全折射式投影物镜制造技术

本发明专利技术提出一种全折射式投影物镜，用于将物平面内的图案投射到像平面内，所述投影物镜系统由２５片光学镜片组成，从物面到像面依次排列有五个镜片组，其中，第一和第三镜片组具有负光焦度，第二、第四和第五镜片组具有正光焦度，本发明专利技术可以控制物方和像方远心度在３毫弧度以内，提高了光刻不同层之间的互联性能，另外减少镜片使用的数量，且使用同一材料的镜片，降低了制造成本和调试的难度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于半导体光刻以及照相制版的投影光学系统，且特别涉 及一种全折射式投影物镜。
技术介绍
随着投影光刻技术的发展，光刻机的投影光学系统性能逐步提高，目前光 刻机已成功应用于亚微米和深亚微米分辨率的集成电路制造领域。用光刻机制 造集成电路芯片时要求投影物镜具有较高的分辨率，以实现高集成度芯片的制 备。为了满足对投影光物镜较高分辨率的要求，需要提高投影物镜的像方数值孔径(NA)。然而，采用大数值孔径的投影物镜必须使用更多的镜片数量或引入非球面 或引进多种材料来校正投影物镜的像差。例如在美国专利US6 560 031 (公开日2003年5月6日)中，描述了数值孔径NA二0.7,照明波长为193.3nm—的情况下 的30块镜片，包含7块氟化钙的两种材料的全折射系统的技术方案。在另一件 美国专利US6 954 316 (公开日2005年10月11日)中，描述了在数值孔径 NA-0.75，照明波长为193.3nm的情况下使用30块常规镜片加1块非球面镜片、 包含3块氟化钙、两种材料的全折射系统来满足成像质量的技术方案。在上述专利中，两种投影光学系统的镜片数量太多，并采用了两种材本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种全折射式投影物镜，用于将物平面内的图案投射到像平面内，所述投影物镜从物面到像面依次排列有五个镜片组，其特征在于：　第一镜片组（Ｇ１）具有负光焦度，第二镜片组（Ｇ２）具有正光焦度，第三镜片组（Ｇ３）具有负光焦度，第四镜片组（Ｇ４）具有正光焦度，第五镜片组（Ｇ５）具有正光焦度，所述的全折射式投影物镜系统由２５片光学镜片组成，且其中第一镜片组（Ｇ１）包含两片非球面镜片，第五镜片组（Ｇ５）至少包含连续三片月凸透镜片。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：孙文凤，储兆祥，
申请(专利权)人：上海微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]