平面光回路、波动传播回路的设计方法技术

本发明专利技术提供一种平面光回路，是由形成在基板上的芯体和包覆层构成的平面光回路，其特征在于具备：将信号光输入的１个以上的输入光波导（１１１）；模式耦合模块（１１２），其使输入的所述信号光的一部分即基本模式耦合为高次模式或辐射模式中至少一方；模式再耦合模块（１１３），其使高次模式或辐射模式中至少一方耦合为基本模式；以及将信号光输出的１个以上的输出光波导（１１４），模式耦合模块以及模式再耦合模块是芯体的幅宽以及高度的至少一方连续地变动的光波导。从而，提供一种以已知的平面光回路制作工序，可容易制作的、将信号光的传播损耗降低的、将输入的信号光变换而将所望的信号光而取出的平面光回路。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于对将所输入的信号光转换而取出所望信号光的平面光回路、波导传播回路进行最优化的设计方法，以及用于实施该设计方法的计算机程序。
技术介绍
伴随着光通信系统进一步的大容量化、高速化，将完成高功能的光学装置低廉地进行提供的重要性增大了。制作在平面基板上的光回路，由于设计自由度高且批量性/稳定性优越，从而能够提供符合上述要求的光学装置，使得相关研究开发在全世界盛行起来。图40～图42表示以往的平面光回路的一例。图40所示的平面回路的构成为输入光波导171、以及与输入光波导171光学耦合的输出光波导172(例如，参照专利文献1)。图40所示的平面光回路，通过将输出光波导172设计成抛物线形状，从而为平面光回路赋予了输出信号光的场分布进行调整的功能。但是，在该设计方法中，由于仅对输入信号光的基本模式和在此耦合的2次模式进行处理，使得作为对信号光的场分布进行调整的透镜特性较低。另外，由于是使2次模式慢慢地生成的结构，所以产生了平面光回路尺寸变大这样的问题。另外，通过采用将锥形形状的光波导和光纤的连接部分周期性地分割的结构，赋予光斑尺寸(spot size)变换功能的平面光回本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种平面光回路，是由形成于基板表面的芯体和包覆层构成的平面光回路，其特征在于，具备：１个以上的输入光波导，其输入信号光；模式耦合模块，其使输入的所述信号光的一部分即基本模式耦合为高次模式或辐射模式中的至少一方，或模式 再耦合模块，其使高次模式或辐射模式中至少一方再耦合为基本模式；以及１个以上的输出光波导，其输出信号光，所述模式耦合模块和所述模式再耦合模块是芯体的幅宽以及高度的至少一方连续地变动的光波导。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：才田隆志，坂卷阳平，桥本俊和，鬼头勤，高桥浩，柳泽雅弘，铃木扇太，肥田安弘，石井元速，田村宗久，
申请(专利权)人：日本电信电话株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]