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本实用新型公开了一种新型干刻设备，其包括腔室、多个支柱、保护平台、压力控制器和分子泵，所述腔室底部设有排气口；多个所述支柱设于所述腔室的上表面且环绕所述排气口设置；所述保护平台固定于多个所述支柱上且覆盖所述排气口；所述压力控制器设于所述腔室...
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