一种光刻胶组合物及其应用制造技术

本发明专利技术涉及一种光刻胶组合物及其应用，所述光刻胶组合物包括如下组分：酚醛树脂、光敏剂和溶剂；所述酚醛树脂具有式I所示结构。该酚醛树脂包括2,5‑二甲基苯酚和3,5‑二甲基苯酚这两个结构单元，该特定结构的酚醛树脂应用于光刻胶组合物中，能够使光刻胶具有涂布性能好、分辨率高、感光速率快、耐高温和耐蚀刻性能优越的特点。

【技术实现步骤摘要】
一种光刻胶组合物及其应用
本专利技术涉及半导体加工
，尤其涉及一种光刻胶组合物及其应用。
技术介绍
随着半导体行业的迅速发展，产品对光刻胶的分辨率要求越来越高，芯片和晶片的制作也从6inch转向8～12inch。应用目前工艺技术来提高光刻胶的使用分辨率主要有三种方案：第一种是缩短曝光波长，从435nm转向365nm；第二种是提高干刻机的NA值来提高光刻胶的分辨率；研究最为广泛的第三方案是从原材料的配方的角度出发，选择新的树脂和光敏剂来实现光刻胶的高分辨率。从已知的具有酚羟基基团的酚醛树脂和光敏剂组合物可以用来做光刻胶，但在感度、分辨率、耐热性等方面不能做到同时兼顾。为提高感度，一般采用减少光刻胶中光敏剂来实现，但是这样做会牺牲DOF宽容度。光刻胶的耐热性一般通过增加树脂分子量来实现，但是会牺牲光刻胶的分辨率。所以，从传统的配方设计上来看，想要同时兼顾光刻胶的感度、分辨率和耐热性必然需要开辟一条新路径。CN111381445A公开了一种OLEDarray制程用正性光刻胶，该正性光刻胶包括混合酚醛树脂、光敏剂、溶剂、添加剂和流本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光刻胶组合物，其特征在于，所述光刻胶组合物包括如下组分：酚醛树脂、光敏剂和溶剂；/n所述酚醛树脂具有式I所示结构：/n

【技术特征摘要】
1.一种光刻胶组合物，其特征在于，所述光刻胶组合物包括如下组分：酚醛树脂、光敏剂和溶剂；
所述酚醛树脂具有式I所示结构：



式I中，所述R和R'各自独立地选自甲基、乙基、氢或羟基中的任意一种；
所述x和y各自独立地为1～500的整数。


2.根据权利要求1所述的光刻胶组合物，其特征在于，x/(x+y)为15～75％。


3.根据权利要求1或2所述的光刻胶组合物，其特征在于，所述酚醛树脂的重均分子量为2000～7000。


4.根据权利要求1-3中任一项所述的光刻胶组合物，其特征在于，所述酚醛树脂的分子量分布为1～2。


5.根据权利要求1-4中任一项所述的光刻胶组合物，其特征在于，所述光敏剂具有式Ⅱ所示的结构：



式Ⅱ中，所述R1、R2、R3和R4各自独立地选自氢、甲基或中的任意一种，且R1、R2、R3和R4中至少有一个选自其中，波浪线标记处代表基团的连接键；
优选地，以所述酚醛树脂的含量为100重...

【专利技术属性】
技术研发人员：卞玉桂，杨彦，姚国强，向文胜，赵建龙，张兵，谢立洋，朱坤，陆兰，顾群艳，
申请(专利权)人：江苏艾森半导体材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32