一种高效提取集成电路版图光掩膜中心线的设计方法技术

本发明专利技术公开一种高效提取集成电路版图光掩膜中心线的设计方法。本发明专利技术方法准确率高，鲁棒性好，且对与多种类型的样例具有通用性；采用的核心算法是Delaunay逐点插入法，原理简单，占用内存少，容易完成，执行效率高。同时，由于在对三角网数据处理时中采用了二维vector，空间复杂度可以表示为O(N

【技术实现步骤摘要】
一种高效提取集成电路版图光掩膜中心线的设计方法
本专利技术涉及了集成电路版图涉及领域，尤其是提出了一种高效提取集成电路版图光掩膜中心线的设计方法。
技术介绍
光掩膜的制作是集成电路版图设计中的一个重要环节，在此环节当中通常需要对版图进行光学邻近校正(opc校正)，作用是弥补衍射造成的图像错误。因此在版图光掩膜上的各种连接线(path线)图形通常会被校正成不规则的多边形，还原集成电路版图原本的连接线存在一定难度和误差。为此，本专利技术能够计算获取版图光掩膜的中心点列，配合已知的线宽，即可实现高效还原集成电路版图各种连接线。
技术实现思路
为了解决
技术介绍
中的问题，本专利技术提出了一种高效提取集成电路版图光掩膜中心线的设计方法，能高效还原集成电路版图光掩膜中心点列并具有良好稳定性。本专利技术的技术方案包括Delaunay三角网构建和光掩膜中心点列还原：所述的Delaunay三角网构建具体采用以下步骤：步骤(1)、从经opc校正后的集成电路版图光掩膜样例文件中获取所有离散点坐标数据；本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高效提取集成电路版图光掩膜中心线的设计方法，其特征在于包括Delaunay三角网构建和光掩膜中心点列还原：/n所述的Delaunay三角网构建具体采用以下步骤：/n步骤(1)、从经opc校正后的集成电路版图光掩膜样例文件中获取所有离散点坐标数据；/n步骤(2)、构建版图光掩膜凸壳/n2.1集成电路版图光掩膜的各个离散点的坐标为(x,y)，对离散点进行预处理：/n根据离散点的x,y,x+y,x-y四项值，筛选出上述四项值中任意一项为最大值或最小值的点，然后按照逆时针的顺序相连，构成初始凸壳；将构成上述初始凸壳所有离散点存储到凸壳链表中；/n2.2选取该版图光掩膜凸壳链表中任意两个相邻的点...

【技术特征摘要】
1.一种高效提取集成电路版图光掩膜中心线的设计方法，其特征在于包括Delaunay三角网构建和光掩膜中心点列还原：
所述的Delaunay三角网构建具体采用以下步骤：
步骤(1)、从经opc校正后的集成电路版图光掩膜样例文件中获取所有离散点坐标数据；
步骤(2)、构建版图光掩膜凸壳
2.1集成电路版图光掩膜的各个离散点的坐标为(x,y)，对离散点进行预处理：
根据离散点的x,y,x+y,x-y四项值，筛选出上述四项值中任意一项为最大值或最小值的点，然后按照逆时针的顺序相连，构成初始凸壳；将构成上述初始凸壳所有离散点存储到凸壳链表中；
2.2选取该版图光掩膜凸壳链表中任意两个相邻的点Pi和Pi+1，在步骤2.1剩余的离散点中找出与点Pi和Pi+1距离最大的点Po，其中Po位于点Pi和Pi+1构成的有向线段PiPi+1的右侧；判断点Po是否位于点Pi和Pi+1构成的线段上，若是则将该点插入到Pi和Pi+1中间，完成凸壳修正，并加入到凸壳链表中；若否则不插入，并累计没有插入点的次数；
2.3重复2.1-2.2，直到没有插入点的累计次数等于凸壳链表中所有点的总数，则完成版图光掩膜凸壳的建立；
步骤(3)、建立三角网
按照顺时针或逆时针方向，依次对版图光掩膜凸壳内所有四边形利用局部优化算法(LOP)进行判决修正，完成对三角网的建立；
3.1随机选取版图光掩膜凸壳内的一个离散点Pj与构成凸壳的各点相连，形成放射状的图形；
3.2局部优化算法(LOP)判决修正
3.2.1放射状的图形内随机选取两个相邻三角形(即两个具有公共边的三角形)，进而形成四边形；
3.2.2对上述四边形的其中一个三角形做其外接圆；判断上述四边形的第四个顶点是否在该三角形的外接圆内；如果该顶点不在，则满足空外接圆特性，无需修正；如果该顶点在其中，则选取四边形另一对角线作为两个新三角形的公共边，使其满足空外接圆特性，完成放射状的图形修正，得到初始三角网；
3.3随机选取版图光掩膜凸壳内第二个离散点Pj+1插入初始三角网内，在初始三角网中找出所有外接圆包含该离散点Pj+1的三角形，提取顶点，进而将离散点Pj+1与上述顶点相连后构建修正后的放射状的图形，重复步骤3.2，完成初始三角网修正；
3.4版图光掩膜凸壳内所有剩余离散点依次重复步骤3.3，最终得到所需的Delaunay三角网，实现对集成电路版图光掩膜图形结构的三角剖分；
所述的光掩膜中心点列还原具体采用以下步骤：
步骤(1)、判断集成电路版图光掩膜样例文件类型为单通道还是多岔路；
步骤(2)、若集成电路版图光掩膜样例文件类型为单通道，进行单通道中心点列提取；具体是：
首先根据已经获得的版图光掩膜样例文件起点终点坐标点序号，将各个坐标点分为两组，也就是单通道多边形的两组边，分别用两个数组表示；
版图光掩膜样例文件引入Delaunay三角网，获取所有跨越两个数组的Delaunay三角网上的线，并求出该线的中点，构建中心点列；
步骤(3)、若为集成电路版图光掩膜样例文件类型为多岔路，则进行多岔路中心点列提取；具体是：
版图光掩膜样例文件所有离散点按顺序连接建立多边形；
版图光掩膜样例文件引入Delaunay三角网，对所有三角形的三个边求中点，然后对在多边形范围以外的点进行过滤剔除，剩余的中点即求得集成电路版图光掩膜的中心点列；
步骤(4)、对求解后得到的版图光掩膜中心点列进行排序，其中若是多岔路类型的中心点列进行分段输出；
由于Delaunay三角网中的相邻三角形的边会重合，以此需要对重复的中点进行合并，由于中心点列和版图轮廓并不完全匹配，因此需要对产生的中点进行排序；
步骤(5)、对步骤(4)排序处理后的版图光掩膜中心点列进行聚集点、平行点进行剔除，使得最小化中心点列的数量，以满足工程上集成电路版图制...

【专利技术属性】
技术研发人员：何志伟，何松涛，陈志民，叶青青，
申请(专利权)人：杭州电子科技大学，
类型：发明
国别省市：浙江;33