【技术实现步骤摘要】
显示装置及其制备方法
本申请涉及显示
，具体涉及一种显示装置及其制备方法。
技术介绍
近年来，有机发光二极管显示装置以其独有的优势正吸引着业内绝大多数从业者注意，在中小尺寸显示领域更有取代液晶显示面板的趋势，现阶段中的有机发光二极管面板大多依赖蒸镀制程，其中，在蒸镀制程中用于图形定义的治具为金属掩模版，但是因为金属掩膜板在使用刻蚀制程后形成开口，且开口与基板直接接触，进而会对基板造成划伤，因划伤产生的异物可能会对后续的制程产品信赖性不良的结果，并且半刻蚀设计会造成边缘膜厚不均区域增加，不利于实现窄边框。
技术实现思路
本申请提供一种显示装置及其制备方法，以解决现有技术中对基板划伤的问题。本申请提供一种显示装置，所述显示装置包括显示区和非显示区，所述显示装置包括：一阵列基板；平坦层，所述平坦层设置于所述阵列基板上；像素定义层，所述像素定义层位于所述显示区，所述像素定义层设置于所述平坦层上；以及防护层，所述防护层位于所述非显示区，所述防护层设置于所述平坦层上。
【技术保护点】
1.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括显示区和非显示区，所述显示装置包括：/n一阵列基板；/n平坦层，所述平坦层设置于所述阵列基板上；/n像素定义层，所述像素定义层位于所述显示区，所述像素定义层设置于所述平坦层上；以及/n防护层，所述防护层位于所述非显示区，所述防护层设置于所述平坦层上。/n
【技术特征摘要】
1.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括显示区和非显示区，所述显示装置包括：
一阵列基板；
平坦层，所述平坦层设置于所述阵列基板上；
像素定义层，所述像素定义层位于所述显示区，所述像素定义层设置于所述平坦层上；以及
防护层，所述防护层位于所述非显示区，所述防护层设置于所述平坦层上。
2.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述防护层的材料为类金刚石。
3.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述防护层的厚度为3纳米-980纳米。
4.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述显示装置还包括支撑结构，所述支撑结构设置于所述像素定义层上。
5.如权利要求4所述的显示装置，其特征在于，所述显示装置还包括挡墙，所述非显示区包括第一区域和第二区域，所述第一区域位于靠近所述像素定义层的一侧，所述第二区域位于远离所述像素定义层的一侧，所述挡墙设置于所述第二区域上的平坦层，所述防护层覆盖所述挡墙，所述挡墙的高度与所述防护层的厚度之和...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈永胜，蒋谦，
申请(专利权)人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42
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