一种基于涡旋干涉场的新型呼吸气体检测处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种基于涡旋干涉场的新型呼吸气体检测处理装置，包括机械外壳，所述机械外壳的内部设置有产生涡旋光束的光处理机构、用于改变涡旋光束路径和数量的分光装置和用于检测呼吸气体的检测装置。本发明专利技术所述的一种基于涡旋干涉场的新型呼吸气体检测处理装置，利用干涉光路高精度的特点，通过微小病毒分子影响相干光束，其干涉条纹会发生明显变化这一性质，检测出空气中非正常气体的存在状态，从而达到检测的效果，而且利用光学原理检测，响应时间快，检测的精度高，检测成本比较低，能大规模生产，还具有无机械运动部件、系统结构简单、灵敏度极高、易于集成、对人体无伤害、一致性高、系统稳定、功能易于拓展的特点。

【技术实现步骤摘要】
一种基于涡旋干涉场的新型呼吸气体检测处理装置
本专利技术涉及光学
，特别涉及一种基于涡旋干涉场的新型呼吸气体检测处理装置。
技术介绍
光场调控技术是近些年发展起来的新兴技术，尤其针对矢量光场的调控技术更是尤为突出。通过光场调控技术证明了光不仅具有自旋角动量，同时也具有轨道角动量。利用光场的自旋角动量科研人员在原子磁强计、原子陀螺仪等领域有着广泛的应用。自1989年，涡旋光被首次提出后，很快被人们系统的研究，迅速发展成了现代光学研究中的一个重要的分支。因其光学角动量和动力学行为，使其得到广泛的应用。首先，光旋涡被应用到光学操控技术，于此具有无接触、无损伤、可靠性高、体积小等特点。在先技术中，存在一种呼吸气体分析仪装置，参见中国专利技术专“一种基于双波长背景气体扣除法的呼吸分析仪”，专利申请号：201910422765.7。以及一种呼出气体检测系统，参见中国专利技术专利“基于气体传感器的呼出气检测系统”，专利申请号：201910410089.1。在先技术具有一定特点，但是，此类在先技术存在本质不足，1)检测装置体积庞大，作为大本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基于涡旋干涉场的新型呼吸气体检测处理装置，其特征在于；包括机械外壳(18)，所述机械外壳(18)的内部设置有产生涡旋光束的光处理机构、用于改变涡旋光束路径和数量的分光装置和用于检测呼吸气体的检测装置；/n所述光处理机构包括紫外光源(1)、用于处理光线的发射光路和用于产生涡旋光束的光场重构系统(4)，所述光场重构系统(4)包括一号透镜(401)、二号透镜(402)和可调光阑(403)，所述一号透镜(401)和二号透镜(402)的焦距相同，所述可调光阑(403)位于一号透镜(401)和二号透镜(402)的焦点处。/n

【技术特征摘要】
1.一种基于涡旋干涉场的新型呼吸气体检测处理装置，其特征在于；包括机械外壳(18)，所述机械外壳(18)的内部设置有产生涡旋光束的光处理机构、用于改变涡旋光束路径和数量的分光装置和用于检测呼吸气体的检测装置；
所述光处理机构包括紫外光源(1)、用于处理光线的发射光路和用于产生涡旋光束的光场重构系统(4)，所述光场重构系统(4)包括一号透镜(401)、二号透镜(402)和可调光阑(403)，所述一号透镜(401)和二号透镜(402)的焦距相同，所述可调光阑(403)位于一号透镜(401)和二号透镜(402)的焦点处。


2.根据权利要求1所述的一种基于涡旋干涉场的新型呼吸气体检测处理装置，其特征在于：所述发射光路包括光束整形器(2)和相位调控元件(3)，所述光束整形器(2)采用平凸透镜、平凹透镜和双凸透镜中的一种。


3.根据权利要求2所述的一种基于涡旋干涉场的新型呼吸气体检测处理装置，其特征在于：所述分光装置包括一号反射镜(5)、分光镜(6)、二号反射镜(7)和三号反射镜(10)；
所述一号反射镜(5)：用于将光场重构系统(4)构建的涡旋光束反射到分光镜(6)中；
所述分光镜(6)：将光场重构系统(4)构建的涡旋光束分成两组方向不同的涡旋光束；
所述二号反射镜(7)和三号反射镜(10)：用于改变分光镜(6)分离后的两组涡旋光束的运动方向。


4.根据权利要求3所述的一种基于涡旋干涉...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘帅，
申请(专利权)人：苏州远正科学仪器有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32