一种新型干刻设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种新型干刻设备，其包括腔室、多个支柱、保护平台、压力控制器和分子泵，所述腔室底部设有排气口；多个所述支柱设于所述腔室的上表面且环绕所述排气口设置；所述保护平台固定于多个所述支柱上且覆盖所述排气口；所述压力控制器设于所述腔室的排气口的下方；所述分子泵设于所述压力控制器的下方。由于保护平台固定于支柱上且覆盖住排气口，玻璃碎屑无法直接落入排气口，而是掉落在保护平台上或掉落在腔室底部，从而防止玻璃碎屑从排气口落入分子泵，从而保护设备不受损坏，也不影响排气。

【技术实现步骤摘要】
一种新型干刻设备
本技术涉及一种显示器制备
，更具体地说，涉及一种新型干刻设备。
技术介绍
干刻设备通常包括工艺腔室、设于工艺腔室下方的压力控制器和设于压力控制器下方的分子泵，工艺腔室的底部设置有排气口，工艺腔室在进行工作时，其内部的玻璃常因异常放电导致支撑部位磨损或其他岗位造成的暗伤，造成玻璃破碎，玻璃破碎后其碎渣容易通过排气口掉入下方高速运转的分子泵，从而损坏分子泵，造成不可估量的损失。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是提供了一种新型干刻设备，由于保护平台固定于支柱上且覆盖住排气口，玻璃碎屑无法直接落入排气口，而是掉落在保护平台上或掉落在腔室底部，从而防止玻璃碎屑从排气口落入分子泵，从而保护设备不受损坏，也不影响排气。本技术所要解决的技术问题通过以下技术方案予以实现：为解决上述技术问题，本技术提供了一种新型干刻设备，其包括腔室、多个支柱、保护平台、压力控制器和分子泵，所述腔室底部设有排气口；多个所述支柱设于所述腔室的上表面且环绕所述排气口设置；所述保护平台固定于多个所述支柱上且覆盖所述排气口；所本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种新型干刻设备，其特征在于，其包括：/n腔室，其底部设有排气口；/n多个支柱，其设于所述腔室的上表面且环绕所述排气口设置；/n保护平台，其固定于多个所述支柱上且覆盖所述排气口；/n压力控制器，其设于所述腔室的排气口的下方；/n分子泵，其设于所述压力控制器的下方。/n

【技术特征摘要】
1.一种新型干刻设备，其特征在于，其包括：
腔室，其底部设有排气口；
多个支柱，其设于所述腔室的上表面且环绕所述排气口设置；
保护平台，其固定于多个所述支柱上且覆盖所述排气口；
压力控制器，其设于所述腔室的排气口的下方；
分子泵，其设于所述压力控制器的下方。


2.根据权利要求1所述的新型干刻设备，其特征在于，所述支柱距离所述排气口2cm-4cm。


3.根据权利要求1所述的新型干刻设备，其特征在于，所述保护平台的下方设有网罩，所述网罩位于所述支柱远离所述排气口的一侧且环绕所述支柱设置。


4.根据权利要求3所述的新型干刻设备，其特征在于，所述网罩为铁网。

【专利技术属性】
技术研发人员：王金宝，陈飞，冷问竹，
申请(专利权)人：信利仁寿高端显示科技有限公司，
类型：新型
国别省市：四川;51