一种彩色滤光片基板制备方法及显示面板技术

技术编号:26688835 阅读:71 留言:0更新日期:2020-12-12 02:36
本发明专利技术实施例提供一种彩色滤光片基板制备方法及显示面板,所述方法包括:提供一衬底基板;在所述衬底基板的一侧设置彩色滤光层形成具有第一表面的第一基板;在所述第一基板的第一表面沉积遮光沉积层;采用掩模工艺对所述遮光沉积层进行曝光及显影形成遮光层,所述遮光层包括第一遮光层和第二遮光层,所述第一遮光层的高度大于所述第二遮光层的高度,相邻所述遮光层与相邻所述遮光层之间的彩色滤光层形成凹槽。本发明专利技术实施例通过设置一定高度的遮光层,以确保背光源发射出的光线不再从相邻子像素射出造成漏光而形成的混色及发白现象,从而确保屏下摄像头显示区域正常显示,能够有效消除大视角的漏光与混色问题,有助于提高终端的外观体验。

【技术实现步骤摘要】
一种彩色滤光片基板制备方法及显示面板
本专利技术实施例涉及显示
,尤其涉及一种彩色滤光片基板制备方法及显示面板。
技术介绍
随着通信技术的不断发展,智能手机、平板电脑及笔记本电脑等终端的大量普及应用,终端向着多样化、个性化的方向发展,日益成为人们在生活与工作中不可或缺的终端。如今,手机、平板电脑等终端成了人们日常随身携带的电子设备,终端的应用程序产业迅速发展,如游戏软件、视频软件、工作软件等,因此越来越多的大屏幕触摸屏智能手机出现,在终端显示
,全面屏逐渐成为当下发展的主要方向之一,为实现真正意义的全面屏,目前手机厂商在设置手机前置摄像头时多将其设置为屏下摄像头,在对现有技术的研究和实践过程中,本申请实施例的专利技术人发现,全面屏的前置摄像头即屏下摄像头方案中,需要在全面屏设置孔区从而使屏下摄像头正常工作,如图1所示,由于孔区没有棱镜片对光源角度进行收拢,故从0-180°的光线都是存在的,在彩色滤光片基板1中,由于遮光层13高度与子像素块12高度相差较小,光线可以从相邻子像素块12射出,孔区在大视角情况下由于空白像素和红(Red,R)绿(Green,G)蓝(Blue,B)三色子像素混色导致全面屏孔区位置在进行显示时存在明显的漏光现象,在大视角进行观察时能发现混色以及发白的问题,大视角漏光现象使孔区周边呈发白状态,导致实际使用体验不佳。
技术实现思路
本专利技术实施例提供一种彩色滤光片基板制备方法及显示面板,可以通过本专利技术实施例提供的显示面板,解决屏下摄像头显示区域的漏光与混色问题。第一方面,本专利技术实施例提供了一种彩色滤光片基板制备方法,所述方法包括:提供一衬底基板;在所述衬底基板的一侧设置彩色滤光层,形成具有第一表面的第一基板;在所述第一基板的第一表面沉积遮光沉积层;采用掩模工艺对所述遮光沉积层进行曝光及显影形成遮光层,所述遮光层包括第一遮光层和第二遮光层,所述第一遮光层的高度大于所述第二遮光层的高度,相邻所述遮光层与相邻所述遮光层之间的彩色滤光层形成凹槽,所述凹槽用于容置子像素块。在一些实施例中,采用掩模工艺对所述遮光沉积层进行曝光及显影形成遮光层,包括:采用掩模工艺对所述遮光沉积层进行曝光及显影,在所述屏下摄像头显示区域形成所述第一遮光层。在一些实施例中,所述第一遮光层高度为3μm。在一些实施例中,相邻所述遮光层与相邻所述遮光层之间的彩色滤光层形成凹槽,包括:相邻所述第一遮光层与相邻所述第一遮光层之间的彩色滤光层形成凹槽。在一些实施例中,采用掩模工艺对所述遮光沉积层进行曝光及显影形成遮光层,包括:采用掩模工艺对所述遮光沉积层进行曝光及显影,在所述显示区域形成所述第二遮光层。在一些实施例中,相邻所述遮光层与相邻所述遮光层之间的彩色滤光层形成凹槽,包括:相邻所述第二遮光层与相邻所述第二遮光层之间的彩色滤光层形成凹槽。在一些实施例中,相邻所述遮光层与相邻所述遮光层之间的彩色滤光层形成凹槽,包括:相邻的所述第一遮光层和所述第二遮光层以及相邻的所述第一遮光层和所述第二遮光层之间的彩色滤光层形成凹槽。在一些实施例中,所述第一遮光层的高度范围介于0.5μm至4μm之间,所述第二遮光层的高度范围介于0.1μm至0.5μm之间。在一些实施例中,所述子像素块为红色子像素块、蓝色子像素块、绿色子像素块或空白像素块。第二方面,本专利技术实施例提供了一种显示面板,其特征在于,包括:背光模组、阵列基板、液晶层和彩色滤光片基板,所述液晶层和彩膜基板依次设置在所述阵列基板的第一表面,所述彩色滤光片基板包括一具有第一表面的衬底基板以及形成于所述衬底基板的第一表面的彩色滤光层和遮光层,所述遮光层包括第一遮光层和第二遮光层,所述第一遮光层的高度大于所述第二遮光层的高度,所述第一遮光层对应设置在所述屏下摄像头显示区域,所述第二遮光层对应设置在所述显示区域,相邻所述遮光层与相邻所述遮光层之间的彩色滤光层形成凹槽,所述凹槽用于容置子像素块,所述阵列基板和所述彩色滤光片基板之间设置有框胶。本专利技术实施例提供了一种彩色滤光片基板制备方法及显示面板,通过在制备彩色滤光片基板过程中,采用掩模工艺使屏下摄像头显示区域的遮光层高度增加,通过设置一定高度的遮光层,以确保背光源发射出的光线不再从相邻子像素射出造成漏光而形成的混色及发白现象,从而确保屏下摄像头显示区域正常显示,能够有效消除大视角的漏光与混色问题,有助于提高终端的外观体验。附图说明为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,下面描述中的附图仅仅是本申请实施例的一些实施例,对于本领域技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例提供的显示面板的一种结构示意图。图2为本专利技术实施例提供的显示面板的一种结构示意图。图3为本专利技术实施例提供的彩色滤光片基板制备方法的一种流程示意图。图4为本专利技术实施例提供的终端的一种结构示意图。具体实施方式下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。在本申请的描述中,需要理解的是,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多所述特征。在本申请的描述中,“”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开,下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然,它们仅仅为示例,并且目的不在于限制本申请。此外,本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母,这种重复是为了简化和清楚的目的,其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外,本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子,但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。在上述实施例中,对各个实施例的描述都各有侧重,某个实施例中没有详述的部分,可以参见其他实施例的相关描述。本专利技术实施例提供一种彩色滤光片基板制备方法及显示面板,该显示面板可以配合终端使用,如智能手机、平板电脑、笔记本电脑或个人计算机等。以下对该彩色滤光片基板制备方法及显示面板进行详细说明。需说明的是,以下实施例的描述顺序不作为对实施例优选顺序的限定。下面结合附图和具体实施方式对本专利技术予以详细描述,请参阅图1至图4。请参阅图2,图2为本申请实施例提供的显示面板的屏下摄像头显示区域局部示意图,本专利技术实施例提供一种显示面板,所述显示面板包括:背光模组4、阵列基板3、液晶层2和彩色滤本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种彩色滤光片基板制备方法,其特征在于,包括:/n提供一衬底基板;/n在所述衬底基板的一侧设置彩色滤光层,形成具有第一表面的第一基板;/n在所述第一基板的第一表面沉积遮光沉积层;/n采用掩模工艺对所述遮光沉积层进行曝光及显影形成遮光层,所述遮光层包括第一遮光层和第二遮光层,所述第一遮光层的高度大于所述第二遮光层的高度,相邻所述遮光层与相邻所述遮光层之间的彩色滤光层形成凹槽,所述凹槽用于容置子像素块。/n

【技术特征摘要】
1.一种彩色滤光片基板制备方法,其特征在于,包括:
提供一衬底基板;
在所述衬底基板的一侧设置彩色滤光层,形成具有第一表面的第一基板;
在所述第一基板的第一表面沉积遮光沉积层;
采用掩模工艺对所述遮光沉积层进行曝光及显影形成遮光层,所述遮光层包括第一遮光层和第二遮光层,所述第一遮光层的高度大于所述第二遮光层的高度,相邻所述遮光层与相邻所述遮光层之间的彩色滤光层形成凹槽,所述凹槽用于容置子像素块。


2.根据权利要求1所述的彩色滤光片基板制备方法,其特征在于,采用掩模工艺对所述遮光沉积层进行曝光及显影形成遮光层,包括:
采用掩模工艺对所述遮光沉积层进行曝光及显影,在所述屏下摄像头显示区域形成所述第一遮光层。


3.根据权利要求2所述的彩色滤光片基板制备方法,其特征在于,所述第一遮光层高度为3μm。


4.根据权利要求1所述的彩色滤光片基板制备方法,其特征在于,相邻所述遮光层与相邻所述遮光层之间的彩色滤光层形成凹槽,包括:
相邻所述第一遮光层与相邻所述第一遮光层之间的彩色滤光层形成凹槽。


5.根据权利要求1所述的彩色滤光片基板制备方法,其特征在于,采用掩模工艺对所述遮光沉积层进行曝光及显影形成遮光层,包括:
采用掩模工艺对所述遮光沉积层进行曝光及显影,在所述显示区域形成所述第二遮光层。


6.根据权利要求1所述的彩色滤光片基板制备方法,其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员:罗光跃
申请(专利权)人:捷开通讯深圳有限公司
类型:发明
国别省市:广东;44

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