【技术实现步骤摘要】
基板保持装置及基板处理装置
本专利技术涉及一种保持晶片等基板并使其旋转的基板保持装置。另外，本专利技术涉及一种具备这样的基板保持装置的基板处理装置。
技术介绍
近年来，存储器电路、逻辑电路、图像传感器(例如CMOS传感器)等器件正在被更高地集成化。在形成这些器件的工序中，微粒子、尘埃等异物有时会附着于器件。附着于器件的异物会引起布线间的短路、电路的不良。因此，为了提高器件的可靠性，需要清洗形成有器件的晶片，除去晶片上的异物。在晶片的背面(裸硅面)上，有时也附着有上述那样的微粒子、粉尘等异物。当这样的异物附着在晶片的背面时，晶片会从曝光装置的载物台基准面离开，或晶片表面会相对于载物台基准面倾斜，其结果是，产生图案的偏移、焦点距离的偏移。为了防止这样的问题，需要除去附着在晶片的背面的异物。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2019-83224号公报专利技术所要解决的课题最近，对能够更有效地处理基板的整个表面的装置的需求越来越高。因此，提出了一种基板保持装置，该基板保持...
【技术保护点】
1.一种基板保持装置，一边使基板进行圆运动，一边使所述基板以该基板的轴心为中心旋转，其特征在于，具备：/n多个辊，该多个辊能够与所述基板的周缘部接触；/n多个电动机，该多个电动机使所述多个辊旋转；/n多个偏心轴，该多个偏心轴围绕预先确定的中心轴线排列；以及/n多个致动器，/n所述多个偏心轴具有多个第一轴部和多个第二轴部，该多个第二轴部分别从所述多个第一轴部偏心，/n所述多个辊分别固定于所述多个第二轴部，所述多个第一轴部分别与所述多个电动机连结，/n所述多个偏心轴由多个可动轴及多个基准轴构成，/n所述多个致动器分别与所述多个可动轴连结，/n所述多个致动器构成为，使所述多个可动...
【技术特征摘要】
20190618 JP 2019-112675;20191216 JP 2019-2264371.一种基板保持装置，一边使基板进行圆运动，一边使所述基板以该基板的轴心为中心旋转，其特征在于，具备：
多个辊，该多个辊能够与所述基板的周缘部接触；
多个电动机，该多个电动机使所述多个辊旋转；
多个偏心轴，该多个偏心轴围绕预先确定的中心轴线排列；以及
多个致动器，
所述多个偏心轴具有多个第一轴部和多个第二轴部，该多个第二轴部分别从所述多个第一轴部偏心，
所述多个辊分别固定于所述多个第二轴部，所述多个第一轴部分别与所述多个电动机连结，
所述多个偏心轴由多个可动轴及多个基准轴构成，
所述多个致动器分别与所述多个可动轴连结，
所述多个致动器构成为，使所述多个可动轴向接近所述多个基准轴的方向以及从所述多个基准轴远离的方向移动。
2.根据权利要求1所述的基板保持装置，其特征在于，
所述多个偏心轴还具有多个中间轴部，该多个中间轴部将所述多个第一轴部与所述多个第二轴部连结，
所述多个第一轴部分别固定于所述多个中间轴部，所述多个第二轴部分别固定于所述多个中间轴部。
3.根据权利要求1或2所述的基板保持装置，其特征在于，
还具备动作控制部，该动作控制部使所述多个电动机以相同速度且以相同相位旋转。
4.根据权利要求1或2所述的基板保持装置，其特征在于，
接近所述多个基准轴的方向以及从所述多个基准轴远离的方向是朝向所述中心轴线的方向以及从所述中心轴线远离的方向。
5.根据权利要求1或2所述的基板保持装置，其特征在于，
所述多个致动器分别具备：
活塞；
壳体，该壳体远离所述活塞配置；以及
隔壁膜，该隔壁膜在所述活塞与所述壳体之间形成压力室。
6.根据权利要求5所述的基板保持装置，其特征在于，
所述隔壁膜具有：
中央部，该中央部与所述活塞的端部接触；
内壁部，该内壁部与所述中央部连接，且沿着所述活塞的侧面延伸；
折返部，该折返部与所述内壁部连接，且具有弯曲的截面；以及
外壁部，该外壁部与所述折返部连接，且位于所述内壁部的外侧。
7.根据权利要求1或2所述的基板保持装置，其特征在于，
还具备至少一个非接触式的距离传感器，该距离传感器测定所述多个可动轴中的至少一个可动轴的移动距离。
8.根据权利要求7所述的基板保持装置，其特征在于，
还具备动作控制部，该动作控制部构成为，通过将所述移动距离的测定值或根据所述移动距离的多个测定值计算出的指标值与预先设定的阈值进行比较来判断所述基板保持装置是否发生异常。
9.根据权利要求8所述的基板保持装置，其特征在于，
所述指标值是所述多个辊旋转一周以上时的所述多个可动轴中的至少一个可动轴的位置的平均值。
10.根据权利要求8所述的基板保持装置，其特征在于，
所述指标值是所述多个辊旋转一周以上的期间的...
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