分析器制造技术

技术编号:2675240 阅读:164 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种分析器,包括光学可调过滤器(1)和接收从所述光学可调过滤器(1)输出并通过被测量物体或由被测量物体反射的光的PD(421)。光学可调过滤器(1)包括具有透光性的可移动部分(31)的第一衬底(3);与第一衬底相对设置的透光性的第二衬底(2);分别设置在第一衬底(3)的可移动部分(31)和第二衬底(2)之间的第一间隙(21)和第二间隙(22);干涉部分,其与进入光学可调过滤器(1)并且具有预定波长的光在可移动部分和第二衬底(2)之间通过第二间隙(22)干涉;以及驱动部分,驱动部分用于通过相对于第二衬底(2)利用第一间隙(21)移动可移动部分(31)而改变第二间隙(22)的距离。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种分析器,尤其涉及一种利用光学可调过滤器的分析器。
技术介绍
已知一种利用光学可调过滤器的分析器。在这种分析器中,当用光(红外光线)辐射分析器中的被测量目标(物质)时,具有预定波长的光被物质吸收。通过用分析器检查物质已经吸收的光的波长,可以了解构成该物质的原子的种类,和原子的结合结构。对于与根据本专利技术的分析器有关的专利,可以提及下面的文件。由表面微加工形成的过滤器在这种传统的分析器中,仅仅通过牺牲层的厚度控制可变间隙的厚度。根据这种方法,依用于形成牺牲层的条件可变间隙的厚度发生改变,从而导致下述问题薄膜和驱动电极之间不产生均匀的库仑力,因此不能实现稳定的驱动。此外,由于传统的光学可调过滤器具有可移动部分从衬底的表面突出的结构,因此光学可调过滤器厚度大(例如见日本专利公开No.2002-174721)。利用SOI晶片的过滤器另一方面,美国专利No.6,341,039披露了利用作为牺牲层的SOI(绝缘体上硅结构)晶片的SiO2层形成的具有可变间隙的过滤器。通过利用作为牺牲层的SOI晶片的这种SiO2层,可以以高精度形成可变间隙。然而,在这种过滤器中,在驱动电极和可移动部分之间没有提供绝缘结构,因此出现下述问题当可移动部分和驱动电极之间产生较大的静电吸引力时,可移动部分和驱动电极粘在一起(例如见美国专利No.6,341,039)。两种类型的过滤器的共同问题在两种类型的过滤器中,牺牲层最终被释放以形成可变间隙。因此,释放孔必须设置在过滤器中,以供给用于释放到牺牲层的液体。这引起下述问题增加了库伦力作用的面积降低从而增加了用于驱动的电压。此外,如果可变间隙较小,当释放牺牲层时,由于水的表面张力发生薄膜和驱动电极衬底粘在一起的现象(即发生称为“粘连”的现象)。在这种情况下,需要在不释放牺牲层的情况下能够制造的过滤器。
技术实现思路
因此本专利技术的目的是提供一种结构更简单并且尺寸更小的分析器,该分析器不利用释放孔通过简化的制造工艺制造并且能够实现可移动部分的稳定驱动。为了实现上述目的,本专利技术提供了一种分析器,所述分析器包括用于选择性地输出具有预定波长的光的光学可调过滤器和用于接收从所述光学可调过滤器输出并通过被测量物体或由被测量物体反射的光的光接收部分;包括具有透光性的可移动部分的第一衬底;具有透光性的第二衬底,所述第二衬底设置为与所述第一衬底相对;分别设置在所述第一衬底的可移动部分和所述第二衬底之间的第一间隙和第二间隙;干涉部分,所述干涉部分引起与进入所述光学可调过滤器并且具有预定波长的光在所述可移动部分和所述第二衬底之间通过所述第二间隙的干涉;以及驱动部分,所述驱动部分用于通过相对于所述第二衬底利用所述第一间隙移动所述可移动部分而改变所述第二间隙的距离。根据具有上述结构的本专利技术,可以提供一种具有更简单结构和更小尺寸的分析器。此外,这种分析器能够在不利用释放孔的情况下容易制造并且能够实现对可移动部分的稳定驱动。在本专利技术的分析器中,优选方式是,所述光接收部分设置在所述第一衬底的一侧,该第一衬底的一侧与设置所述第二衬底的另一侧相对。这使得可以提供一种具有更简单结构和更小尺寸的分析器。此外,进一步优选的是,所述分析器还包括其中放置所述被测量物体的流道,其中所述光接收部分设置在所述流道内。由此,可以提供一种具有更简单结构和进一步更小尺寸的分析器。此外,进一步优选的是,所述分析器还包括设置为与所述光学可调过滤器相对的第三衬底,其中所述流道限定在所述光学可调过滤器和所述第三衬底之间。这使得可以容易并可靠地设置流道。在这种布置中,优选方式是,所述流道设置为通过对应于所述干涉部分的部分。这使得可以提供具有更简单结构的分析器。此外,进一步优选的是,所述第三衬底设置在所述第二衬底上。这使得可以容易并可靠地提供流道。此外,进一步优选的是,所述第三衬底具有透光性。这使得可以实现光能够有效透过的分析器。在本专利技术的分析器中,优选方式是,具有预定波长并且从所述光学可调过滤器输出的光通过所述被测量物体,然后被所述光接收部分接收。此外,进一步优选的是,在已经通过所述被测量物体或已经被所述被测量物体反射的具有预定波长的光选择性地从所述光学可调过滤器输出,然后被所述光接收部分接收。在本专利技术的分析器中,优选方式是,所述第二衬底具有面向所述可移动部分的表面,其中所述第二衬底的表面形成有用于与所述可移动部分提供所述第一间隙的第一凹部和用于与所述可移动部分提供所述第二间隙的第二凹部,并且所述第二凹部形成为比所述第一凹部深。根据这种特征,由于用于移动可移动部分的第一间隙和用于干涉光的第二间隙利用同一衬底设置,因此可以提供一种分析器,该分析器具有更简单的结构和更小的尺寸并且能够通过简化的制造工艺制造。在这种布置中,优选方式是,所述第一凹部围绕所述第二凹部设置并与所述第二凹部连续。这种布置使得可以有效地传播光并且稳定地驱动可移动部分。此外,在本专利技术的分析器中,优选方式是,所述驱动部分构造为通过库伦力移动所述可移动件。这使得可以稳定地驱动可移动部分。此外,在本专利技术的分析器中,进一步优选的是,所述第二衬底具有驱动电极,并且所述驱动电极设置在所述第二衬底的第一凹部的表面上,其中在所述可移动部分和所述驱动电极之间产生库伦力。这使得可以更稳定地驱动可移动部分。此外,在本专利技术的分析器中,进一步优选的是,所述第一间隙和所述第二间隙通过蚀刻处理形成。这使得可以以高精度形成第一间隙和第二间隙。此外,在本专利技术的分析器中,进一步优选的是,所述第一衬底由硅制造。这使得可以简化结构和制造工艺。此外,在本专利技术的分析器中,进一步优选的是,当从其顶部观看时所述第一衬底的可移动部分实质上呈圆形。这也使得可以有效地驱动可移动部分。此外,在本专利技术的分析器中,进一步优选的是,所述第二衬底具有由玻璃制造的基体。这使得可以以高精度形成衬底,由此能够提供光能够有效透过的分析器。在这种情况下,优选方式是,所述玻璃包含碱金属。这使得更容易制造分析器并且以高粘接力牢固地粘接第一衬底和第二衬底。此外,在本专利技术的分析器中,进一步优选的是,所述可移动部分具有与所述第二间隙对应的表面,其中第一反射膜设置在所述可移动部分的表面上并且第二反射膜设置在所述第二衬底的所述第二凹部的表面上。这使得可以有效地反射光。在这种布置中,优选方式是,所述第一反射膜和所述第二反射膜中的每一个由多层膜形成。这使得可以容易地改变薄膜厚度,由此能够简化反射膜的制造工艺。此外,还优选所述第一反射膜具有绝缘特性。这使得可以在可移动部分和第二衬底之间以简单的结构提供可靠的绝缘。此外,在本专利技术的分析器中,进一步优选的是,减反射膜设置在所述可移动部分的不面向所述第二间隙的表面和所述第二衬底不面向所述第二间隙的表面中的至少一个上。这使得可以抑制光的反射并且有效地传播光。在这种布置中,优选所述减反射膜由多层膜形成。这使得可以容易改变薄膜厚度,由此能够实现简化减反射膜的制造工艺。当结合附图考虑下面对优选实施例的描述时,本专利技术的上述和其它目的、结构和优点将变得更明显。附图说明图1是描述用于根据本专利技术的分析器的光学可调过滤器的实施例的剖视图;图2是描述用于根据本专利技术的分析器的光学可调过滤器的实施例的俯视图;图3是描述用于制造用于根据本专利技术的分析器本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种分析器,包括:用于选择性地输出具有预定波长的光的光学可调过滤器和用于接收从所述光学可调过滤器输出并通过被测量物体或由被测量物体反射的光的光接收部分;包括具有透光性的可移动部分的第一衬底;具有透光性的第二衬底,所述 第二衬底设置为与所述第一衬底相对;分别设置在所述第一衬底的可移动部分与所述第二衬底之间的第一间隙和第二间隙;干涉部分,所述干涉部分使与进入所述光学可调过滤器并且具有预定波长的光在所述可移动部分和所述第二衬底之间通过所述第二间 隙发生干涉;以及驱动部分,所述驱动部分通过利用所述第一间隙相对于所述第二衬底移动所述可移动部分而改变所述第二间隙的距离。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:村田昭浩
申请(专利权)人:精工爱普生株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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