ITO靶材高纯纳米氧化铟锡粉体制造方法技术

本发明专利技术公开了一种ITO靶材高纯纳米氧化铟锡粉体制造方法，包括以下步骤：将草酸铟和草酸锡或乙酸铟和乙酸锡按比例溶解于去离子水中形成透明的水溶液，再加入尿素或碳酸铵或碳酸氢铵将上述两种溶液混合后转入反应釜中，然后将反应釜置入烘箱中进行水热反应制备纳米氧化锡铟粉体。采用上述技术方案制备的纳米氧化铟锡粉体中无机酸根离子浓度可以控制10ppm以下，而且纳米氧化铟锡粉体的尺寸可由铵盐水解反应产生OH～离子控制。可生产高纯、致密度高的ITO靶材，为制造高端高质量的ITO薄膜提供可靠可选的方法。

【技术实现步骤摘要】
ITO靶材高纯纳米氧化铟锡粉体制造方法
本专利技术属于ITO靶材制造领域，特别是ITO靶材制造过程中高纯纳米氧化铟锡粉体的制造方法。
技术介绍
铟锡氧化物(Indiumtinoxide，ITO)是氧化铟与氧化锡组成的半导体氧化物。Sn4+离子固溶于In2O3晶格中以替代掺杂形式n型半导体。ITO薄膜具有低电阻率、高透光率、良好化学稳定性和蚀刻性能等优点，广泛应用于平面显示器、透明加热元件、抗静电膜、电磁防护膜、太阳能电池透明电极、防反光涂层及热反射镜等光电器件等尖端制造领域。ITO靶材的制备方法都是先制备纳米氧化铟和氧化锡粉体，再混合后成型、烧结成ITO靶材。目前，纳米氧化铟和氧化锡的湿化学制备方法主要包括化学沉淀法、喷雾热解法、溶胶～凝胶法等。专利“CN106348338A”以InCl3·4H2O和SnCl2·2H2O为铟源与锡源，采用喷雾热解法制备粉体。专利“CN102557115B”中锡和铟的盐酸盐、硝酸盐或硫酸盐与氨盐为前驱体以水热法制备球形的纳米粉体。上述湿化学多以金属的无机盐制备纳米粉体，后续再经过多次洗涤以去除无机酸根离子。纳米粉本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.ITO靶材高纯纳米氧化铟锡粉体制造方法，其特征在于，包括以下步骤：/na、将草酸铟(In

【技术特征摘要】
1.ITO靶材高纯纳米氧化铟锡粉体制造方法，其特征在于，包括以下步骤：
a、将草酸铟(In2(C2O4)3)和草酸锡(Sn(C2O4)2)按照7.7～8.7：1的质量比例溶解于去离子水中形成透明的水溶液；或将乙酸铟(In(C2H3O2)3)和乙酸锡(Sn(C2H3O2)4)按照11.4～12.4：1的质量比例溶解于去离子水中形成透明的水溶液；
b、将尿素或碳酸铵或碳酸氢铵溶解于上述去离子水中形成透明的水溶液其浓度为0.4～0.8mol/L；
c、将上述两种溶液混合后转入反应釜中，然后将反应釜置入烘箱中进行水热反应制备纳米氧化锡铟粉体。


2.根据权利要求1所述的ITO靶材高纯纳米氧化铟锡粉体制造方法，其特征在于，所述的水热反应温度：60～150℃，反应时间：30min～5h。


3.根据权利要求1所述的ITO靶材高纯纳米氧化铟锡粉体制造方法，其特征在于，所述的铟盐与锡盐水溶液的浓度分别为0.05～0.5mol/L与0....

【专利技术属性】
技术研发人员：丁金铎，葛春桥，崔恒，柳春锡，金志洸，王梦涵，
申请(专利权)人：中山智隆新材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44