸之，向建英，孙大宽，罗仕秋，
申请(专利权)人：西南林业大学，
类型：发明
国别省市：云南;53