确定投影系统中微镜的偏转技术方案

本发明专利技术涉及一种具有光源（２）、尤其是具有激光光源的投影系统，其中从所述光源（２）出发通过偏摆镜（１）产生投影光束（６）。根据本发明专利技术，设置至少一个被布置于所述投影光束（６）的边缘区中的光探测器（３）来用于检测所述偏摆镜（１）的位置。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
具有光源（２）、尤其是具有激光光源的投影系统，其中从所述光源（２）出发通过偏摆镜（１）产生投影光束（６），其特征在于：至少一个被布置于所述投影光束（６）的边缘区中的光探测器（３），用于检测所述偏摆镜（１）的位置。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：G博克，G施雷普菲尔，M维尔纳，
申请(专利权)人：西门子公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]