光学元件制造技术

技术编号:2671659 阅读:190 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
水平轴表示树脂的线性膨胀系数B与基底的线性膨胀系数A之比,垂直轴表示树脂的厚度。O表示没有由基底的损坏造成的树脂的剥离,X表示发生由基底的损坏造成的树脂的剥离。当从这些结果中判断(B/A)与不发生树脂剥离处的树脂厚度Y的关系时,获得下列关系(图中的曲线表示):Y≤200/(B/A)+30(1),从该关系看出,如果树脂的厚度等于或小于30μm,则不发生剥离。但发现:如果(B/A)很小,则甚至在厚度大于30μm处也不发生剥离,只要满足上述的方程。(*该技术在2024年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种光学元件,该光学元件是一种诸如微透镜、微透镜阵列或衍射光栅的光学元件,具有由玻璃、石英等制成的基底和树脂层,该树脂层形成在该基底的至少一个表面上并形成诸如微透镜、微透镜阵列或衍射光栅的光学元件。
技术介绍
用于制造显微光学元件的方法根据光学元件使用的材料以及加工的形状而改变。常规地,球面透镜或非球面透镜通过对玻璃进行研磨或抛光而制造。但在这种情况下生产率很低,加工的形状也非常有限。因而近来开始采用通过车刀直接切割的方法以及利用光刻和蚀刻技术结合的方法作为生产衍射光栅中显微形状等的方法。在前一种情形中,可以实现以几十微米的量级进行形状加工,在后一种情形中可以实现根据步进式光刻机的光学限度进行亚微米的形状加工。特别是,通过利用光刻技术在石英上形成抗蚀图、再通过蚀刻切割石英来制造高性能的显微光学元件。下面将简要描述该工艺。石英的表面均匀地涂覆抗蚀剂,并制备一种其上设置了所需图案的分划板。在利用步进式光刻机将该所需图案投影到抗蚀剂上之后,将基底浸没在显影液中,以便去除抗蚀剂的不必要的部分。此抗蚀剂上图案的形成也可以利用通过镀铬掩模的曝光实现,或是利用以电子束描画装置取代本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学元件,包括基底和形成在该基底的至少一个表面上的树脂层,其中该树脂层具有厚部和薄部,在该厚部中光学元件形成在该树脂层的内侧,该薄部形成在包围该厚部的区域中。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:林政俊
申请(专利权)人:株式会社尼康
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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