【技术实现步骤摘要】
基于动态散射系统的在探测面积受限情况下的成像方法
本专利技术涉及基于散射系统的成像方法,特别是一种基于动态散射系统的在探测面积受限情况下的成像方法。
技术介绍
散射成像是一种新兴的成像方式。它可以在某些传统成像无法应用的情况下对目标进行成像。从上个世纪末开始,已经出现了许多散射成像方法,比如时间门控法,波前整形技术,透射矩阵测量法,相位共轭技术,数字全息技术,反褶积法和散斑自相关方法等。其中,散斑自相关方法具有结构简单,响应快,以及非侵入等优点,具有很好的应用前景。散斑自相关方法是基于韦纳辛钦定理和散射介质的记忆效应,来重建目标大小的方法。其原理是:在散射介质的记忆效应范围内的目标,目标(O)上的任意点在散射介质后形成的散斑(PSF)具有平移不变性。当目标被非相干光照明时,其透过散射介质之后形成的散斑(I)可以看成是目标上所有点产生的散斑的叠加,也可以表达成目标和系统的点扩散函数的卷积:I=O*PSF。由于点扩散函数的自相关是一个类尖峰函数,所以散斑图案的自相关近似等价于目标自相关,根据韦纳辛钦定理,目标的功率谱等于 ...
【技术保护点】
1.一种基于动态散射系统的在探测面积受限情况下的成像方法,其特征在于,包括以下步骤:/n步骤1、测量散射介质的退相干时间,具体是:/nS1.1在动态散射介质(1)的一侧放置点光源,另一侧放置探测器(2),获得一幅散斑作为参考点扩散函数;/nS1.2采样时序上多张点扩散函数,并计算每个点扩散函数与参考点扩散函数的相关系数;/nS1.3选择相关系数等于0.5时的采样时刻与参考点扩散函数的采样时刻之间的时间间隔的两倍作为退相干时间;/n步骤2、选择探测器(2)的曝光时间,具体是:/n将待测物体放置在动态散射系统的视场内,选择照明光源为空间非相干窄带光源,调整曝光时间,使信号光强最 ...
【技术特征摘要】
1.一种基于动态散射系统的在探测面积受限情况下的成像方法,其特征在于,包括以下步骤:
步骤1、测量散射介质的退相干时间,具体是:
S1.1在动态散射介质(1)的一侧放置点光源,另一侧放置探测器(2),获得一幅散斑作为参考点扩散函数;
S1.2采样时序上多张点扩散函数,并计算每个点扩散函数与参考点扩散函数的相关系数;
S1.3选择相关系数等于0.5时的采样时刻与参考点扩散函数的采样时刻之间的时间间隔的两倍作为退相干时间;
步骤2、选择探测器(2)的曝光时间,具体是:
将待测物体放置在动态散射系统的视场内,选择照明光源为空间非相干窄带光源,调整曝光时间,使信号光强最大值接近但不超过探测器的满阱容量;如果此时曝光时间没有足够小于退相干时间,可以缩短曝光时间,但光强最大值不少于探测器满阱容量的25%;
步骤3、选择采样时间间隔,具体是:
采样时间间隔以大于两倍的退相干时间为宜,以保证不同采样时刻的点扩散函数完全不相关;
步骤...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘红林,王歆,陈美君,韩申生,
申请(专利权)人:中国科学院上海光学精密机械研究所,
类型:发明
国别省市:上海;31
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。