一种耐高温红外低发射率涂层的制备方法技术

本发明专利技术属于红外隐身技术领域，具体为一种耐高温红外低发射率涂层的制备方法。本发明专利技术方法不需要在涂层中添加粘合剂，在高温下不会恶化发射率；并且制备出来的涂层在2‑14μm法向上是不透的，这样的涂层有利于红外隐身技术。另外，YSZ材料的隔热性能比较好，将其用于低发射率涂层的制备，有利于降低目标表面的温度，这样对降低飞行器的红外辐射强度起到双倍的效果。并且进一步的，为了保证YSZ涂层在其他方向上也是不透的，通过在石墨基底上预先喷涂一层YSZ/NiCoCrAIY的复合涂层，然后再在复合涂层表面进行YSZ涂层的制备和石墨基底剥离。

【技术实现步骤摘要】
一种耐高温红外低发射率涂层的制备方法
本专利技术属于红外隐身
，具体为一种耐高温红外低发射率涂层的制备方法。
技术介绍
随着军事技术的快速发展，红外隐身技术变得越来越重要，而红外隐身的关键在于降低目标的红外辐射强度。根据玻尔兹曼定律：红外辐射强度E＝εσT4，(其中ε为材料的发射率，T为物体表面的热力学温度,σ为玻尔兹曼常数)要降低红外辐射强度，最主要是降低材料的温度和发射率，所以制备低发射率且隔热性能好的涂层至关重要。现在主要的低发射率涂层有金属材料和半导体材料，金属材料虽然具有较低的发射率，但是随着飞行器的发展，目标高速飞行使表面温度急剧上升，在高温环境下，金属材料容易氧化裂解，失去了红外隐身的作用。在现有的研究中，由于等离子喷涂具有技术稳定，涂层质量高，喷涂种类多的优点，所以选用等离子喷涂技术制备半导体涂层，但是制备出来的涂层在2-14μm波段都是半透明的，透过率高达20-50％。这样的涂层不适用于红外隐身技术，因为高的透过率导致飞行器向外辐射较多的能量，目标会更容易被探测到。另外，在目前的研究中用等离子体喷涂制备的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种耐高温红外低发射率涂层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：/n步骤1、选择纯度大于99.9wt％的YSZ粉体，将粉体干燥备用；/n步骤2、对石墨基底材料进行超声清洗及烘干；/n步骤3、采用等离子体喷涂技术在步骤2所得石墨基底表面进行喷涂步骤1所得YSZ粉体，制备YSZ涂层；/n步骤4、将步骤3制备好的YSZ涂层在空气中进行退火，退火温度为800-1200℃，时间为1-4h，使石墨基底剥落，得到YSZ涂层。/n

【技术特征摘要】
1.一种耐高温红外低发射率涂层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤1、选择纯度大于99.9wt％的YSZ粉体，将粉体干燥备用；
步骤2、对石墨基底材料进行超声清洗及烘干；
步骤3、采用等离子体喷涂技术在步骤2所得石墨基底表面进行喷涂步骤1所得YSZ粉体，制备YSZ涂层；
步骤4、将步骤3制备好的YSZ涂层在空气中进行退火，退火温度为800-1200℃，时间为1-4h，使石墨基底剥落，得到YSZ涂层。


2.如权利要求1所述耐高温红外低发射率涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤1中YSZ粉体的粒度为10～50μm。


3.如权利要求1所述耐高温红外低发射率涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤3制得的YSZ涂层厚度为100-700μm。


4.如权利要求1所述耐高温红外低发射率涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤1中，YSZ粉体中的ZrO2和Y2O3的摩尔比为8：1。


5.如...

【专利技术属性】
技术研发人员：张丽，殷举航，张胤，张敏，江绍亮，王昕，谢建良，梁迪飞，邓龙江，
申请(专利权)人：电子科技大学，
类型：发明
国别省市：四川;51