【技术实现步骤摘要】
显示面板及其制造方法、显示装置
本申请涉及显示
，特别涉及一种显示面板及其制造方法、显示装置。
技术介绍
目前的有机电致发光(英文：OrganicLight-EmittingDiode简称：OLED)显示面板通常包括阳极层、有机发光层和阴极层，根据发光面不同可分为底发射型OLED显示面板和顶发射型OLED显示面板两种，由于顶发射型OLED显示面板可以获得更大的开口率，近年来成为研究的热点。顶发射型OLED显示面板需要薄且透明的阴极层和能够进行光反射的阳极层，以增加光的透过率，而薄且透明的阴极层普遍存在电阻值较高，电压降(IRdrop)严重的问题。通常在阴极层中距离电源供给点越远的位置的电压降越明显，从而导致OLED显示面板有明显的发光不均匀的现象。为了克服OLED显示面板中的阴极层中电压降严重的问题，需要在形成该OLED显示面板中的有机发光层和阴极层之前形成辅助电极，该辅助电极与后续形成的阴极层电连接，电源可以为辅助电极提供电信号，通过该辅助电极可以使阴极层中各个位置的电压相同。在形成OLED显...
【技术保护点】
1.一种显示面板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：/n在基板上通过一次构图工艺形成导电图形，所述导电图形包括：阳极层和辅助电极层，所述辅助电极层包括：沿垂直且远离所述基板的方向层叠设置的第一保护电极、金属电极和第二保护电极，沿平行于所述基板的方向，所述第一保护电极与所述第二保护电极均凸出于所述金属电极，所述第二保护电极在所述基板上的正投影位于所述第一保护电极在所述基板上的正投影内，且沿平行于所述基板的方向，所述第二保护电极的边界与所述第一保护电极的边界错开；/n在所述导电图形上形成发光层；/n在所述发光层上形成阴极层，所述阴极层与所述第一保护电极接触，且与所述金属电极的侧壁接触。/n
【技术特征摘要】
1.一种显示面板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：
在基板上通过一次构图工艺形成导电图形，所述导电图形包括：阳极层和辅助电极层，所述辅助电极层包括：沿垂直且远离所述基板的方向层叠设置的第一保护电极、金属电极和第二保护电极，沿平行于所述基板的方向，所述第一保护电极与所述第二保护电极均凸出于所述金属电极，所述第二保护电极在所述基板上的正投影位于所述第一保护电极在所述基板上的正投影内，且沿平行于所述基板的方向，所述第二保护电极的边界与所述第一保护电极的边界错开；
在所述导电图形上形成发光层；
在所述发光层上形成阴极层，所述阴极层与所述第一保护电极接触，且与所述金属电极的侧壁接触。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在基板上通过一次构图工艺形成导电图形，包括：
在所述基板上依次形成第一导电薄膜、第二导电薄膜和第三导电薄膜；
在所述第三导电薄膜上形成第一光刻胶图案；
对所述第三导电薄膜进行第一刻蚀处理，得到第一子导电图形；
对所述第二导电薄膜进行第二刻蚀处理，得到第二子导电图形；
对所述第一光刻胶图案进行灰化处理，以去除所述第一光刻胶图案中的边缘部分，得到第二光刻胶图案；
对所述第一子导电图形进行第三刻蚀处理，得到第三子导电图形，所述第三子导电图形包括：所述第二保护电极；
对所述第一导电薄膜进行第四刻蚀处理，得到第四子导电图形，所述第四子导电图形包括：所述第一保护电极；
对所述第二子导电图形进行过刻处理，得到第五子导电图形，所述第五子导电图形包括：所述金属电极。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，对所述第一光刻胶图案进行灰化处理，以去除所述第一光刻胶图案中的边缘部分，得到第二光刻胶图案，包括：
将形成有所述第一光刻胶图案的基板至于包含灰化气体的环境中，以使所述灰化气体减薄所述第一光刻胶图案的厚度，并去除所述第一光刻胶图案中的边缘部分，得到所述第二光刻胶图案，所述灰化气体用于与光刻胶反应。
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述灰化气体包括：氧气或者氧气与六氟化硫的混合气体。
5.根据权利要求要求2所述的方法，其特征在于，所述阳极层包括：沿远离所述基板方向依次层叠设置的第一子阳极、第二子阳极和第三阳极；
对所述第二子导电图形进行过刻处理，得到第五子导电图形之前，所述方法还包括：
去除所述第二光刻胶图案；
在所述第三子导电图形上形成环绕在所述阳极层周围的像素界定层；
其中，所述第四子导电图形还包括：所述第一子阳极，所述第二子导电图形包括：所述第二子阳极，所述第三子导电图形还包...
【专利技术属性】
技术研发人员：张扬，刘宁，周斌，程磊磊，闫梁臣，刘军，王庆贺，孙涛，罗志文，
申请(专利权)人：合肥鑫晟光电科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34
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