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一种匹配不同授精方式的辅助生殖精液体外处理装置制造方法及图纸

技术编号:26666462 阅读:63 留言:0更新日期:2020-12-11 18:14
本实用新型专利技术公开了一种匹配不同授精方式的辅助生殖精液体外处理装置,包括处理部,所述的处理部包括至少三个处理单元,且相邻两个所述的处理单元之间可拆卸地连接;所述处理单元的皿体的上表面上开设有水平横槽,所述的水平横槽沿槽长方向的两端分别连通有第一凹槽和第二凹槽,各所述的处理单元的水平横槽的槽长不同;两个所述的加热部分别位于所述处理部的两端,所述的加热部包括电热片,一个所述的电热片位于所述第一凹槽的下方并覆盖所有的第一凹槽的槽底,另一个所述的电热片位于所述的第二凹槽的下方并覆盖所有的第二凹槽的槽底;且所述第一凹槽下方的电热片的加热温度小于所述第二凹槽下方的电热片的加热温度。

【技术实现步骤摘要】
一种匹配不同授精方式的辅助生殖精液体外处理装置
本申请涉及辅助生殖领域,尤其涉及一种匹配不同授精方式的辅助生殖精液体外处理装置。
技术介绍
辅助生殖(assistreproductivetechnology,ART)过程中的受精方式大致分为宫腔内人工受精(intra-uterineinsemination,IUI)、常规体外受精(invitrofertilization,IVF)以及卵胞浆内单精子显微注射(intracytoplasmicsperminjection,ICSI),不同的受精方式对精子有不同的要求,根据《世界卫生组织人类精液处理实验室手册》第5版及人民卫生出版社出版的《体外受精-胚胎移植实验室技术》,IUI需控制注入宫腔内的活动精子数>1000万条,IVF需要单个卵子周围的活动精子数至少>5000条,ICSI只需要有1个精子与单个卵子进行结合。ART体外受精时,筛选获得高质量精子是成功的关键,同时也是确保出生子代健康的前提。密度梯度离心(densitygradientcentrifugation,DGC)或上游本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种匹配不同授精方式的辅助生殖精液体外处理装置,其特征在于:所述的装置包括处理部,所述的处理部包括至少三个处理单元,且相邻两个所述的处理单元之间通过连接组件可拆卸地连接;/n所述的处理单元包括皿体,所述皿体的上表面上开设有水平横槽,所述的水平横槽沿槽长方向的两端分别设有第一凹槽和第二凹槽,且所述的第一凹槽和所述的第二凹槽分别与同一皿体上的所述水平横槽的两端连通,各所述的处理单元的水平横槽的槽长不同;/n所述的装置还包括两个分别给所述第一凹槽和所述第二凹槽加热的加热部,两个所述的加热部分别位于所述处理部的两端,所述的加热部包括电热片,一个所述的电热片位于所述第一凹槽的下方并覆盖所有的第一凹槽...

【技术特征摘要】
1.一种匹配不同授精方式的辅助生殖精液体外处理装置,其特征在于:所述的装置包括处理部,所述的处理部包括至少三个处理单元,且相邻两个所述的处理单元之间通过连接组件可拆卸地连接;
所述的处理单元包括皿体,所述皿体的上表面上开设有水平横槽,所述的水平横槽沿槽长方向的两端分别设有第一凹槽和第二凹槽,且所述的第一凹槽和所述的第二凹槽分别与同一皿体上的所述水平横槽的两端连通,各所述的处理单元的水平横槽的槽长不同;
所述的装置还包括两个分别给所述第一凹槽和所述第二凹槽加热的加热部,两个所述的加热部分别位于所述处理部的两端,所述的加热部包括电热片,一个所述的电热片位于所述第一凹槽的下方并覆盖所有的第一凹槽的槽底,另一个所述的电热片位于所述的第二凹槽的下方并覆盖所有的第二凹槽的槽底;
所述的加热部还包括开关、温度控制器和电源,所述的电热片分别通过导线与所述的开关、所述的温度控制器和所述的电源串联;
所述的第一凹槽的下方的电热片的加热温度为第一温度,所述的第二凹槽的下方的电热片的加热温度为第二温度,且所述的第一温度小于所述的第二温度。


2.如权利要求1所述的一种匹配不同授精方式的辅助生殖精液体外处理装置,其特征在于:所述的处理装置包括三个所述的处理单元。


3.如权利要求2所述的一种匹配不同授精方式的辅助生殖精液体外处理装置,其特征在于:三个所述的处理单元的水平横槽的槽长分别是20mm、40mm、60mm。
...

【专利技术属性】
技术研发人员:饶金鹏雷勇邱枫金敏金帆
申请(专利权)人:浙江大学
类型:新型
国别省市:浙江;33

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